JP2012081428A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】易酸化性の金属を含む液状体を先端部分から吐出するノズルを有する塗布部と、当該先端部分が基板上を通過するように基板と前記ノズルとを相対移動させる相対駆動部とを備え、ノズルのうち少なくとも先端部分には、液状体との間の親和性が液状体同士の親和性よりも弱くなるように形成された親和性調整部が設けられている。
【選択図】図2
Description
この場合、親和性調整部がノズルのうち先端部分と、当該先端部分に隣接する部分とを含む部分に設けられているため、液状体がノズルの先端部分から当該先端部分に隣接する部分へ伝ってしまうのを防ぐことができる。
この場合、ヒドラジンとの間の親和性がヒドラジンと基板との間の親和性よりも弱くなるように親和性調整部が形成されているため、ヒドラジンを含む液状体が先端部分の親和性調整部よりも基板に定着しやすくなる。これにより、基板上に液状体をムラ無く塗布することが可能となる。
この場合、親和性調整部としてチタン及びチタン合金のうち少なくとも一方を用いて形成されているため、液状体が基板に定着しやすくなる。これにより、基板上に液状体をムラ無く塗布することが可能となる。
この場合、モリブデンを用いて形成された基板に液状体が定着しやすくなるため、基板上に液状体をムラ無く塗布することが可能となる。
この場合、金属として、銅、インジウム、ガリウム及びセレンのうち少なくとも1つを含む液状体が基板に定着しやすくなるため、基板上に液状体をムラ無く塗布することが可能となる。
この場合、塗布部によって液状体の塗布される塗布空間及び液状体の塗布された基板の塗布後移動空間のうち少なくとも一方の空間を囲むチャンバにより、液状体の配置される空間が囲まれるため、液状体の劣化を防ぐことができる。
この場合、チャンバで囲まれた空間に不活性ガスが供給されるため、当該チャンバに囲まれた空間において液状体の劣化をより確実に防ぐことができる。
この場合、塗布部が先端部分に対向する吐出領域に液状体を吐出するように形成されており、相対駆動部が吐出領域を通過するように基板を搬送する基板搬送部を有するため、例えばノズルを駆動させずに基板を搬送することにより、基板上に液状体をムラ無く塗布することが可能となる。
この場合、塗布部が先端部分に対向する吐出領域に液状体を吐出するように形成されており、相対駆動部が吐出領域が基板上を走査するようにノズルを駆動するノズル駆動部を有するため、例えば基板を駆動させずにノズルを駆動することにより、基板上に液状体をムラ無く塗布することが可能となる。また、相対移動部が基板搬送部及びノズル駆動部の両方を備える構成とすることもできる。この場合、相対移動としては、例えば基板を移動させる、ノズルを移動させる、基板及びノズルの両方を移動させる、といった態様を取りうる。
以下の各図において、本実施形態に係る塗布装置の構成を説明するにあたり、表記の簡単のため、XYZ座標系を用いて図中の方向を説明する。当該XYZ座標系においては、図中左右方向をX方向と表記し、平面視でX方向に直交する方向をY方向と表記する。X方向軸及びY方向軸を含む平面に垂直な方向はZ方向と表記する。X方向、Y方向及びZ方向のそれぞれは、図中の矢印の方向が+方向であり、矢印の方向とは反対の方向が−方向であるものとして説明する。
図1は、本実施形態に係る塗布装置CTRの構成を示す概略図である。
図1に示すように、塗布装置CTRは、ロードロック装置LL、第一チャンバ装置CB1、第二チャンバ装置CB2を備えている。ロードロック装置LL、第一チャンバ装置CB1及び第二チャンバ装置CB2は、例えばX方向に直列に接続されている。塗布装置CTRは、基板S上に液状体を塗布する装置である。本実施形態では、基板Sとして、例えばモリブデンなどの金属を用いて形成された板状部材が採用されている。
ロードロック装置LLは、収容室RML、基板搬入口ENL及び基板搬出口EXLを有している。基板搬入口ENLは、収容室RMLの−X側の壁部に形成されており、例えば外部に接続されている。基板搬出口EXLは、収容室RMLの+X側の壁部に形成されており、第一接続室JC1に接続されている。基板搬入口ENL及び基板搬出口EXLは、基板Sが通過可能な寸法に形成されている。
第一チャンバ装置CB1は、収容室RM1、基板搬入口EN1及び基板搬出口EX1を有している。収容室RM1は、内部に基板Sを収容可能に設けられている。基板搬入口EN1及び基板搬出口EX1は、収容室RM1に形成された開口部である。基板搬入口EN1は、例えば収容室RM1の−X側端部に形成されており、第一接続室JC1に接続されている。基板搬出口EX1は、例えば収容室RM1の+X側端部に形成されており、第二接続室JC2に接続されている。基板搬入口EN1及び基板搬出口EX1は、基板Sが通過可能な寸法に形成されている。
図1に戻って、第二チャンバ装置CB2は、収容室RM2、基板搬入口EN2及び基板搬出口EX2を有している。収容室RM2は、内部に基板Sを収容可能に設けられている。なお、収容室RM2は、基板Sの塗布後移動空間R2の一部となる。基板搬入口EN2及び基板搬出口EX2は、収容室RM2に形成された開口部である。基板搬入口EN2は、例えば収容室RM2の−X側端部に形成されており、第一接続室JC2に接続されている。基板搬出口EX2は、例えば収容室RM2の+X側端部に形成されており、外部に接続されている。基板搬入口EN2及び基板搬出口EX2は、基板Sが通過可能な寸法に形成されている。
環境調整部ACは、酸素濃度センサ31、圧力センサ32、不活性ガス供給部33、排気部34を有している。
酸素濃度センサ31及び圧力センサ32は、第一チャンバ装置CB1の収容室RM1及び第二チャンバ装置CB2の収容室RM2にそれぞれ1つずつ設けられている。酸素濃度センサ31は、収容室RM1及び収容室RM2の酸素濃度を検出し、検出結果を制御装置CONTに送信する。圧力センサ32は、収容室RM1及び収容室RM2の圧力を検出し、検出結果を制御装置CONTに送信する。図1においては、酸素濃度センサ31及び圧力センサ32は、収容室RM1及び収容室RM2の天井部分に取り付けられた構成が示されているが、他の部分に設けられている構成であっても構わない。
制御装置CONTは、塗布装置CTRを統括的に制御する部分である。具体的には、制御装置CONTは、ロードロック装置LL、第一チャンバ装置CB1、第二チャンバ装置CB2及び環境調整部ACのそれぞれの動作を制御する。例えば、シャッタ部材SHL、SH1及びSH2の開閉動作、基板駆動機構SAL、SA1及びSA2の動作、塗布部CTによる塗布動作、加熱部HTによる加熱動作、環境調整部ACによる調整動作などを制御する。
次に、本実施形態に係る塗布動作を説明する。本実施形態では、上記のように構成された塗布装置CTRを用いて基板S上に塗布膜を形成する。塗布装置CTRの各部で行われる動作は、制御装置CONTによって制御される。
例えば、上記実施形態では、スリットノズルNZの全体が表1に示す(1)〜(8)の少なくとも1種類の材料を用いて構成された例を示したが、これに限られることは無い。
初期状態では、軸部SF1にフィルム基板Fが巻きつけられている。制御装置CONTは、搬入側シャッタ部SH1及び搬出側シャッタ部SH2を開いた状態とした後、不活性ガス供給部133による供給量及び排気部134による排気量を適宜調整し、収容室RMA、収容室RMB及び収容室RMCの環境を調整する。
Claims (12)
- 先端部分に設けられた吐出部から易酸化性の金属を含む液状体を吐出するノズルを有する塗布部と、
前記先端部分と基板とを対向させた状態で前記基板と前記ノズルとを相対移動させる相対駆動部と
を備え、
前記ノズルのうち少なくとも前記先端部分には、前記液状体との間の親和性が前記液状体同士の親和性よりも弱くなるように形成された親和性調整部が設けられている
塗布装置。 - 前記親和性調整部は、前記ノズルのうち、前記先端部分と、前記先端部分に隣接する部分と、を含む部分に設けられている
請求項1に記載の塗布装置。 - 前記液状体は、ヒドラジンを含み、
前記親和性調整部は、前記ヒドラジンとの間の親和性が前記ヒドラジン同士の親和性よりも弱くなるように形成されている
請求項1又は請求項2に記載の塗布装置。 - 前記親和性調整部は、前記ヒドラジンとの間の親和性が前記ヒドラジンと前記基板との間の親和性よりも弱くなるように形成されている
請求項3に記載の塗布装置。 - 前記親和性調整部は、チタン及びチタン合金のうち少なくとも一方を用いて形成されている
請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記基板は、モリブデンを用いて形成されている
請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記金属は、銅、インジウム、ガリウム及びセレンのうち少なくとも1つを含む
ことを特徴とする請求項1から請求項6のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記塗布部によって前記液状体の塗布される塗布空間及び前記液状体の塗布された前記基板の塗布後移動空間のうち少なくとも一方の空間を囲むチャンバ
を更に備える請求項1から請求項7のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記チャンバで囲まれた前記空間に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部を更に備える
請求項8に記載の塗布装置。 - 前記吐出部は、前記先端部分に対向する吐出領域に前記液状体を吐出するように形成されており、
前記相対駆動部は、前記吐出領域を通過するように前記基板を駆動する基板駆動部を有する
請求項1から請求項9のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記吐出部は、前記先端部分に対向する吐出領域に前記液状体を吐出するように形成されており、
前記相対駆動部は、前記吐出領域が前記基板上を走査するように前記ノズルを駆動するノズル駆動部を有する
請求項1から請求項10のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 易酸化性の金属を含む液状体を基板に塗布する塗布方法であって、
前記液状体との間の親和性が前記液状体同士の親和性よりも弱くなるように形成された親和性調整部が設けられる先端部分に形成された吐出部から前記液状体を吐出するノズルを有する塗布部の当該先端部分を前記基板に対向させるステップと、
前記先端部分と前記基板との間で前記液状体が挟持されるように、前記吐出部から前記液状体を吐出するステップと、
前記先端部分と前記基板との間で前記液状体を挟持した状態で、前記吐出部から前記液状体を吐出しつつ前記先端部分と前記基板とを相対移動させるステップと
を含む塗布方法。
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