JP2012051749A - 導電性を有する多孔質の炭化珪素質セラミックス焼結体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】導電性を有する多孔質の炭化珪素質セラミックス焼結体であって、粒子表面に二酸化珪素層が形成されている。また、二酸化珪素層は、酸素濃度として0.4質量%〜4.8質量%が形成されている。更に、炭化珪素質セラミックス焼結体は、単一の方向に延びて列設された隔壁により区画された複数のセルを備えるハニカム構造に形成することが可能である。
【選択図】図2
Description
SiC + 2O2 → SiO2 + CO2
酸化処理により増加した酸素濃度(質量%)=(酸化処理により増加した酸素の質量)/(酸化処理後の焼結体の質量)×100
ここで、(酸化処理により増加した酸素の質量)=(酸化処理により増加した焼結体の質量)×(酸素の分子量/((二酸化珪素の分子量)−(炭化珪素の分子量))
酸化処理後の焼結体における酸素濃度(質量%)=((酸化処理により増加した酸素の質量)+(酸化処理前の焼結体の質量)×0.3/100)/(酸化処理後の焼結体の質量)×100
なお、実施例における「酸化処理後の焼結体」が、本発明の「粒子表面に二酸化珪素層が形成されている炭化珪素質セラミックス焼結体」に相当する。
Claims (3)
- 導電性を有する多孔質の炭化珪素質セラミックス焼結体であって、
粒子表面に二酸化珪素層が形成されている
ことを特徴とする炭化珪素質セラミックス焼結体。 - 前記二酸化珪素層は、酸素濃度として0.4質量%〜4.8質量%が形成されている
ことを特徴とする炭化珪素質焼結体。 - 単一の方向に延びて列設された隔壁により区画された複数のセルを備えるハニカム構造に形成されている
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の炭化珪素質セラミックス焼結体。
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