JP2012038596A5 - - Google Patents

Description

上述した放電室２は、変換器３Ａ，３Ｂにおける排気側リッジ部３１ａ及び基板側リッジ部３１ｂ間のリッジ対向間隔（凡そ５０〜２００ｍｍ）よりも、放電室２における排気側リッジ電極２１ａ及び基板側リッジ電極２１ｂ間のリッジ対向間隔（凡そ３〜３０ｍｍ）の方が狭く設定されているため、両リッジ部３１ａ，３１ｂと両リッジ電極２１ａ，２１ｂとの境界部には、数十〜百数十ミリのリッジ段差Ｄ（図１参照）が存在している。
高周波電源５Ａ，５Ｂから供給された高周波電力は、同軸線路及び変換部３Ａ，３Ｂを介して放電室２のリッジ電極２１ａ，２１ｂに伝送され、リッジ電極２１ａ，２１ｂの間隔を狭く設けることで強い電界を発生し、リッジ電極２１ａ，２１ｂの間に母ガスを導入することでプラズマを生成し、母ガスの材料ガスが分解や活性化する。
生成されたプラズマは電位差により基板Ｓに向かって移動するため、基板Ｓに製膜処理が施される。

本実施形態の排気側リッジ電極２１ａは、たとえば図３に示すように、複数の通気孔２２を設けた板厚の薄い導電性の板で形成する。
排気側リッジ電極２１ａの通気孔２２は、均一な排気ができることを考慮する。
排気側リッジ電極２１ａに貫通孔として穿設した通気孔２２は、平面の中央部が密でかつ周囲部が粗いピッチとする。このようにすれば、材料ガスの供給が排気側リッジ電極２１ａの周辺方向から、すなわち、非リッジ部導波管９内の母ガス供給管８から基板Ｓの面中央部に向うように行われるため、基板Ｓの面中央部にも材料ガスが行き届くようにするための工夫である。従って、排気側リッジ電極２１ａから排気部７により母ガスが真空排気されるにあたり、排気側リッジ電極２１ａにおける通気孔２２の単位面積当たりの開口率は、母ガス供給管８に近い位置に比べて、母ガス供給管８から遠い位置において高くなるので、排気側リッジ電極２１ａ面内に排気コンダクタンスに分布を設けることで、母ガスが放電室２内に均等に行き渡り、安定した製膜を行うことができる。