JP2012023289A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012023289A5 JP2012023289A5 JP2010161713A JP2010161713A JP2012023289A5 JP 2012023289 A5 JP2012023289 A5 JP 2012023289A5 JP 2010161713 A JP2010161713 A JP 2010161713A JP 2010161713 A JP2010161713 A JP 2010161713A JP 2012023289 A5 JP2012023289 A5 JP 2012023289A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- holding unit
- unloaded
- delivered
- loading
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010161713A JP5479253B2 (ja) | 2010-07-16 | 2010-07-16 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| US13/174,322 US8730317B2 (en) | 2010-07-16 | 2011-06-30 | Substrate processing apparatus, substrate processing method and non-transitory computer storage medium |
| KR1020110068788A KR101605698B1 (ko) | 2010-07-16 | 2011-07-12 | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법, 프로그램 및 컴퓨터 기억 매체 |
| CN201110204680.5A CN102338990B (zh) | 2010-07-16 | 2011-07-13 | 基板处理装置和基板处理方法 |
| TW100125141A TWI487897B (zh) | 2010-07-16 | 2011-07-15 | A substrate processing apparatus, a substrate processing method, a program and a computer memory medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010161713A JP5479253B2 (ja) | 2010-07-16 | 2010-07-16 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014024275A Division JP5766316B2 (ja) | 2014-02-12 | 2014-02-12 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012023289A JP2012023289A (ja) | 2012-02-02 |
| JP2012023289A5 true JP2012023289A5 (enExample) | 2012-09-06 |
| JP5479253B2 JP5479253B2 (ja) | 2014-04-23 |
Family
ID=45466654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010161713A Active JP5479253B2 (ja) | 2010-07-16 | 2010-07-16 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8730317B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5479253B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101605698B1 (enExample) |
| CN (1) | CN102338990B (enExample) |
| TW (1) | TWI487897B (enExample) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5006122B2 (ja) | 2007-06-29 | 2012-08-22 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP5160204B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-03-13 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP5128918B2 (ja) * | 2007-11-30 | 2013-01-23 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP5001828B2 (ja) | 2007-12-28 | 2012-08-15 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP5179170B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-04-10 | 株式会社Sokudo | 基板処理装置 |
| JP6308958B2 (ja) * | 2015-02-25 | 2018-04-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP6244329B2 (ja) * | 2015-05-12 | 2017-12-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の検査方法、基板処理システム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP6617050B2 (ja) * | 2016-02-22 | 2019-12-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板撮像装置 |
| JP6444909B2 (ja) * | 2016-02-22 | 2018-12-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法、基板処理装置及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| JP2018036235A (ja) * | 2016-09-02 | 2018-03-08 | 株式会社Screenホールディングス | 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法 |
| US10964606B2 (en) * | 2017-02-07 | 2021-03-30 | Tokyo Electron Limited | Film forming system, film forming method, and computer storage medium |
| TWI786116B (zh) * | 2017-06-05 | 2022-12-11 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板處理系統之處理條件設定方法、基板處理系統及記憶媒體 |
| EP3413339B1 (en) * | 2017-06-08 | 2023-05-24 | Brooks Automation (Germany) GmbH | Inspection system and method of inspection for substrate containers |
| WO2019208359A1 (ja) * | 2018-04-27 | 2019-10-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理システム及び基板処理方法 |
| JP7105135B2 (ja) * | 2018-08-17 | 2022-07-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理条件補正方法及び基板処理システム |
| KR102162187B1 (ko) * | 2018-08-31 | 2020-10-07 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| JP7090005B2 (ja) * | 2018-10-05 | 2022-06-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び検査方法 |
| JP7153521B2 (ja) * | 2018-10-05 | 2022-10-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び検査方法 |
| KR102191836B1 (ko) * | 2019-04-30 | 2020-12-18 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| US20220285196A1 (en) * | 2019-05-08 | 2022-09-08 | Tokyo Electron Limited | Bonding apparatus, bonding system, and bonding method |
| KR102270936B1 (ko) * | 2019-06-17 | 2021-07-01 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 |
| CN111723591B (zh) * | 2020-05-22 | 2021-03-30 | 杭州长川科技股份有限公司 | 晶圆id读取装置 |
| CN120972450A (zh) * | 2024-05-15 | 2025-11-18 | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 | 基板处理装置及方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3067331B2 (ja) * | 1991-10-30 | 2000-07-17 | 株式会社ニコン | 顕微鏡 |
| TW383414B (en) * | 1997-03-05 | 2000-03-01 | Tokyo Electron Ltd | Photoresist agent processing method and photoresist agent processing system and evaluation method and processing apparatus for photoresist agent film |
| JP3468755B2 (ja) * | 2001-03-05 | 2003-11-17 | 石川島播磨重工業株式会社 | 液晶駆動基板の検査装置 |
| ATE514940T1 (de) * | 2001-11-30 | 2011-07-15 | Ibm | Untersuchungseinrichtung und untersuchungsverfahren für strukturprofile |
| JP3853685B2 (ja) * | 2002-03-28 | 2006-12-06 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
| TW200702656A (en) * | 2005-05-25 | 2007-01-16 | Olympus Corp | Surface defect inspection apparatus |
| JP2007240519A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-09-20 | Tokyo Electron Ltd | 欠陥検査方法、欠陥検査装置及びコンピュータプログラム |
| JP2009117541A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Tokyo Electron Ltd | 基板検査方法、基板検査装置及び記憶媒体 |
| JP2009194335A (ja) * | 2008-02-18 | 2009-08-27 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置の基板支持機構 |
| JP2009281836A (ja) * | 2008-05-21 | 2009-12-03 | Olympus Corp | 基板観察装置、基板観察方法、制御装置、およびプログラム |
| JP2010008177A (ja) * | 2008-06-26 | 2010-01-14 | Adtec Engineeng Co Ltd | 欠陥検出装置及び方法 |
| US8798933B2 (en) * | 2008-10-31 | 2014-08-05 | The Invention Science Fund I, Llc | Frozen compositions and methods for piercing a substrate |
-
2010
- 2010-07-16 JP JP2010161713A patent/JP5479253B2/ja active Active
-
2011
- 2011-06-30 US US13/174,322 patent/US8730317B2/en active Active
- 2011-07-12 KR KR1020110068788A patent/KR101605698B1/ko active Active
- 2011-07-13 CN CN201110204680.5A patent/CN102338990B/zh active Active
- 2011-07-15 TW TW100125141A patent/TWI487897B/zh active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2012023289A5 (enExample) | ||
| ATE557376T1 (de) | Dosenspender | |
| JP2015502893A5 (enExample) | ||
| JP2012199341A5 (enExample) | ||
| JP2013500371A5 (enExample) | ||
| JP2012030068A5 (enExample) | ||
| JP2014028813A5 (enExample) | ||
| MX2015000935A (es) | Dispositivo para manipular objetos con forma de placa. | |
| FR2994423B1 (fr) | Dispositif thermique pour le transport de produits, notamment de produits palettises. | |
| JP2013505863A5 (enExample) | ||
| JP2013023736A5 (enExample) | ||
| EP3193358A4 (en) | Semiconductor element cleaning solution that suppresses damage to tungsten-containing materials, and method for cleaning semiconductor element using same | |
| JP2015537124A5 (enExample) | ||
| FR2957566B1 (fr) | Dispositif pour le stockage et le transport de produits aquacoles. | |
| KR101691066B9 (ko) | 트레이와 이를 이용한 기판 처리 장치, 및 트레이의 제조 방법 | |
| JP2014534065A5 (enExample) | ||
| JP2012169534A5 (enExample) | ||
| IT1397240B1 (it) | Dispositivo di carico/scarico particolarmente per barelle e simili. | |
| IT1403001B1 (it) | Pompa per vuoto, in particolare per autoveicoli. | |
| JP2012524034A5 (enExample) | ||
| JP2016525403A5 (enExample) | ||
| FR2978291B1 (fr) | Dispositif semi-conducteur d'emission d'electrons dans le vide | |
| JP2015164711A5 (enExample) | ||
| JP2013538201A5 (enExample) | ||
| NL1036149C2 (nl) | Inrichting voor het transporteren van voorwerpen. |