JP2012013624A - パーティクル分布解析支援方法及びその方法を実施するためのプログラムを記録した記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パーティクル分布解析を行う対象基板について,その基板上のパーティクル座標データからパーティクル相互間距離についてのヒストグラムデータを作成するとともに,その対象基板上のパーティクルと同数のパーティクルを計算上ランダムに分布させた複数枚の仮想基板について,パーティクル相互間距離のヒストグラムデータを作成する。これら対象基板と各仮想基板のヒストグラムデータ群との差異に基づいて,対象基板のヒストグラムデータについて仮想基板のランダムなヒストグラムデータ群からの距離を数値化した判定データを算出して表示部に表示する。
【選択図】 図13
Description
まず,本発明にかかるパーティクル分布解析支援方法で解析する基板の処理を行う基板処理装置について図面を参照しながら説明する。図1は,基板処理装置の概略構成を示す断面図である。この基板処理装置100は,半導体ウエハである基板Wに対して所定のプロセス処理を行う複数(ここでは6つ)のプラズマ処理装置PM1〜PM6を備える処理ユニット110と,この処理ユニット110に対して大気圧雰囲気中で基板Wを搬出入させる搬送ユニット120と,基板処理装置100全体の動作を制御する制御部170とを備える。
また,この機能の他,プロセスデータなどの解析処理,統計処理,プロセスデータやその解析/統計結果の集中モニタリング処理,更には解析/統計結果をレシピに反映させる処理等を行うように構成してもよい。データ処理装置は,1台のコンピュータで構成してもよく,複数台のコンピュータで構成してもよい。また,サーバとクライアントに分けて機能を分散させるように構成してもよい。
次に,本発明にかかるパーティクル分布解析支援装置の構成例について図面を参照しながら説明する。図2は,本実施形態にかかるパーティクル分布解析支援装置の構成を示すブロック図である。
次に,パーティクル分布解析支援装置300によって行われるパーティクル分布解析支援処理について図面を参照しながら説明する。図13は,パーティクル分布解析支援処理のメインルーチンを示すフローチャートである。図14〜図18はそれぞれ,図13に示す対象基板データ作成処理,仮想基板データ作成処理,差異データ作成処理,判定データ作成処理,解析結果の表示処理についてのサブルーチンを示すフローチャートである。
これによれば,最も差異の大きい動径を示す円(点線)R1と最も差異の大きい偏角を示す直線(点線)a1の交点部分に異常があることが分かる。これは図25Dに示すパーティクルマップ上に囲んだ部分Qである。なお,図25Dは,図25Aのパーティクルマップ312bに異常位置を示す部分Qを重ねて表示したものである。従って,この部分Qに異常の大きな原因となっているクラスタ状のパーティクルが集中していることが分かる。このように,順位マップ312kによれば,異常の原因となっている位置も容易に特定できる。
110 処理ユニット
112 共通搬送室
116 受渡台
120 搬送ユニット
130 搬送室
132A〜132C カセット台
134A〜134C カセット容器
135 パーティクル測定室
135a 載置台
135b 光源
135c 受光部
135d 信号処理部
136A〜136C ロードポート
137 オリエンタ
138 回転載置台
139 光学センサ
150 処理ユニット側搬送機構
152A,152B ピック
154 基台
156 案内レール
158 フレキシブルアーム
160 搬送ユニット側搬送機構
162 基台
170 制御部
172 入出力部
174 測定結果記憶部
210 処理室
240 ゲートバルブ
300 パーティクル分布解析支援装置
310 入出力部
311 入力部
312 表示部
312a 画面
312b パーティクルマップ
312c,312f,312g 判定データ
312d,312h,312i ヒストグラム
312e,312j 差異マップ
312k 順位マップ
313 プリンタ部
320 記憶部
321 プログラム記憶部
322 データ記憶部
330 演算処理部
331 対象基板データ作成部
332 仮想基板データ作成部
333 差異データ作成部
334 判定データ作成部
335 表示制御部
340 メモリ
Mc,MR,Ma 判定データ
PM1〜PM6 プラズマ処理装置
WT 対象基板
WV1〜WVM 仮想基板
Claims (13)
- 基板上のパーティクル分布解析を支援する方法であって,
前記パーティクル分布解析を行う対象基板について,その基板上のパーティクル座標データからすべてのパーティクルについてそれぞれの相互間距離を求め,そのパーティクル相互間距離を複数の階級に分けたときに前記各階級のパーティクル数を頻度としたヒストグラムデータを作成して記憶部に記憶する対象基板データ作成ステップと,
前記対象基板上のパーティクルと同数のパーティクルを計算上ランダムに分布させた複数枚の仮想基板について,これらの基板上のパーティクル座標データから前記パーティクル相互間距離を求め,そのパーティクル相互間距離を複数の階級に分けたときに前記各階級のパーティクル数を頻度としたヒストグラムデータを前記仮想基板の枚数分だけ作成して前記記憶部に記憶する仮想基板データ作成ステップと,
前記対象基板のヒストグラムデータと前記各仮想基板のヒストグラムデータについて,前記仮想基板のヒストグラムデータ群の平均との差異を表す差異データを作成して前記記憶部に記憶する差異データ作成ステップと,
前記対象基板と前記各仮想基板の前記差異データに基づいて,前記対象基板のヒストグラムデータについての前記仮想基板のヒストグラムデータ群からの距離を数値化した判定データを算出して前記記憶部に記憶する判定データ作成ステップと,
前記判定データを表示部に表示する表示ステップと,
を有することを特徴とするパーティクル分布解析支援方法。 - 基板上のパーティクル分布解析を支援する方法であって,
前記パーティクル分布解析を行う対象基板について,その基板上のパーティクル座標データからすべてのパーティクル位置の動径と偏角を求め,その動径と偏角をそれぞれ複数の階級に分けたときに前記各階級のパーティクル数を頻度とした前記動径のヒストグラムデータと前記偏角のヒストグラムデータを作成して記憶部に記憶する対象基板データ作成ステップと,
前記対象基板上のパーティクルと同数のパーティクルを計算上ランダムに分布させた複数枚の仮想基板について,これらの基板上のパーティクル座標データから前記パーティクル位置の動径と偏角を求め,その動径と偏角をそれぞれ複数の階級に分けたときに前記各階級のパーティクル数を頻度とした前記動径のヒストグラムデータと前記偏角のヒストグラムデータをそれぞれ前記仮想基板の枚数分だけ作成して前記記憶部に記憶する仮想基板データ作成ステップと,
前記対象基板のヒストグラムデータと前記各仮想基板のヒストグラムデータについて,前記仮想基板のヒストグラムデータ群の平均との差異を表す差異データを作成して前記記憶部に記憶する差異データ作成ステップと,
前記対象基板と前記各仮想基板の前記差異データに基づいて,前記対象基板のヒストグラムデータについての前記仮想基板のヒストグラムデータ群からの距離を数値化した判定データを算出して前記記憶部に記憶する判定データ作成ステップと,
前記判定データを表示部に表示する表示ステップと,
を有することを特徴とするパーティクル分布解析支援方法。 - 前記差異データ作成ステップは,
前記仮想基板のヒストグラムデータ群について,各階級における頻度の平均値と標準偏差を算出するステップと,
前記対象基板と前記仮想基板のヒストグラムデータについての各階級における頻度を,前記仮想基板のヒストグラムデータ群についての前記平均値と前記標準偏差で標準化して前記記憶部に記憶するステップと,
前記対象基板及び前記仮想基板について標準化した前記各ヒストグラムデータから,頻度の符号反転数及び二乗和平方根を算出するステップと,
前記仮想基板の標準化したヒストグラムデータ群について,前記符号反転数及び前記二乗和平方根の平均値と標準偏差を算出するステップと,
前記対象基板及び前記仮想基板の標準化した全ヒストグラムデータについての前記符号反転数及び前記二乗和平方根を,前記全仮想基板についての前記平均値と前記標準偏差で標準化し,これらを前記差異データとして前記記憶部に記憶するステップと,
を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のパーティクル分布解析支援方法。 - 前記判定データ作成ステップは,前記差異データから,マハラノビスの距離を算出し,これらを判定データとして前記記憶部に記憶することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のパーティクル分布解析支援方法。
- 前記表示ステップは,前記判定データを前記表示部に表示し,
前記判定データが予め設定された閾値以上の場合はさらにその判定データが異常であることを示す表示をすることを特徴とする請求項4に記載のパーティクル分布解析支援方法。 - 前記表示ステップは,
前記パーティクル相互間距離について算出された前記対象基板及び前記全仮想基板についての前記符号反転数の差異データと,前記パーティクル相互間距離について算出された前記対象基板及び前記全仮想基板についての前記二乗和平方根の差異データとをそれぞれ,縦軸と横軸のいずれかにとって前記各差異データをグラフ化したものを前記表示部に表示することを特徴とする請求項3又は4に記載のパーティクル分布解析支援方法。 - 前記表示ステップは,
前記パーティクル位置の動径について算出された前記対象基板及び前記全仮想基板についての前記二乗和平方根の差異データと,前記パーティクル位置の偏角について算出された前記対象基板及び前記全仮想基板についての前記二乗和平方根の差異データとをそれぞれ,縦軸と横軸のいずれかにとって前記各差異データをグラフ化したものを前記表示部に表示することを特徴とする請求項3又は4に記載のパーティクル分布解析支援方法。 - 前記表示ステップは,
前記パーティクル相互間距離について算出された,前記全仮想基板のヒストグラムデータについての各階級の頻度の平均をとった前記仮想基板の平均ヒストグラムと前記対象基板のヒストグラムとをそれぞれ重ねて前記表示部に表示することを特徴とする請求項1に記載のパーティクル分布解析支援方法。 - 前記表示ステップは,
前記パーティクル位置の動径について算出された,前記全仮想基板のヒストグラムデータについての各階級の頻度の平均をとった前記仮想基板の平均ヒストグラムと前記対象基板のヒストグラムとをそれぞれ重ねて前記表示部に表示することを特徴とする請求項2に記載のパーティクル分布解析支援方法。 - 前記表示ステップは,
前記パーティクル位置の偏角について算出された,前記全仮想基板のヒストグラムデータについての各階級の頻度の平均をとった前記仮想基板の平均ヒストグラムと前記対象基板のヒストグラムとをそれぞれ重ねて前記表示部に表示することを特徴とする請求項2に記載のパーティクル分布解析支援方法。 - 前記表示ステップは,
前記パーティクル位置の動径について算出された,前記対象基板のヒストグラムデータの各階級うち,前記全仮想基板のヒストグラムデータの平均からの頻度の差異が大きい順に,1又は複数の階級の動径を前記パーティクル座標データのマップに重ねて前記表示部に表示することを特徴とする請求項2に記載のパーティクル分布解析支援方法。 - 前記表示ステップは,
前記パーティクル位置の偏角について算出された,前記対象基板のヒストグラムデータの各階級うち,前記全仮想基板のヒストグラムデータの平均からの頻度の差異が大きい順に,1又は複数の階級の偏角を前記パーティクル座標データのマップに重ねて前記表示部に表示することを特徴とする請求項2に記載のパーティクル分布解析支援方法。 - 基板上のパーティクル分布解析を支援する処理をコンピュータに実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体であって,
前記パーティクル分布解析支援処理は,
前記パーティクル分布解析を行う対象基板について,その基板上のパーティクル座標データからすべてのパーティクルについてそれぞれの相互間距離を求め,そのパーティクル相互間距離を複数の階級に分けたときに前記各階級のパーティクル数を頻度としたヒストグラムデータを作成して記憶部に記憶する対象基板データ作成ステップと,
前記対象基板上のパーティクルと同数のパーティクルを計算上ランダムに分布させた複数枚の仮想基板について,これらの基板上のパーティクル座標データから前記パーティクル相互間距離を求め,そのパーティクル相互間距離を複数の階級に分けたときに前記各階級のパーティクル数を頻度としたヒストグラムデータを前記仮想基板の枚数分だけ作成して前記記憶部に記憶する仮想基板データ作成ステップと,
前記対象基板のヒストグラムデータと前記各仮想基板のヒストグラムデータについて,前記仮想基板のヒストグラムデータ群の平均との差異を表す差異データを作成して前記記憶部に記憶する差異データ作成ステップと,
前記対象基板と前記各仮想基板の前記差異データに基づいて,前記対象基板のヒストグラムデータについての前記仮想基板のヒストグラムデータ群からの距離を数値化した判定データを算出して前記記憶部に記憶する判定データ作成ステップと,
前記判定データを表示部に表示する表示ステップと,
を有することを特徴とする記録媒体。
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