JP2011529842A - 支持体用途のための新種の沈降シリカ - Google Patents
支持体用途のための新種の沈降シリカ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011529842A JP2011529842A JP2011520433A JP2011520433A JP2011529842A JP 2011529842 A JP2011529842 A JP 2011529842A JP 2011520433 A JP2011520433 A JP 2011520433A JP 2011520433 A JP2011520433 A JP 2011520433A JP 2011529842 A JP2011529842 A JP 2011529842A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- precipitated silica
- base
- drying
- silica
- dryer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/10—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising silica or silicate
- B01J20/103—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising silica or silicate comprising silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/157—After-treatment of gels
- C01B33/159—Coating or hydrophobisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
- C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Medicines Containing Plant Substances (AREA)
Abstract
Description
DBP吸収量(無水)210〜270g/100g、
1分間の超音波の作用後のd50値220〜400μm、
1分間の超音波の作用後の200μm未満の粒子の割合35体積%未満を有する沈降シリカである。
a)超音波の作用なしの平均粒度d50250〜600μmおよび含水率2〜70質量%を有する沈降シリカを準備し、
b)工程a)からのシリカを少なくとも1つの塩基性物質または少なくとも1つの塩基性物質の少なくとも1つの溶液と1分間〜72時間接触させ、
c)工程b)により得られた沈降シリカを乾燥させる工程を含む、本発明による沈降シリカの製造法である。
DBP吸収量(無水)210〜270g/100g、
1分間の超音波の作用後のd50値220〜400μm、
1分間の超音波の作用後の200μm未満の粒子の割合35体積%未満を示す。
a)超音波の作用なしの平均粒度d50230〜600μmおよび含水率2〜70質量%を有する沈降シリカを準備し、
b)工程a)からのシリカを少なくとも1つの塩基性物質または少なくとも1つの塩基性物質の少なくとも1つの溶液と1分間〜72時間、有利に10℃〜150℃の温度で接触させ、
c)塩基で処理された沈降シリカを乾燥させることを含む1つの方法により製造されてよい。
DBP吸収量の測定
沈降シリカの吸収能のための1つの基準であるDBP吸収量(DBP数)は、規格DIN53601に基づき、以下のようにして測定される:
DBP吸収量に対して使用されるシリカの含水率は、4〜8質量%である。必要な場合には、この含水率は、乾燥または水での湿潤によって調節されることができる。必要とされる可能な乾燥は、105℃で行なうことができる。試料の湿潤は、例えば空気調和されたキャビネット中で薄手の層中に拡散されたシリカを状態調節することによって形成されることができる。液状水での直接の湿潤は、回避させることができる。それというのも、これは、強制的に液体の不均一な分布をまねくからである。含水率4〜8質量%を有する粉末状または球状のシリカ12.50gは、吸収計の混練機室中に供給される(Absorptometer C der Fa. Brabender mit Sahlkammer (Art. No. 1.2316)またはAbsorptometer der Fa. Hitec (Modell DABS) mit Stahlkammer (Art.No. 1597))。不断の混合(混練機翼の周速125rpm)下に、室温で計量供給装置(Dosimat)(吸収計C:Schott Titronic universal burette, nominal volume 50ml,またはHitec 吸収計: Schott Titronic universal burette, nominal volume 50ml)によって、Vestinol C(ジブチルフタレート)は、4ml/分の速度で混合中に滴加される。この混入は、低いトルクで行なわれる。トルクの経過は、制御PCのモニター上で追跡される。測定の終結に向かって、混合物はペースト状となり、このことは、トルクの急激な上昇によって引き起こされる。600ディジットの表示(0.6Nmのトルク)の場合に、電気接点によって混練機もDBP配量もスイッチを切る。DBP供給のための同期モータは、デジタルカウンターと接続されているので、DBPの消費をmlで読み取ることができる。
DBP=g/(100g)でのDBP吸収量
V=mlでのDBPの消費量
D=g/mlでのDBPの密度(20℃で1.047g/ml)
E=gでのシリカの出発質量
K=g/(100g)での含水率補正表による補正値。
粒径を測定するためのレーザー回折の使用は、粒子が異なる強度パターンを有する単色光を回折するという現象を基礎とする。この回折は、粒径に依存する。粒子が小さければ小さいほど、回折角度は、ますます大きくなる。
試料の準備および測定(モジュールのすすぎ洗い等)は、親水性(水で湿潤可能な)沈降シリカの場合には、分散液を用いて行なわれる(脱イオン水中のテトラナトリウムジホスフェート0.05質量%)。疎水性(水で湿潤不可能な)沈降シリカの場合には、これは、エタノール/水混合物(容量比1:1)を用いて行なわれる。
%での超音波暴露後の200μm未満の粒子の割合は、レーザー回折による(Coulter LS230)、1分間の超音波作用後のd50の測定について記載された粒径測定から得られる累積容量分布曲線によりグラフで算出される。
シリカの含水率は、ISO787−2に従って、循環空気乾燥キャビネット中で105℃で2時間乾燥させた後に測定する。この乾燥減量は、主に水分からなる。硬化された完成沈降シリカのpH値の測定
全てのpH値測定に対する固体の出発質量は、乾燥された材料に関連する。乾燥されていない元来の材料を使用する場合には、この材料の乾燥減量(含水率)が算出されなければならない。引続き、pH値の測定に対する出発質量は、乾燥減量の値で補正される。
沈降シリカ25gは、250mlの容積を有する閉鎖可能なガラス瓶中で0.1nのNaOH水溶液48.5mlに添加され、手1でスパチュラを用いて1分間攪拌された。その後に、この瓶は閉じられ、室温(約23℃)で15分間貯蔵された。その後に、ねじ込み蓋付き瓶の内容物は、予熱されたガラス皿(直径30cm)上で均一な層厚に広げられ、175℃に予熱された乾燥キャビネット中で15分間乾燥された。引続き、乾燥されおよび硬化された沈降シリカは、ガラス皿(直径30cm)中で均一な層厚に広げられ、23℃および50%の相対空間湿度で30分間、空気調和されたキャビネット中で状態調節された。乾燥されおよび状態調節された試料のpH値は、8.6であった。
出発シリカとして、358μmの平均粒径d50および5.0質量%の含水量(含水率)を有するEvonik Degussa GmbH社のSipernat(登録商標)2200を使用し、上記の一般的方法により硬化させた。
第2表は、公知技術水準の比較シリカの物理化学的性質を含み、比較例1は、商業的にキャリヤーシリカとして入手可能である、実施例1の出発シリカ、Evonik Degussa GmbH社のSipernat 2200(登録商標)に相当する。比較例2は、Rhodia Chimie社のTixosil 38X(登録商標)であり、比較例3は、Huber社のHubersil 5170(登録商標)である。
Claims (15)
- DBP吸収量(無水)210〜270g/100g、
1分間の超音波の作用後のd50値220〜400μm、
1分間の超音波の作用後の200μm未満の粒子の割合35体積%未満を有する沈降シリカ。 - 前記沈降シリカが5.5〜9.5の範囲内のpH値および/または1分間の超音波の作用後のd50値270〜360μmおよび/または1分間の超音波の作用後の200μm未満の粒子の割合1〜30体積%を有し、および/または前記沈降シリカがほぼ球状の粒子形を有する、請求項1記載の沈降シリカ。
- 沈降シリカの製造法において、工程
a)超音波の作用なしの平均粒度d50230〜600μmおよび含水率2〜70質量%を有する沈降シリカを準備し、
b)工程a)からの沈降シリカを少なくとも1つの塩基性物質または少なくとも1つの塩基性物質の少なくとも1つの溶液と1分間〜72時間、有利に10℃〜150℃の温度で接触させ、
c)塩基で処理された沈降シリカを乾燥させることを含む、沈降シリカの製造法。 - 工程a)で使用される沈降シリカは、DBP吸収量(無水)210〜350g/100gを有する、請求項3記載の方法。
- 工程a)で使用された沈降シリカは、工程a)の実施前に少なくとも1つの乾燥工程に掛けられ、この場合少なくとも1つの乾燥工程で噴霧塔乾燥が実施されたかまたは工程a)で使用された沈降シリカが工程a)の実施前に水と接触され、2〜70質量%の含水量がもたらされた、請求項3または4記載の方法。
- 工程b)において、ガス状アルキルアミンおよびアンモニアからなる群から選択された、23℃および大気圧でガス状での塩基を塩基として使用する、請求項3から5までのいずれか1項に記載の方法。
- 沈降シリカのpH値は、ガス状塩基との接触後に8〜12の範囲内にある、請求項6記載の方法。
- 工程c)における乾燥は、水および塩基の駆出によって空気、水蒸気、希ガスまたは前記ガスの混合物および/または蒸気からなる群から選択された、少なくとも1つのガス/蒸気により行なわれ、この場合ガス/蒸気は、特に20℃以上の温度を有するものとし、或いは真空乾燥器により行なわれ、或いは流動乾燥機、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器または乾燥キャビネットにより行なわれる、請求項6または7のいずれか1項に記載の方法。
- 工程c)における乾燥は、流動乾燥機、多段乾燥器、ベルト乾燥器、回転管乾燥器または乾燥キャビネットにより行なわれ、工程b)とc)との間または工程c)後に沈降シリカのpH値は、酸性化剤との接触によってpH5.5〜8.0を生じる、請求項8記載の方法。
- 工程b)における塩基として少なくとも1つの塩基を含有する溶液または固体の塩基を使用し、塩基は、前記群から選択され、この場合塩基は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、アンモニア、カルボナール、重炭酸塩およびアミンの溶液からなる群から選択された塩基である、請求項3から5までのいずれか1項に記載の方法。
- 沈降シリカと塩基溶液との接触は、工程b)において沈降シリカ上への塩基溶液の噴霧、沈降シリカ上への塩基溶液の滴加、または塩基溶液中への沈降シリカの攪拌混入または混入によって行なわれるか、或いは塩基溶液中での沈降シリカの懸濁液または分散液の製造によって行なわれる、請求項10記載の方法。
- 沈降シリカのpH値は、塩基溶液との接触後に8〜12の範囲内にあり、および/または工程b)とc)との間、または工程c)後に沈降シリカのpH値は、酸性化剤との接触によってpH5〜9に調節される、請求項10または11記載の方法。
- 吸収体の製造のための請求項1から3までのいずれか1項に記載の沈降シリカの使用。
- 請求項1から3までのいずれか1項に記載の沈降シリカの少なくとも1つを含み、有利に5ml/100g沈降シリカ〜230ml/100g沈降シリカの間にある、吸収体中の吸収された物質の含量を有する吸収体。
- 蟻酸、プロピオン酸、乳酸、燐酸、塩化コリン溶液、ビタミンEアセテートおよびビタミンE誘導体、植物エキス、例えばマンジュギクエキス、メラミン樹脂および塗料添加剤からなる群から選択された少なくとも1つの吸収すべき物質が沈降シリカ上に吸収されている、請求項14記載の吸収体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102008035867.3 | 2008-08-01 | ||
DE102008035867A DE102008035867A1 (de) | 2008-08-01 | 2008-08-01 | Neuartige Fällungskieselsäuren für Trägeranwendungen |
PCT/EP2009/059431 WO2010012638A1 (de) | 2008-08-01 | 2009-07-22 | Neuartige fällungskieselsäuren für trägeranwendungen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011529842A true JP2011529842A (ja) | 2011-12-15 |
JP2011529842A5 JP2011529842A5 (ja) | 2012-07-19 |
JP5518064B2 JP5518064B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=41168657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011520433A Active JP5518064B2 (ja) | 2008-08-01 | 2009-07-22 | 支持体用途のための新種の沈降シリカ |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8962519B2 (ja) |
EP (1) | EP2303777B1 (ja) |
JP (1) | JP5518064B2 (ja) |
KR (1) | KR101616590B1 (ja) |
CN (1) | CN102112396B (ja) |
BR (1) | BRPI0916603B1 (ja) |
CA (1) | CA2732596A1 (ja) |
DE (1) | DE102008035867A1 (ja) |
ES (1) | ES2409712T3 (ja) |
MX (1) | MX2011001126A (ja) |
PL (1) | PL2303777T3 (ja) |
PT (1) | PT2303777E (ja) |
RU (1) | RU2541063C2 (ja) |
TW (1) | TWI503278B (ja) |
WO (1) | WO2010012638A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013525239A (ja) * | 2010-03-24 | 2013-06-20 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 粗粒状の担体シリカ |
CN110290710A (zh) * | 2017-02-14 | 2019-09-27 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 水分散性制剂 |
CN110381747A (zh) * | 2017-02-14 | 2019-10-25 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 贮存稳定的配制物 |
WO2023210814A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 日本たばこ産業株式会社 | 無機多孔質材料を含む口腔用組成物 |
WO2023210811A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 日本たばこ産業株式会社 | 無機多孔質材料を含む口腔用組成物 |
WO2023210812A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 日本たばこ産業株式会社 | 多孔質材料を含む口腔用組成物 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8647653B2 (en) * | 2009-12-26 | 2014-02-11 | Evonik Degussa Gmbh | Water containing powder composition |
DE102011004532A1 (de) * | 2011-02-22 | 2012-08-23 | Evonik Degussa Gmbh | Hochreines Siliciumdioxidgranulat für Quarzglasanwendungen |
DE102012211121A1 (de) | 2012-06-28 | 2014-01-02 | Evonik Industries Ag | Granuläre, funktionalisierte Kieselsäure, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE102014113411A1 (de) | 2014-09-17 | 2016-03-17 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Anorganische, Silica-basierte Feststoff-Schaumpartikel mit geschlossenen Innenporen, ihre Herstellung und ihre Verwendung als Füll- oder Speicherstoff |
CA3030383C (en) | 2016-07-29 | 2023-02-21 | Evonik Degussa Gmbh | Method for producing hydrophobic heat insulation material |
RU2759942C2 (ru) | 2017-01-18 | 2021-11-18 | Эвоник Оперейшенс ГмбХ | Гранулированный теплоизоляционный материал и способ его получения |
DE102017209782A1 (de) | 2017-06-09 | 2018-12-13 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Wärmedämmung eines evakuierbaren Behälters |
EP3597615A1 (en) | 2018-07-17 | 2020-01-22 | Evonik Operations GmbH | Granular mixed oxide material and thermal insulating composition on its basis |
MX2021000626A (es) | 2018-07-18 | 2021-03-25 | Evonik Operations Gmbh | Procedimiento de hidrofobizacion de cuerpos de material de aislamiento conformados a base de silice a presion ambiental. |
DK3662761T3 (da) * | 2018-12-04 | 2021-07-26 | Dsm Ip Assets Bv | Opbevaringsstabile adsorbater af nitrooxyforbindelser |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02302312A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-14 | Rhone Poulenc Chim | 球体状のシリカ、その製造法及びエラストマーの補強への使用 |
JPH07223810A (ja) * | 1994-02-15 | 1995-08-22 | Nippon Silica Ind Co Ltd | 顆粒状沈殿ケイ酸及びその製造方法 |
JP2000507834A (ja) * | 1997-08-06 | 2000-06-27 | ロディア シミ | 沈降シリカを基材とする担体に液体を吸収させてなる組成物 |
JP2006265097A (ja) * | 1998-09-03 | 2006-10-05 | Degussa Ag | 沈降ケイ酸、その製法並びにそれを含有するゴム混合物及び加硫ゴム |
JP2007077012A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-29 | Degussa Ag | 特定の孔径分布を有する沈降シリカ |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2453880A1 (fr) | 1979-04-13 | 1980-11-07 | Rhone Poulenc Ind | Nouveau pigment a base de silice sous forme de bille, procede pour l'obtenir et application, notamment comme charge renforcante dans les elastomeres |
CA1311737C (en) * | 1986-07-28 | 1992-12-22 | The Dow Chemical Company | Process of making uniform size porous silica spheres |
EP0670813B1 (fr) * | 1993-09-29 | 2003-03-12 | Rhodia Chimie | Silice precipitee |
FR2732328B1 (fr) * | 1995-03-29 | 1997-06-20 | Rhone Poulenc Chimie | Nouveau procede de preparation de silice precipitee, nouvelles silices precipitees contenant de l'aluminium et leur utilisation au renforcement des elastomeres |
DE19807700A1 (de) | 1998-02-24 | 1999-08-26 | Degussa | Fällungskieselsäuregranulate |
FR2776537B1 (fr) | 1998-03-30 | 2000-05-05 | Rhodia Chimie Sa | Composition comprenant un liquide absorbe sur un support a base de silice precipitee |
CN1094383C (zh) * | 1998-09-11 | 2002-11-20 | 自贡市化工研究设计院 | 沉淀水合二氧化硅的喷雾—流化床造粒方法 |
ES2610590T3 (es) * | 2001-08-13 | 2017-04-28 | Rhodia Chimie | Procedimiento de preparación de sílices con distribución granulométrica y/o reparto de poros particulares |
DE10218350A1 (de) | 2002-04-25 | 2003-11-20 | Degussa | Silanmodifizierter oxidischer oder silikatischer Füllstoff, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
US8597425B2 (en) * | 2003-01-22 | 2013-12-03 | Evonik Degussa Gmbh | Highly dispersible silica for using in rubber |
JP2005053728A (ja) | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Dsl Japan Co Ltd | 高吸油性および高い構造性を有する非晶質シリカ粒子 |
DE102004005411A1 (de) | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Degussa Ag | Hydrophobe Fällungskieselsäure für Entschäumerformulierungen |
DE102004005409A1 (de) | 2004-02-03 | 2005-08-18 | Degussa Ag | Hydrophile Fällungskieselsäure für Entschäumerformulierungen |
DE102004029069A1 (de) * | 2004-06-16 | 2005-12-29 | Degussa Ag | Oberflächenmodifizierte Silicagele |
DE102005043202A1 (de) * | 2005-09-09 | 2007-03-15 | Degussa Ag | Fällungskieselsäuren mit besonderer Porengrößenverteilung |
FR2891539B1 (fr) * | 2005-09-30 | 2007-11-30 | Rhodia Recherches & Tech | Silice de cohesion elevee, procede de preparation et utilisations |
-
2008
- 2008-08-01 DE DE102008035867A patent/DE102008035867A1/de not_active Withdrawn
-
2009
- 2009-07-22 US US13/056,725 patent/US8962519B2/en active Active
- 2009-07-22 PT PT97809313T patent/PT2303777E/pt unknown
- 2009-07-22 WO PCT/EP2009/059431 patent/WO2010012638A1/de active Application Filing
- 2009-07-22 CA CA2732596A patent/CA2732596A1/en not_active Abandoned
- 2009-07-22 BR BRPI0916603-3A patent/BRPI0916603B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2009-07-22 EP EP09780931A patent/EP2303777B1/de active Active
- 2009-07-22 MX MX2011001126A patent/MX2011001126A/es active IP Right Grant
- 2009-07-22 JP JP2011520433A patent/JP5518064B2/ja active Active
- 2009-07-22 RU RU2011107350/05A patent/RU2541063C2/ru active
- 2009-07-22 PL PL09780931T patent/PL2303777T3/pl unknown
- 2009-07-22 KR KR1020117004740A patent/KR101616590B1/ko active IP Right Grant
- 2009-07-22 ES ES09780931T patent/ES2409712T3/es active Active
- 2009-07-22 CN CN200980130873.1A patent/CN102112396B/zh active Active
- 2009-07-29 TW TW098125548A patent/TWI503278B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02302312A (ja) * | 1989-05-02 | 1990-12-14 | Rhone Poulenc Chim | 球体状のシリカ、その製造法及びエラストマーの補強への使用 |
JPH07223810A (ja) * | 1994-02-15 | 1995-08-22 | Nippon Silica Ind Co Ltd | 顆粒状沈殿ケイ酸及びその製造方法 |
JP2000507834A (ja) * | 1997-08-06 | 2000-06-27 | ロディア シミ | 沈降シリカを基材とする担体に液体を吸収させてなる組成物 |
JP2006265097A (ja) * | 1998-09-03 | 2006-10-05 | Degussa Ag | 沈降ケイ酸、その製法並びにそれを含有するゴム混合物及び加硫ゴム |
JP2007077012A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-29 | Degussa Ag | 特定の孔径分布を有する沈降シリカ |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013525239A (ja) * | 2010-03-24 | 2013-06-20 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 粗粒状の担体シリカ |
CN110290710A (zh) * | 2017-02-14 | 2019-09-27 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 水分散性制剂 |
CN110381747A (zh) * | 2017-02-14 | 2019-10-25 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 贮存稳定的配制物 |
JP2020507318A (ja) * | 2017-02-14 | 2020-03-12 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.Dsm Ip Assets B.V. | 水分散性配合物 |
JP2020507319A (ja) * | 2017-02-14 | 2020-03-12 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ.Dsm Ip Assets B.V. | 貯蔵安定性配合物 |
JP7074361B2 (ja) | 2017-02-14 | 2022-05-24 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 貯蔵安定性配合物 |
JP7074360B2 (ja) | 2017-02-14 | 2022-05-24 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | 水分散性配合物 |
CN110290710B (zh) * | 2017-02-14 | 2023-12-19 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 水分散性制剂 |
WO2023210814A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 日本たばこ産業株式会社 | 無機多孔質材料を含む口腔用組成物 |
WO2023210811A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 日本たばこ産業株式会社 | 無機多孔質材料を含む口腔用組成物 |
WO2023210812A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 日本たばこ産業株式会社 | 多孔質材料を含む口腔用組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102008035867A1 (de) | 2010-02-04 |
JP5518064B2 (ja) | 2014-06-11 |
BRPI0916603A2 (pt) | 2015-11-10 |
BRPI0916603B1 (pt) | 2019-05-21 |
KR101616590B1 (ko) | 2016-04-28 |
US20110136919A1 (en) | 2011-06-09 |
CN102112396B (zh) | 2014-08-27 |
RU2541063C2 (ru) | 2015-02-10 |
WO2010012638A1 (de) | 2010-02-04 |
RU2011107350A (ru) | 2013-06-20 |
PL2303777T3 (pl) | 2013-07-31 |
TWI503278B (zh) | 2015-10-11 |
PT2303777E (pt) | 2013-06-03 |
EP2303777A1 (de) | 2011-04-06 |
CN102112396A (zh) | 2011-06-29 |
ES2409712T3 (es) | 2013-06-27 |
CA2732596A1 (en) | 2010-02-04 |
EP2303777B1 (de) | 2013-03-20 |
TW201016604A (en) | 2010-05-01 |
MX2011001126A (es) | 2011-03-29 |
US8962519B2 (en) | 2015-02-24 |
KR20110052671A (ko) | 2011-05-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5518064B2 (ja) | 支持体用途のための新種の沈降シリカ | |
US11458454B2 (en) | Granular functionalized silica, process for preparation thereof and use thereof | |
JP5777697B2 (ja) | 粗粒状の担体シリカ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120528 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120528 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130917 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20131217 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20131225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140303 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140401 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5518064 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |