JP2011522769A5

JP2011522769A5 -

Info

Publication number: JP2011522769A5
Application number: JP2011511598A
Authority: JP
Filing date: 2009-05-14
Publication date: 2012-06-07
Anticipated expiration: 2029-05-14

Claims

レーザから出力を受け取る入力部と、前記出力を、ビームウエストを有している細長いレーザビームに集束させるビーム形成光学部品とを備えている光ヘッドであって、前記ビームウエストが中心を有し、前記細長いレーザビームが、前記ビームウエストの前記中心に対して相対的に約±５ｍｍを超える拡張焦点深度を有し、該細長いレーザビームが、前記拡張焦点深度全域に亘って、該拡張焦点深度の範囲内にその一部が配置されている材料に罫書きするのに十分な出力密度を有している、光ヘッド、および、
前記光ヘッドと連結され、該光ヘッドに前記出力を提供するレーザ、
を備えていることを特徴とするシステム。
前記レーザと前記光ヘッドとの間に配置されたビーム拡大器をさらに備え、該ビーム拡大器が、前記レーザから前記出力を受け取って、該レーザからの出力を、ウエストおよび中心を有している拡大されたレーザビームに拡大し、そして該拡大されたレーザビームを前記光ヘッドに伝送するものであり、さらに、前記ビーム拡大器が固定された位置にあり、かつ前記光ヘッドが前記ビーム拡大器に対して動くフライング光ヘッドであり、
前記フライング光ヘッドが約０．５ｍから約６ｍの浮動距離を有し、さらに、前記ビーム拡大器が、前記拡大されたレーザビームの前記ウエストの前記中心を前記浮動距離の略中心に投影するように構成されていることを特徴とする、請求項１記載のシステム。
前記拡張焦点深度が最大で約±２０ｍｍであり、さらに、前記細長いレーザビームがビーム長およびビーム幅を有し、前記拡張焦点深度の範囲に亘る、前記ビーム幅の変動が±５％未満でありかつ前記ビーム長の変動が±２％未満であることを特徴とする、請求項１記載のシステム。
前記拡張焦点深度全域に亘る前記出力密度の変動が約５％以下であることを特徴とする請求項３記載のシステム。
平坦なガラスシートを製造するプロセスにおいて、
ガラス製造装置でガラスを製造する工程、および、
前記ガラスに罫書きしかつガラスシートに分割することにより、前記ガラスから平坦なガラスシートを分割する工程であって、前記ガラスが製造されるときに該ガラスに罫書きするよう位置付けられた罫書き装置でレーザビームを生成することにより、罫書きを実行する工程、
を含み、前記罫書き装置が、
レーザと、
該レーザからレーザビームを受け取るように位置付けられ、かつ該レーザビームを、中心を備えたウエストを有している拡大されたレーザビームに拡大する、ビーム拡大器と、
前記拡大されたレーザビームを受け取るように位置付けられ、中心を有する浮動距離に亘り前記ビーム拡大器に対して可動である、フライング光ヘッドと、
を備え、
前記ビーム拡大器が、前記拡大されたレーザビームの前記ウエストの前記中心が前記浮動距離の略前記中心となるように、前記拡大されたレーザビームを形成するものであり、
前記フライング光ヘッドが、前記拡大されたレーザビームを、中心を備えたビームウエストを有している細長いレーザビームに変化させるように構成され、該細長いレーザビームが、該細長いレーザビームの前記ウエストの前記中心に対して相対的に±５ｍｍを超える拡張焦点深度を有し、該細長いレーザビームが、前記拡張焦点深度全域に亘って、前記ガラスに罫書きするのに十分な出力密度を有しているものであり、
さらに、前記ガラス製造装置および前記罫書き装置が、該ガラス製造装置によって製造されるガラスの一部が前記拡張焦点深度の範囲内に配置されるように互いに対して配置されていることを特徴とする、平坦ガラスシート製造プロセス。
前記罫書き装置が、前記レーザと前記光ヘッドとの間に配置されたビーム拡大器をさらに備え、該ビーム拡大器が、前記レーザから前記出力を受け取って、該レーザからの出力を、ウエストおよび中心を有している拡大されたレーザビームに拡大し、そして該拡大されたレーザビームを前記光ヘッドに伝送するものであり、さらに、前記ビーム拡大器が固定された位置にあり、かつ前記光ヘッドが前記ビーム拡大器に対して動くフライング光ヘッドであり、
前記フライング光ヘッドが約０．５ｍから約６ｍの浮動距離を有し、さらに、前記ビーム拡大器が、前記拡大されたレーザビームの前記ウエストの前記中心を前記浮動距離の略中心に投影するように構成されていることを特徴とする、請求項５記載のプロセス。
前記拡張焦点深度が最大で約±２０ｍｍであり、さらに、前記細長いレーザビームがビーム長およびビーム幅を有し、前記拡張焦点深度の範囲に亘る、前記ビーム幅の変動が±５％未満でありかつ前記ビーム長の変動が±２％未満であることを特徴とする、請求項５記載のプロセス。
前記拡張焦点深度全域に亘る前記出力密度の変動が約５％以下であることを特徴とする請求項７記載のプロセス。