JP2011517060A - チャンバシーズニングによるプラズマ浸漬イオン注入プロセスおよびウェーハをデチャックするためのシーズニング層のプラズマ放電 - Google Patents
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Claims (15)
- プラズマ反応器内で一連の半導体ウェーハをイオン注入する方法であって、
チャンバ内にシリコン含有ガスおよび酸素含有ガスを導入し、前記チャンバ内に堆積プラズマを生成し、そして静電チャックのウェーハ支持表面を含む前記チャンバの内部表面に目標厚さの酸化シリコンシーズニング層が堆積されるまで、前記堆積プラズマを維持するステップと、
前記チャンバ内にアルゴンガスを導入し、前記チャンバ内に導電性の放電プラズマを生成し、そして前記シーズニング層内の残留静電荷が放電されるまで、前記導電性の放電プラズマを維持するステップと、
一連の半導体ウェーハのそれぞれに対して、
(a)前記反応器内に前記半導体ウェーハを導入し、前記シーズニング層で被覆されたウェーハ支持表面に前記ウェーハを静電クランプするステップと、
(b)前記チャンバ内に半導体ドーパント不純物含有ガスを導入し、前記チャンバ内にイオン注入プラズマを生成し、そして所望のイオン注入線量に到達するまで、前記イオン注入プラズマを維持するステップと、
(c)前記ウェーハ支持表面から前記ウェーハをデチャックし、前記ウェーハを前記チャンバから除去するステップと、
(d)前記一連のウェーハのうちの次のウェーハに対して(a)、(b)、および(c)を繰り返すステップと、
所定の数のウェーハに対して(a)、(b)、(c)、および(d)を実行した後、前記チャンバ内にエッチング剤種含有ガスを導入し、前記チャンバ内にエッチプラズマを生成し、そして前記シーズニング層が前記チャンバ内部表面から除去されるまで、前記エッチプラズマを維持するステップとを含む、方法。 - ステップ(c)の後、ステップ(d)の前に、
(i)前記チャンバ内にシリコン含有ガスおよび酸素含有ガスを導入し、前記チャンバ内に堆積プラズマを生成し、そして前記酸化シリコンシーズニング層の厚さが、(b)中に発生する厚さ損失に対応する量だけ補充されるまで、前記堆積プラズマを維持するステップを実行するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。 - ステップ(i)の後に、
(ii)前記チャンバ内にアルゴンガスを導入し、前記チャンバ内に導電性の放電プラズマを生成し、そして前記シーズニング層内の残留静電荷が放電されるまで、前記導電性の放電プラズマを維持するステップを実行するステップをさらに含む、請求項2に記載の方法。 - 前記目標厚さが、連続するいくつかのウェーハのイオン注入中に前記シーズニング層が最小閾値を上回る厚さを保持するのに十分なほど大きい、請求項1に記載の方法。
- 前記最小閾値が3000Åである、請求項4に記載の方法。
- 前記目標厚さが約4000から9000Åの範囲内である、請求項4に記載の方法。
- 前記連続するいくつかのウェーハが約10個である、請求項4に記載の方法。
- 前記厚さ損失が約1000Åである、請求項2に記載の方法。
- 前記目標厚さが、選択された連続するいくつかのウェーハのイオン注入中に前記シーズニング層が最小閾値を上回る厚さを保持するのに十分ではない、請求項2に記載の方法。
- 前記最小閾値が3000Åである、請求項4に記載の方法。
- 前記目標厚さが約4000から9000Åの範囲内である、請求項4に記載の方法。
- 前記連続するいくつかのウェーハが約15〜20個である、請求項4に記載の方法。
- プラズマ反応器内で一連の半導体ウェーハをプラズマ浸漬イオン注入する方法であって、
最初の厚さのシリコン含有シーズニング層で、ウェーハ支持表面を含む前記反応器の内部表面を被覆するステップと、
前記シーズニング層から残留静電荷を除去するのに十分な時間にわたって、チャンバ内で不活性種のプラズマを維持するステップと、
前記連続するいくつかのウェーハのそれぞれに対して、現在のウェーハを前記チャンバ内に導入し、前記ウェーハ内で所望のイオン注入線量を実現するのに十分な時間にわたって、前記チャンバ内でイオン注入プラズマを維持し、前記現在のウェーハを前記反応器から除去し、そして前記一連のウェーハのうちの次のウェーハを前記チャンバ内に導入するステップとを含む、方法。 - 前記現在のウェーハを除去する前記ステップの後、前記次のウェーハを導入する前記ステップの前に、
(i)前記シーズニング層上に対応する量のシリコン含有シーズニング材料を堆積させることによって、前記チャンバ内の前記現在のウェーハの処理中に発生した前記シーズニング層からの材料の部分的な損失を補償するステップを実行するステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。 - ステップ(i)に続いて、
(ii)前記シーズニング層から残留静電荷を除去するのに十分な時間にわたって、前記チャンバ内で不活性種のプラズマを維持するステップをさらに含む、請求項14に記載の方法。
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