JP2011516646A - 疎水化された二酸化ケイ素粒子を含有する分散液 - Google Patents

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Abstract

疎水化された二酸化ケイ素粒子及びそれぞれ1種又はそれ以上の分散助剤、塩基性組成物を含有し、かつ、着色顔料、不活性充填剤及び結合剤不含である水性分散液において、−疎水化された二酸化ケイ素粒子が30〜60のメタノール湿潤度を有し、かつ分散液中で0.1〜50質量%の割合で存在し、水の割合は、分散液に対して30〜90質量%であり、分散助剤は、8〜18個の炭素原子を有するエトキシ化アルコールの少なくとも1種のリン酸エステルであり、この割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して3〜25質量%であり、塩基性組成物は、一般式RNH、RNH及びRN[式中、Rは、それぞれ2〜10個の炭素原子を有するアルキル基又はヒドロキシル置換されたアルキル基である]の1種又はそれ以上のアミンを含有するかあるいはこれらのアミンから成るものであり、かつ、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して5〜30質量%の割合で存在し、さらに分散液は、2〜15個の炭素原子を有する1種又はそれ以上のポリオールを含有し、この割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して1〜10質量%であり、その際、リン酸エステル、塩基性組成物及びポリオールは、分散液の水相中で可溶性であり、かつ、分散液のpHは9〜11であることを特徴とする、前記水性分散液。

Description

本発明は、疎水化された二酸化ケイ素粒子を含有する水性分散液及び製造方法及びその使用に関する。さらに本発明は、疎水化された二酸化ケイ素粒子を含有する配合物及び製造方法及びその使用に関する。
分散液の製造における重要なファクターは:
−加工中の充填剤及び顔料の良好な湿潤、これは、分散時間及び分散エネルギーの導入を減少させることを可能にし;
−しばしば、分散液の極めて低い粘度が望ましく;
−乾燥後に、高い光沢を達成すべきことであり;
−分散液の固相の沈降傾向は、長い貯蔵、長距離又は極度の天候ストレス下での輸送の過程を含めて、最小限でなければならず;
−分散液中において凝集が生じるべきではなく;これは特に、現在における通常の色混合機を使用する場合に、再現可能な色相の製造において顕著であり;
−この分散液は、多くの添加剤と相溶性でなければならない。
これらのファクターを考慮して、一般に、分散液には分散剤を添加する。この目的のために、多くの水溶性分散剤がすでに提案されており、例えば、高価でないイオン構造をベースとする分散剤、たとえばポリリン酸塩(Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Sixth Edition, Point 3.2.6., 2002; Th. Staffel, Farbe & Lack 100, 1994)及びポリアクリル酸(WO-A-02/14415, WO-A-01/60925, J. Schroder, Farbe & Lack 91, 1985, 11; R. Hildred, Farbe & Lack, 1990, 857-859)又は両親媒性構造をベースとする分散剤、すなわち、定められた疎水性及び親水性ブロックを有し、非イオン性の脂肪族アルコールエトキシレート又はアルキルフェノールエトキシレートをベースとするもの、又はこれらのアニオン変性誘導体である。
にもかかわらず、疎水化された二酸化ケイ素粒子を含有する幾つかの高く充填された、低い粘度の、安定な水性分散液のみが、今日までに知られているに過ぎない。高く充填された分散液は好ましく、それというのも、これは輸送コストを低くすることが可能であるためであって、かつ、これらを高く充填されたコーティング分散液中に混合した場合には、高い含水量を有する生成物で再度希釈されるべきではないためである。
DE-A-10316661 は、高く充填された、低い粘度の分散液を開示しており、この場合、これは5〜50質量%の疎水化された二酸化ケイ素粒子を含有し、かつ一般式
−COO−(CH−CH(Ph)−O)−(C2n−x −O)−Rの分散剤を含有する。しかしながら、この分散液は、適用において適度に長時間持続性のコーティングのみを導くものにすぎない。
したがって本発明の課題は、疎水化された二酸化ケイ素粒子を高い割合で有する低粘度の分散液を提供することであり、この場合、これは、高い安定性及び、水性配合物へ加工した後において、再度、顕著な構造粘性を生じる。
本発明は、疎水化された二酸化ケイ素粒子及びそれぞれの場合において1種又はそれ以上の分散助剤、塩基性組成物を含有し、かつ着色顔料、不活性充填剤及び結合剤不含の水性分散液を提供し、この場合、これは、
−疎水化された二酸化ケイ素粒子が30〜60、好ましくは35〜55のメタノール湿潤度を有し、かつ分散液中に、0.1〜50質量%、好ましくは10〜30質量%の割合で存在し、
−水の割合は、それぞれ分散液に対して30〜90質量%であり、好ましくは50〜70質量%であり、
−分散助剤は、8〜18個の炭素原子を有するエトキシ化アルコールの少なくとも1種のリン酸エステルであり、その割合は疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して3〜25質量%、好ましくは6〜20質量%であり、かつより好ましくは9〜16質量%であり、
−塩基性組成物は、一般式RNH、RNH及びRN[式中、Rは2〜10個の炭素原子を有するアルキル基又はヒドロキシ置換されたアルキル基であり、この場合、これは置換又は非置換の、直鎖又は分枝の、非環式又は環式の基である]の1種又はそれ以上のアミンを含有するか、あるいはこれらアミンから成り、かつ、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対してそれぞれ5〜30質量%、好ましくは10〜20質量%及びより好ましくは12.5〜17.5質量%の割合で存在し、
−分散液はさらに2〜15個の炭素原子を有する1種又はそれ以上のポリオールを含有し、その割合は、それぞれ疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して1〜10質量%、好ましくは3〜7質量%であり、
−その際、リン酸エステル、塩基性組成物及びポリオールは、分散液の水相中で溶解性であり、かつ、
−分散液のpHは9〜11である、
ことを特徴とする。
水性分散液とは、分散液の液相に対して50質量%以上の水、より一般には70質量%以上の水を含有する分散液を意味するものと理解されるべきである。
本発明の分散液中で使用された疎水化された二酸化ケイ素粒子の疎水化の割合に関する条件に注目すべきであることを発見した。二酸化ケイ素粒子の疎水性が、高すぎるか又は低すぎる場合には、これは、本発明による分散液の安定性における悪影響を有する。疎水性に関する適した尺度はメタノール湿潤性である。
メタノール湿潤性の測定において、それぞれ0.2g(±0.005g)の疎水性二酸化ケイ素粒子を、透明な遠心管中で計量した。10、20、30、40、50、60、70及び80体積%のメタノールの8.0mlを、それぞれ計量した試料に添加した。密閉チューブを30秒に亘って振とうし、その後に2500/分で5分に亘って遠心分離した。沈殿物の体積を記録し、%に変換し、かつメタノール含量(体積%)に対してグラフにプロットした。カーブのターニングポイントは、メタノール湿潤度に相当する。メタノール湿潤度が高くなればなるほど、二酸化ケイ素粒子の疎水性は大きくなる。
本発明による分散液において、メタノール湿潤度は30〜60である。この条件を充足する適した市販の疎水化された二酸化ケイ素粒子は、たとえば、AEROSIL(R)R972, AEROSIL(R)R974, AEROSIL(R)R104, AEROSIL(R)R106及びAEROSIL(R)R9200(すべてEvonik Degussa)である。
疎水化された二酸化ケイ素粒子は、好ましくはフュームドシリカ粒子の疎水化によって得ることができる。ヒュームド粒子は、フレーム加水分解又はフレーム酸化により製造された粒子であると理解される。フュームドシリカ粒子は、たとえばUllmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry、第A23巻, 第635頁、第5版に記載されている。これらの粒子は、一般に、凝集された一次粒子の形で存在し、かつ、その表面において疎水化剤と反応することができる反応性部位を有する。本発明による分散液のために使用された疎水化された二酸化ケイ素粒子は、好ましくは50〜300m/g、より好ましくは70〜200m/g及び特に好ましくは90〜150m/gのBET表面積を有する。
さらに、本発明による分散液中で疎水化された二酸化ケイ素粒子が、200nm又はそれ未満の平均粒径(メジアン)を有する場合には有利であることが見出された。特に好ましくは100〜200nmの範囲である。
本発明による分散液の他の本質的成分は、8〜18個の炭素原子を含有するエトキシ化アルコールの少なくとも1種のリン酸エステルである。分散液は、好ましくは、一、二又は三置換された、直鎖C12〜C14−炭素鎖を有するエトキシ化第1級アルコールのリン酸エステルを含有する。
さらに、本発明による分散液は、一般式RNH、RNH及びRNの1種又はそれ以上のアミンを含有するか、あるいは、これらアミンから成る塩基性組成物を含有する。
塩基性組成物は、好ましくは、一般式RNH、RNH及びRNの1種又はそれ以上のアミンから成る。このアミンは、好ましくは、それぞれの場合において2〜10個の炭素原子を有する第1級、第2級又は第3級アミン又はアミノアルコールである。適した化合物は、例えばモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N,N−ジメチルイソプロパノールアミン、3−アミノ−1−プロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチルピロリドン、N−ビニル−5−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリドン及びピペリジンである。
特に好ましくは、N,N−ジメチルエタノールアミン(MeN(CHOH)を含有する本発明による分散液である。
本発明による分散液の他の本質的成分は、2〜15個の炭素原子を含有するポリオールである。ポリオールは、好ましくはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリット、ネオペンチルグリコール、グリセロール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチレングリコール、例えば2,4,7,9−テトラメチルデク−5−エン−4,7−ジオール、又はアセチレングリコール誘導体である。
本発明による分散液は、好ましくはトリプロピレングリコール、2,4,7,9−テトラメチルデク−5−エン−4,7−ジオール又はこれら2個の混合物を含有する。
本発明による水性分散液は、さらにN−メチル−2−ピロリドンを含有する。N−メチル−2−ピロリドンの割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して好ましくは1〜20質量%である。
さらに、N,N−ジメチルエタノールアミン及び1−メチル−2−ピロリドンを含有する水性分散液が有利であってもよい。
本発明による分散液はさらに、好ましくは1種又はそれ以上のシリコーン不含の消泡剤を含有していてもよい。これらの割合は、好ましくは、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対してそれぞれ0.5〜5質量%及びより好ましくは1〜3質量%である。
特に有利な本発明による分散液は、
−pH9〜11を有し、かつ
−疎水性二酸化ケイ素粒子を、分散液に対して10〜30質量%含有し、その際、メタノール湿潤度は40〜50であり、BET表面積は90〜150m/gを有し、
−一置換、二置換又は三置換された、1、2又は3個の直鎖のC12〜C14炭素鎖を有するエトキシ化第1級アルコールのリン酸エステルを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して9〜16質量%含有し、
−N,N−ジメチルエタノールアミンを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して5〜20質量%含有し、
−1−メチル−2−ピロリドンを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して10〜20質量%含有し、
−トリプロピレングリコールおよび2,4,7,9−テトラメチルデク−5−エン−4,7−ジオールを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対してそれぞれ3〜7質量%及び0.5〜1.5質量%含有し、
−1種又はそれ以上の消泡剤を、疎水化された二酸化珪素粒子の割合に対して1〜3質量%含有し、
−かつ、分散液に対して40〜70質量%の水を含有する。
本発明による水性分散液を製造するための適した分散装置は、水相により疎水性粉末を強力に湿潤することが可能な任意の装置である。コーティング産業において、この目的のためには、通常ディソルバーを使用しており、その相対的に単純な構造は、メンテナンス不要であり、かつ洗浄容易な製造様式を可能にする。しかしながら、得るべき疎水性ヒュームドシリカの水性分散液の要求される粘度又は他の充填レベルによれば、強力な分散及び後粉砕が必要である。後粉砕は、例えば攪拌ボールミル中で実施することができる。しかしながら、ローター/ステーター機を用いての強力な剪断は多くの場合において十分である。湿潤および分散手段の適切な組合せは、ローター/スターター機(Ystral)のものであり、この場合、これは、粉末の吸い込みを可能にし、かつ粉末の取り入れ口を閉じた後に、強力な剪断によって分散することを可能にする。
特にローター/スターター機の場合には、その中に空気が吸い込まれ、したがって、気泡が生じうるものであり、要求された水の量のみを最初に装填し、かつ疎水性二酸化ケイ素の量を混合することが有利であることが見出された。混合すべき疎水性二酸化ケイ素の全量に対して約25質量%の特定の量の疎水性二酸化ケイ素から、その消泡作用は検出可能である。その後にのみ、さらに添加すべき水及び疎水性二酸化ケイ素の割合及び分散液の他の構成成分を添加する。
本発明はさらに、疎水化された二酸化ケイ素粒子、1種又はそれ以上の結合剤、1種又はそれ以上の分散助剤及び塩基性組成物を含有する配合物を提供し、その際、
−疎水化された二酸化ケイ素粒子は30〜60、好ましくは35〜55のメタノール湿潤度を有し、かつ、配合物中に0.05〜5質量%の割合で存在し、
−分散助剤は、8〜18個の炭素原子を有するエトキシ化アルコールの少なくとも1種のリン酸エステルであり、その割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対してそれぞれ3〜25質量%、好ましくは6〜20質量%及びより好ましくは9〜16質量%であり、
−塩基性組成物は、一般式RNH、RNH及びRN[式中、Rは2〜10個の炭素原子を有するアルキル基又はヒドロキシ置換されたアルキル基であり、この場合、これは置換又は非置換の、直鎖又は分枝の、非環式又は環式の基である]の1種又はそれ以上のアミンを含有するか、あるいはこれらアミンから成り、かつ、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対してそれぞれ5〜30質量%、好ましくは10〜20質量%及びより好ましくは12.5〜17.5質量%の割合で存在し、
−分散液はさらに2〜15個の炭素原子を有する1種又はそれ以上のポリオールを含有し、その割合は、それぞれ疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して1〜10質量%、好ましくは3〜7質量%であり、かつ、
−配合物のpHは9未満、好ましくは8〜8.9である、
適した結合剤は、ペント及びコーティング技術において常用の樹脂であってもよく、例えば"Lackharze, Chemie, Eigenschaften und Anwendungen [Coating resins, chemistry, properties and applications], Eds. D. Stoye, W. Freitag, Hanser Verlag, Munich, Vienna, 1996"に記載されている。
例は、(メタ)アクリル酸及びそのエステルのポリマー及びコポリマーを含み、これは場合によって有する他の官能基は、他のオレフィン系不飽和化合物、例えばスチレン、ポリエーテルポリオール、ポリエスエルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリウレタンポリオール及びエポキシ樹脂、かつさらにこれらのポリマーの任意の混合物であり、かつさらには、重縮合によって製造された脂肪酸変性「アルキド樹脂」であり、この場合、これらは、Ullmann、第3版、第11巻、第334頁以降に記載されている。
さらに、使用されたポリマー成分は、ヒドロキシル基を有する有機化合物であってもよく、例えばポリアクリレート−、ポリエステル−、ポリカプロラクトン−、ポリエーテル−、ポリカーボネート−及びポリプレタンポリオールであり、かつヒドロキシ官能性エポキシ樹脂及びさらにはこれらポリマーの任意の混合物であってもよい。特に、水性の、あるいは溶剤含有又は溶剤不含のポリアクリレート−及びポリエステルポリオール及びこれらの任意の混合物を使用する。
ポリアクリレートポリオールは、ヒドロキシル基を有するモノマーと、他のオレフィン系不飽和モノマー、例えば(メタ)アクリル酸エステル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ビニルエステル、モノ及びジアルキルマレエート及びフマレート、α−オレフィン及び他の不飽和オリゴマー及びポリマーとのコポリマーである。
本発明による配合物はさらに、有色顔料及び/又は不活性充填剤を含有していてもよい。
着色顔料は有機性又は無機性であってもよい。
例は硫酸バリウム、酸化鉛、ケイ酸鉛、酸化鉄、フタロシアニン錯体、二酸化チタン、酸化亜鉛及び硫化亜鉛を含む。
本発明による配合物はさらに、不活性充填剤を含有していてもよい。不活性充填剤は、当業者に公知の充填剤を意味するものと理解され、かつ配合物のレオロジー特性に、ほぼ取るに足らない程度の影響を与えるものである。例は炭酸カルシウム、ケイソウ土、雲母、カオリン、チョーク、石英及び滑石を含む。
着色顔料及び/又は不活性充填剤は、典型的には、全体として配合物の全固体含量に対して10〜70質量%、好ましくは30〜50質量%の割合で存在する。
配合物の全固体含量は、この場合、疎水化された二酸化ケイ素粒子、結合剤及び任意の顔料及び不活性充填剤から成るが、配合物に対して、好ましくは40〜60質量%である。
本発明はさらに配合物を製造するための方法を提供し、この場合、これに、本発明による水性分散液を使用する。
さらに本発明は、本発明による水性分散液又は本発明による配合物の、自動車工業における水系サーフェイサーに対する添加剤として、缶コーティング及びコイルコーティングプロセス中のコーティング成分として、水ベースのUV硬化可能な配合物中の添加剤として、例えば木材保護のため、及びコーティング保護フィルムの成分としての使用を提供する。
pHを関数としての分散液の粘度変化(mPas)を示す図 樹脂C及びDをベースとする配合物(コーティング材料)のフローカーブを示す図 樹脂C及びDをベースとする配合物(コーティング材料)の降伏カーブを示す図
実施例
例1(本発明による例):
6.36kgの Hydropalat(R)7003(Cognis)、1.27kgのジメチルエタノールアミン(DMEA)、0.19kgのBYK(R)011(Byk Chemie)、0.19kgのSurfynol(R)104(Air Products)、1.91kgの1−メチル−2−ピロリドン及び0.63kgのトリプロピレングリコールを、攪拌しながら21.19kgの水中に導入した。
混合に引き続いて疎水化された二酸化ケイ素粒子を、Conti TDS 3 ローター−ステーター機を用いての吸い込みによって取り込み開始した。約30分後に、12.80kgのAerosil(R) R972(Evonik Degussa)を吸い込んだ。剪断をさらに30分に亘って継続し、引き続いて16.15kgの脱塩水で希釈した。
21質量%の疎水化された二酸化ケイ素粒子を有する分散液が得られた。分散液のpHは10であった。これを塩酸(1M)の添加によって値を調整して4まで低下させた。
この分散液はD1である。
例2(本発明による例):
ジャケット付き分散容器を、312.5gの脱塩水、100.0gのHydropalat(R) 7003、6.0gのDMEA、3.0gのBYK(R) 011、3.0gのSurfynol(R) 104 E、30.0gの1−メチル−2−ピロリドン及び10.0gのトリプロピレングリコールで最初に装填し、この場合、これを、Dispermat(R)実験室用ディソルバー(VMA-Getzmann GmbH)(直径70mmの歯付きディスク)を用いて、1分あたり200回転で混合した。Aerosil(R) R972をその後に少量ずつ添加し、かつ1分間あたり2400回転で分散させた。約80gのAerosil(R) R972の後、さらにAerosil(R) R972をさらなる水と交互に添加した(水の量の合計339.5g)。170gのAerosil(R) R972で、水の全量を添加した。その後に、さらに30gのAerosil(R) R972及び6gのDMEAを交互に分散液中に混合した。合計で、200gのAerosil(R) R972を混合した(20%分散液)。引き続いて、分散を1分あたり2400回転でディソルバーを用いてさらに15分に亘って継続した。アエロジル(Aerosil)の良好な分散を達成するために、最終的な分散を1分あたり7000回転で、Ultra Turrax(Ika-Werke社のUltra Turrax T50 型のローター/ステーターユニット、S50N-G45G分散ツールを有する)を用いて30分に亘っておこなった。この過程において、ジャケット付き分散容器を水で冷却して、温度を約30℃にした。
分散液のpHは10.2であり、10s−1での粘度は82mPasであり、かつ100s−1での粘度は72mPasである(実施例において報告されたすべての粘度の値は、23℃の温度に基づくものである)。
例3(本発明による例):ジャケット付き分散容器を、312.5gの脱塩水、100.0gのHydropalat(R) 7003、6.0gのDMEA、3.0gのBYK(R) 011、3.0gのSurfynol(R) 104 E、30.0gの1−メチル−2−ピロリドン及び10.0gのトリプロピレングリコールで最初に装填し、この場合、これは、Dispermat(R)実験室用ディソルバー(VMA-Getzmann GmbH)(直径70mmの歯付きディスク)を用いて、1分当たり200回転で混合した。その後にAerosil(R) R974を少量ずつ添加し、かつ1分当たり2400回転で分散させた。約70gのAerosil(R) R974の後に、さらなるAerosil(R) R974をさらなる水と交互に添加した(水の量の合計339.5g)。170gの Aerosil(R) R974で、水の全量を添加した。その後に、さらに30gのAerosil(R) R974及び6gのDMEAを交互に分散液中に混合した。引き続いて、分散を、ディソルバーを用いて1分当たり2400回転でさらに15分に亘って継続した。アエロジルの良好な分散を達成するために、最終的な分散を1分当たり7000回転で、Ultra Turrax(Ika-Werke社のUltra Turrax T50 型のローター/ステーター分散ユニット、S50N-G45G分散ツールを有する)を用いて30分に亘っておこなった。この過程において、ジャケット付き分散容器を水で冷却して、温度を約30℃にした。
分散液のpHは10.1であり、10s−1での粘度は1036mPasであり、かつ100s−1での粘度は390mPasである。
例4(比較例):
ジャケット付き分散容器を、312.5gの脱塩水、100.0gのHydropalat(R) 7003、6.0gのDMEA、3.0gのBYK(R) 011、3.0gのSurfynol(R) 104 E、30.0gの1−メチル−2−ピロリドン及び10.0gのトリプロピレングリコールで最初に装填し、この場合、これは、Dispermat(R)実験室用ディソルバー(VMA-Getzmann GmbH)(直径70mmの歯付きディスク)を用いて、1分当たり200回転で混合した。その後にAerosil(R) R202を少量ずつ添加し、かつ1分当たり2400回転で分散させた。粉末は極めて乏しく湿潤し、かつ劣悪にのみ分散した。44gのみ(9質量%)の後に、分散液は極めて粘性となり、もはやさらなるAerosil(R) R202を混合することはできなかった。
例5(比較例):ジャケット付き分散容器は、312.5gの脱塩水、6.0gのDMEA、3.0gのBYK(R)011、3.0gのSurfynol(R)104 E、30.0gの1−メチル−2−ピロリドン及び10.0gのトリプロピレングリコールで最初に装填し、この場合、これは、Dispermat(R)実験室用ディソルバー(VMA-Getzmann GmbH)(直径70mmの歯付きディスク)を用いて、1分当たり200回転で混合した。その後にAerosil(R) R972を少量ずつ添加し、かつ1分当たり2400回転で分散させた。粉末は極めて乏しく湿潤し、かつ劣悪にのみ分散した。44gのみ(10質量%)の後に、分散液は極めて粘性となった。
さらなる水の添加(104g)によってさえも何ら顕著な改善を導くこともなく;さらに6gの Aerosil(R)R972のみを分散することができた。2.8gのDMEAのさらなる分散も何ら改善を導くことはなかった。
例6(比較例):ジャケット付き分散容器を、312.5gの脱塩水、100.0gのHydropalat(R)7003、6.0gのDMEA、3.0gのBYK(R)011、3.0gのSurfynol(R)104 E及び30.0gの1−メチル−2−ピロリドンで最初に装填し、この場合、これは、Dispermat(R)実験室用ディソルバー(VMA-Getzmann GmbH)(直径70mmの歯付きディスク)を用いて、1分当たり200回転で混合した。その後にAerosil(R)R972を少量ずつ添加し、かつ1分当たり2400回転で分散させた。約80gのAerosil(R)R972の後に、さらにAerosil(R)R972をさらなる水と交互に添加した(水の量の合計339.5g)。160gのAerosil(R)R972で、水の全量を添加した。その後にさらに40gのAerosil(R)R972及び6gのDMEAを分散液中に交互に混合した。全量で200gのAerosil(R)R972を混合した(20%分散液)。
引き続いて、分散を1分当たり2400回転でディソルバーを用いてさらに15分に亘って継続した。アエロジルの良好な分散を達成するために、最終的な分散を1分当たり7000回転で、Ultra Turrax(Ika-Werke社のUltra Turrax T50 型のローター/ステーター分散ユニット、S50N-G45G分散ツールを有する)を用いて30分に亘っておこなった。この過程において、ジャケット付き分散容器を水で冷却して、温度を約30℃にした。 分散液のpHは10.1であり、10s−1での粘度は69mPasであり、かつ100s−1での粘度は57mPasである。
超音波を用いての処理であってさえも、脱気は困難であり、したがって、ペイント及びコーティング分野の適用に関しては制限される。
例7(比較例):100gのAerosil(R)R972を、約2500rpmの設定でディソルバーを用いて、192.5gの脱塩水、分散剤C1837−COO−(CO)100Hとアミンオキシド含有マレイン酸無水物コポリマー(EP-A-1026178、例1)との88gの混合物、この場合、これは混合比85:15であり、水中40%溶液として、及び7.5gのTego Foamex(R)810(Degussa AG)中に、少量ずつ添加した。1.79gの90%の2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール溶液を使用して、pH10に維持した。残りの110.21gの脱塩水を添加した後に、混合物をさらに3000rpmで15分に亘ってホモジナイズした。実際の分散を、引き続いて7000rpmで30分に亘ってUltra Turrax を用いて実施した。
50(v)は193nm;粘度は10s−1で310mPas、及び100s−1で275mPas。
第1表は、例1〜7の分散液の組成及び特性を示す。
本発明による例1〜3は、低い粘度の分散液を導き、この場合、これは長い貯蔵の過程においてさえも顕著に増加することはなかった。第2表は、分散液製造直後、1ヶ月の貯蔵及び6ヶ月の貯蔵後に、剪断速度(s−1)の関数として、例1中で製造された分散液の粘度(mPas)の値を示したものである。
疎水化された二酸化珪素粒子の平均粒径d50(メジアン)も同様の挙動を示した。これは、製造直後に156nm、1ヶ月の貯蔵後に174nmであり、かつ6ヶ月の貯蔵後に194nmであった。
図1は、pHの関数としての粘度(mPas)を示す。9〜11の範囲において、分散液は特に低い粘度を示す。pH値が9未満の場合には、再度粘度が上昇する。この構造粘性は、例えばさらに充填剤及び/又は着色顔料を含有する分散液の安定性の増加を導くが、それというのも、これらの沈降を顕著に減少させるためである。
Figure 2011516646
Figure 2011516646
比較例4は、使用された疎水化された二酸化ケイ素粒子のメタノール湿潤性の影響を示す。比較例4において、メタノール湿潤度75を有するAerosil(R)R202を使用し、本発明による例1及び2のAerosil(R)R972と比較した。 Aerosil(R)R972及びAerosil(R)R974は比較可能なBET表面積を有している。にもかかわらず、小さい割合のみを混合することができる。
これとは対照的に、本発明による例3は、Aerosil(R)R972よりも高いBET表面積を有するが、比較可能なメタノール湿潤度を有するAerosil(R)R974が、高い割合で混合することができることを示す。
比較例5は、本発明による分散液の特性におけるリン酸エステルの影響を示す。この場合において、疎水化された二酸化ケイ素粒子は極めて劣悪に湿潤され、かつ結果、低い充填剤含量を有する高い粘度の分散液である。
比較例6は、本発明による分散液の特性におけるポリオールの影響を示す。ポリオールの十分な量を用いることなしに、分散液の十分な起泡は達成されない。粒度測定において、高い直径を有するフラクションが測定された。
比較例7は、DE-A-10316661(例1)からのものである。第1表は、この分散液の粘度が、本発明による例1及び2の粘度よりも約4倍高いことを示す。
結合剤及び着色顔料及びさらに適切な場合には不活性充填剤を含有する配合物の塗布は、少なからず単純化され、それというのも、塗布後の分散液の流れ(runoff)が生じないためである。剪断下、すなわち、プロセスの過程において、低い粘度が達成ので、配合物は、噴霧又はその他浸漬により極めて効率的に加工することができる。特に浸漬の場合において、低い粘度は、超微細なキャビティー及びギャップにも流すために必要とされる。
結合剤、着色顔料及び不活性充填剤を含有する配合物の例を以下に挙げる。
Figure 2011516646
Figure 2011516646
Figure 2011516646
Figure 2011516646
Figure 2011516646
配合物の製造及び試験(コーティング材料)
予備分散:練り顔料(mill base)を、ディソルバーを用いて5分混合する。
分散:練り顔料を、Dispermat SL 603、100mlの1mmガラスビーズを用いて3000rpmで、つぶゲージが<10μmになるまで分散する。
レットダウン:前記練り顔料を最初に装填し、かつレットダウン混合物、添加剤混合物及び水を攪拌しながら添加した。ディソルバーを用いてのホモジナイズを5分おこなった。
コーティング材料の粘度:
−コーティング材料:フローカーブ及び降伏試験
−フローカーブ:予備剪断=50s−1(30s)、残り(600s)、測定=0.1s−1〜500s−1(150s)
−降伏試験:500s−1で120s、0.5s−1で300s
塗布:エリクセン(Erichsen)自動塗布装置及び流れブレード(runoff blade)を用いて18mm/sでおこなった。ガラスプレートを3分間垂直に置き、その後に、流れを評価した。
沈降挙動:試料を20℃及び40℃で4週間に亘って貯蔵し、かつその後に沈殿物高さを定規で測定した。沈殿物と上清相との%比はこの値から算定し、かつ結果として示した。
結果
Figure 2011516646
Figure 2011516646
沈降挙動:ここで上清相は、コーティング材料の全充填レベルに対する%として示され、小さい値は、良好な浮きまだら挙動または抗沈降挙動を意味する。
Figure 2011516646
Figure 2011516646
第10表及び第11表に関する値は%で示す。
流れ挙動:隣りの最も厚い試験板に流れが拡大しない流れ限界値を試験した。
Figure 2011516646
図2および3は、樹脂C及びDをベースとする配合物(コーティング材料)のフローおよび降伏カーブを示すものである。
図2A及び図2Bに関して:
白抜き四角 コーティング材料C0、 黒塗り丸 コーティング材料C2、 白抜き菱形 コーティング材料C4、 黒塗り四角 コーティング材料C6
図3A及び図3Bに関して:
白抜き四角 コーティング材料D0、 黒塗り丸 コーティング材料D1、 白抜き菱形 コーティング材料D2、 黒塗り四角 コーティング材料D3。
図2A及び2Bに示されたフローカーブから、1質量%のAerosil(R)R 972を有する分散液をベースとする配合物が、顕著な構造粘性を生じることが明らかである。低い剪断速度において、これは、顔料及び不活性充填剤の極めて良好な安定化を可能にする。1質量%のBorchi Gelをベースとする配合物は、相対的に高い粘度を生じるが、しかしながらこれは、より高い剪断力でわずかにのみ減少する。しかしながら、低い粘度は、処理すべき表面のすべての領域に到達させるために、浸漬、ロール塗り、噴霧の過程において好ましい。
低い剪断速度での高い粘度の利点によって、材料を再度流し/浸漬することなしに、より厚い層を達成することが可能である。
対照的に、1質量%のAerosil(R) R 972粉末をベースとする配合物は、この挙動を有することはない。
図3A及び3Bに示された降伏カーブは、フローカーブによって決定された粘度が、剪断速度の急変の場合に、いかに迅速に再確立するかを示すことを意図している。理想的な構造粘性の場合には、粘度は、剪断速度が低下するやいなや、再度増加し、かつ一定の値を有する。
粘度における多少の遅延した上昇は好ましく、それというのも、コーティング材料/ペイントの良好なフローを達成するのに役立つためである。
迅速な粘度増加が、1質量%のAerosil(R)R 972を有する分散液をベースとする配合物に関して再度みられることは、降伏カーブから認識することができる。
図2A及び図2B: 白抜き四角 コーティング材料C0、 黒塗り丸 コーティング材料C2、 白抜き菱形 コーティング材料C4、 黒塗り四角 コーティング材料C6
図3A及び図3B: 白抜き四角 コーティング材料D0、 黒塗り丸 コーティング材料D1、 白抜き菱形 コーティング材料D2、 黒塗り四角 コーティング材料D3

Claims (14)

  1. 疎水化された二酸化ケイ素粒子及びそれぞれ1種又はそれ以上の分散助剤、塩基性組成物を含有し、かつ着色顔料、不活性充填剤及び結合剤不含である、水性分散液において、
    −疎水化された二酸化ケイ素粒子が30〜60のメタノール湿潤度を有し、かつ分散液中で0.1〜50質量%の割合で存在し、
    −水の割合は、分散液に対して30〜90質量%であり、
    −分散助剤は、8〜18個の炭素原子を有するエトキシ化アルコールの少なくとも1種のリン酸エステルであり、その割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して3〜25質量%であり、
    −塩基性組成物は、一般式RNH、RNH及びRN[式中、Rは、それぞれ2〜10個の炭素原子を有するアルキル基又はヒドロキシル置換されたアルキル基である]の1種又はそれ以上のアミンを含有するかあるいは当該アミンから成るものであり、かつ、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して5〜30質量%の割合で存在し、
    −分散液はさらに、2〜15個の炭素原子を有する1種又はそれ以上のポリオールを含有し、その割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して1〜10質量%であり、
    −その際、リン酸エステル、塩基性組成物及びポリオールは、分散液の水相中で可溶性であり、かつ、
    −分散液のpHは9〜11である、ことを特徴とする、前記水性分散液。
  2. メタノール湿潤度が35〜55である、請求項1に記載の水性分散液。
  3. 疎水化された二酸化ケイ素粒子が、発煙プロセス由来である、請求項1及び2に記載の水性分散液。
  4. 疎水化された二酸化ケイ素粒子の平均粒径(メジアン)が200nm又はそれ未満である、請求項1から3までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  5. リン酸エステルが、1、2個又は3個の直鎖C12〜C14炭素鎖を有するエトキシ化第1級アルコールの一、二及び/又は三置換されたリン酸エステルである、請求項1から4までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  6. N,N−ジメチルエタノールアミンを含有する、請求項1から5までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  7. トリプロピレングリコール、2,4,7,9−テトラメチルデク−5−エン−4,7−ジオール又はこれら2個の混合物を含有する、請求項1から6までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  8. N−メチル−2−ピロリドンを含有する、請求項1から7までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  9. 付加的に1種又はそれ以上の消泡剤を含有する、請求項1から8までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  10. 請求項1に記載の水性分散液において
    −pH9〜11を有し、かつ、
    −メタノール湿潤度40〜50、BET表面積90〜150m/gを有する疎水性二酸化ケイ素粒子を、分散液に対して10〜30質量%、
    −1個、2個又は3個の直鎖C12〜C14炭素鎖を有するエトキシ化第1級アルコールの一、二及び/又は三置換されたリン酸エステルを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して9〜16質量%、
    −N,N−ジメチルエタノールアミンを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して5〜20質量%、
    −1−メチル−2−ピロリドンを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して10〜20質量%、
    −トリプロピレングリコール及び2,4,7,9−テトラメチルデク−5−エン−4,7−ジオールをそれぞれ疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して3〜7質量%及び0.5〜15質量%、
    −1種又はそれ以上の消泡剤を、疎水化された二酸化ケイ素の割合に対して1〜3質量%、及び
    −水を、分散液に対して40〜70質量%
    含有する、請求項1に記載の水性分散液。
  11. 疎水化された二酸化ケイ素粒子、1種又はそれ以上の結合剤、1種又はそれ以上の分散助剤および塩基性組成物を含有する配合物において、
    −疎水化された二酸化ケイ素粒子が30〜60のメタノール湿潤度を有し、かつ0.05〜5質量%の割合で配合物中に存在し、
    −分散助剤が、8〜18個の炭素原子を有するエトキシ化アルコールの少なくとも1種のリン酸エステルであり、その割合が、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して3〜25質量%であり、
    −塩基性組成物が、一般式RNH、RNH及びRN[式中、Rは、それぞれ2〜10個の炭素原子を有するアルキル基又はヒドロキシル置換されたアルキル基である]の1種又はそれ以上のアミンを含有するかあるいはこれらアミンから成るものであり、かつ、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して5〜30質量%の割合で存在し、
    −分散剤はさらに、2〜15個の炭素原子を有する1種又はそれ以上のポリオールを含有し、その割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して1〜10質量%であり、かつ、
    −その際、配合物のpHは9未満である、前記配合物。
  12. さらに着色顔料及び/又は不活性充填剤を含有する、請求項11に記載の配合物。
  13. 請求項1から10までのいずれか1項に記載の水性分散液を使用する、請求項11及び12に記載の配合物を製造するための方法。
  14. 自動車工業における水系サーフェイサーに対する添加剤として、缶及びコイルコーティングプロセスにおけるコーティング成分として、水ベースのUV硬化可能な配合物における添加剤としての、請求項1から10までのいずれか1項に記載の水性分散液又は請求項11及び12のいずれか1項に記載の配合物の使用。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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CN111655802A (zh) * 2018-01-25 2020-09-11 卡博特公司 含水的疏水性二氧化硅分散体

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010043721A1 (de) 2010-11-10 2012-05-10 Evonik Degussa Gmbh Hydrophobierte Siliciumdioxidpartikel enthaltende Dispersion und Lackzubereitung
WO2014003827A1 (en) 2012-06-29 2014-01-03 3M Innovative Properties Company Silsesquioxane-like particles
US9810963B2 (en) 2013-03-07 2017-11-07 Switch Materials, Inc. Seal and seal system for a layered device
JP2017504057A (ja) 2013-12-19 2017-02-02 スイッチ マテリアルズ インコーポレイテッドSwitch Materials Inc. スイッチング可能な物体および製造方法
WO2015148226A1 (en) * 2014-03-28 2015-10-01 Buckman Laboratories International, Inc. Defoamer compositions and methods of using the same
KR102249481B1 (ko) * 2014-04-30 2021-05-07 코오롱인더스트리 주식회사 폴리에스테르 필름 및 이의 제조방법
CN110591416A (zh) * 2019-08-23 2019-12-20 广州凌玮科技股份有限公司 一种无定形二氧化硅防锈颜料的制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004075757A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Yamamoto Yogyo Kako Co Ltd 水系塗料組成物
JP2004351815A (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Fuji Photo Film Co Ltd シリカ分散液の製造方法及びインク吸収層塗液の製造方法
JP2006069870A (ja) * 2004-09-06 2006-03-16 Tokuyama Corp カチオン性樹脂変性シリカ分散液
JP2007056240A (ja) * 2005-07-26 2007-03-08 Tokuyama Corp カチオン性樹脂変性乾式シリカ分散液の製造方法
JP2007268790A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Fujifilm Corp シリカ分散液及びインクジェット記録媒体用塗布液
WO2007128636A2 (en) * 2006-05-04 2007-11-15 Evonik Degussa Gmbh Fumed silica dispersion
WO2008018434A1 (fr) * 2006-08-09 2008-02-14 Kao Corporation Encre aqueuse pour impression à jet d'encre

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4430369A (en) * 1982-06-01 1984-02-07 Nalco Chemical Company Silica sol penetration and saturation of thermal insulation fibers
JP3818689B2 (ja) * 1996-01-16 2006-09-06 富士写真フイルム株式会社 コロイド状シリカをコアとし、有機ポリマーをシェルとするコア/シェル状複合粒子の水性分散物及びその製造方法
DE19720269A1 (de) * 1997-05-14 1998-11-19 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Nanokomposit für thermische Isolierzwecke
DE19904603A1 (de) 1999-02-05 2000-08-10 Goldschmidt Ag Th Aminoxidgruppen enthaltende Maleinsäureanhydrid-Copolymere und ihre Verwendung als Dispergiermittel für Pigmente oder Füllstoffe
MXPA01001665A (es) 2000-02-18 2002-04-01 John Michael Friel Pinturas para el marcado de caminos,preparadas a partir de prepinturas; metodo y aparato para formar zonas y lineas marcadas en los caminos, con dichas pinturas y dispositivo para aplicar dichas pinturas
US6569920B1 (en) 2000-08-16 2003-05-27 Millennium Inorganic Chemicals, Inc. Titanium dioxide slurries having improved stability
DE10316661A1 (de) 2003-04-11 2004-11-04 Degussa Ag Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver
DE102006003956A1 (de) * 2006-01-26 2007-08-02 Degussa Gmbh Korrossionsschutzschicht auf Metalloberflächen

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004075757A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Yamamoto Yogyo Kako Co Ltd 水系塗料組成物
JP2004351815A (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Fuji Photo Film Co Ltd シリカ分散液の製造方法及びインク吸収層塗液の製造方法
JP2006069870A (ja) * 2004-09-06 2006-03-16 Tokuyama Corp カチオン性樹脂変性シリカ分散液
JP2007056240A (ja) * 2005-07-26 2007-03-08 Tokuyama Corp カチオン性樹脂変性乾式シリカ分散液の製造方法
JP2007268790A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Fujifilm Corp シリカ分散液及びインクジェット記録媒体用塗布液
WO2007128636A2 (en) * 2006-05-04 2007-11-15 Evonik Degussa Gmbh Fumed silica dispersion
WO2008018434A1 (fr) * 2006-08-09 2008-02-14 Kao Corporation Encre aqueuse pour impression à jet d'encre

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170088713A1 (en) * 2013-12-23 2017-03-30 Imerys Minerals Limited Aqueous suspension of inorganic particulate material
JP2017511778A (ja) * 2013-12-23 2017-04-27 イメリーズ ミネラルズ リミテッド 無機粒状物質の水性懸濁液
US10590276B2 (en) 2013-12-23 2020-03-17 Imertech Sas Aqueous suspension of inorganic particulate material
CN111655802A (zh) * 2018-01-25 2020-09-11 卡博特公司 含水的疏水性二氧化硅分散体

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