JP2011516646A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2011516646A5
JP2011516646A5 JP2011502316A JP2011502316A JP2011516646A5 JP 2011516646 A5 JP2011516646 A5 JP 2011516646A5 JP 2011502316 A JP2011502316 A JP 2011502316A JP 2011502316 A JP2011502316 A JP 2011502316A JP 2011516646 A5 JP2011516646 A5 JP 2011516646A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
proportion
silicon dioxide
dioxide particles
dispersion
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011502316A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011516646A (ja
JP5559143B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from EP08103321A external-priority patent/EP2107086B1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2011516646A publication Critical patent/JP2011516646A/ja
Publication of JP2011516646A5 publication Critical patent/JP2011516646A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5559143B2 publication Critical patent/JP5559143B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明による分散液は、好ましくはトリプロピレングリコール、2,4,7,9−テトラメチルデク−5−イン−4,7−ジオール又はこれら2個の混合物を含有する。
本発明はさらに、疎水化された二酸化ケイ素粒子、1種又はそれ以上の結合剤、1種又はそれ以上の分散助剤及び塩基性組成物を含有する配合物を提供し、その際、
−疎水化された二酸化ケイ素粒子は30〜60、好ましくは35〜55のメタノール湿潤度を有し、かつ、配合物中に0.05〜5質量%の割合で存在し、
−分散助剤は、8〜18個の炭素原子を有するエトキシ化アルコールの少なくとも1種のリン酸エステルであり、その割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対してそれぞれ3〜25質量%、好ましくは6〜20質量%及びより好ましくは9〜16質量%であり、
−塩基性組成物は、一般式RNH、RNH及びRN[式中、Rは2〜10個の炭素原子を有するアルキル基又はヒドロキシ置換されたアルキル基であり、この場合、これは置換又は非置換の、直鎖又は分枝の、非環式又は環式の基である]の1種又はそれ以上のアミンを含有するか、あるいはこれらアミンから成り、かつ、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対してそれぞれ5〜30質量%、好ましくは10〜20質量%及びより好ましくは12.5〜17.5質量%の割合で存在し、
配合物はさらに2〜15個の炭素原子を有する1種又はそれ以上のポリオールを含有し、その割合は、それぞれ疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して1〜10質量%、好ましくは3〜7質量%であり、かつ、
−配合物のpHは9未満、好ましくは8〜8.9である、
適した結合剤は、ペント及びコーティング技術において常用の樹脂であってもよく、例えば"Lackharze, Chemie, Eigenschaften und Anwendungen [Coating resins, chemistry, properties and applications], Eds. D. Stoye, W. Freitag, Hanser Verlag, Munich, Vienna, 1996"に記載されている。
Figure 2011516646

Claims (14)

  1. 疎水化された二酸化ケイ素粒子及びそれぞれ1種又はそれ以上の分散助剤、塩基性組成物を含有し、かつ着色顔料、不活性充填剤及び結合剤不含である、水性分散液において、
    −疎水化された二酸化ケイ素粒子が30〜60のメタノール湿潤度を有し、かつ分散液中で0.1〜50質量%の割合で存在し、
    −水の割合は、分散液に対して30〜90質量%であり、
    −分散助剤は、8〜18個の炭素原子を有するエトキシ化アルコールの少なくとも1種のリン酸エステルであり、その割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して3〜50質量%であり、
    −塩基性組成物は、一般式RNH、RNH及びRN[式中、Rは、それぞれ2〜10個の炭素原子を有するアルキル基又はヒドロキシル置換されたアルキル基である]の1種又はそれ以上のアミンを含有するかあるいは当該アミンから成るものであり、かつ、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して5〜30質量%の割合で存在し、
    −分散液はさらに、2〜15個の炭素原子を有する1種又はそれ以上のポリオールを含有し、その割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して1〜10質量%であり、
    −その際、リン酸エステル、塩基性組成物及びポリオールは、分散液の水相中で可溶性であり、かつ、
    −分散液のpHは9〜11である、ことを特徴とする、前記水性分散液。
  2. メタノール湿潤度が35〜55である、請求項1に記載の水性分散液。
  3. 疎水化された二酸化ケイ素粒子が、ヒュームドシリカ由来である、請求項1又は2に記載の水性分散液。
  4. 疎水化された二酸化ケイ素粒子の平均粒径(メジアン)が200nm又はそれ未満である、請求項1から3までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  5. リン酸エステルが、1、2個又は3個の直鎖C12〜C14炭素鎖を有するエトキシ化第1級アルコールの一、二及び/又は三置換されたリン酸エステルである、請求項1から4までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  6. N,N−ジメチルエタノールアミンを含有する、請求項1から5までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  7. トリプロピレングリコール、2,4,7,9−テトラメチルデク−5−イン−4,7−ジオール又はこれら2個の混合物を含有する、請求項1から6までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  8. N−メチル−2−ピロリドンを含有する、請求項1から7までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  9. 付加的に1種又はそれ以上の消泡剤を含有する、請求項1から8までのいずれか1項に記載の水性分散液。
  10. 請求項1に記載の水性分散液において
    −pH9〜11を有し、かつ、
    −メタノール湿潤度40〜50、BET表面積90〜150m/gを有する疎水性二酸化ケイ素粒子を、分散液に対して10〜30質量%、
    −1個、2個又は3個の直鎖C12〜C14炭素鎖を有するエトキシ化第1級アルコールの一、二及び/又は三置換されたリン酸エステルを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して9〜16質量%、
    −N,N−ジメチルエタノールアミンを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して5〜20質量%、
    −1−メチル−2−ピロリドンを、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して10〜20質量%、
    −トリプロピレングリコール及び2,4,7,9−テトラメチルデク−5−イン−4,7−ジオールをそれぞれ疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して3〜7質量%及び0.5〜15質量%、
    −1種又はそれ以上の消泡剤を、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して1〜3質量%、及び
    −水を、分散液に対して40〜70質量%
    含有する、請求項1に記載の水性分散液。
  11. 疎水化された二酸化ケイ素粒子、1種又はそれ以上の結合剤、1種又はそれ以上の分散助剤および塩基性組成物を含有する配合物において、
    −疎水化された二酸化ケイ素粒子が30〜60のメタノール湿潤度を有し、かつ0.05〜5質量%の割合で配合物中に存在し、
    −分散助剤が、8〜18個の炭素原子を有するエトキシ化アルコールの少なくとも1種のリン酸エステルであり、その割合が、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して3〜50質量%であり、
    −塩基性組成物が、一般式RNH、RNH及びRN[式中、Rは、それぞれ2〜10個の炭素原子を有するアルキル基又はヒドロキシル置換されたアルキル基である]の1種又はそれ以上のアミンを含有するかあるいはこれらアミンから成るものであり、かつ、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して5〜30質量%の割合で存在し、
    配合物はさらに、2〜15個の炭素原子を有する1種又はそれ以上のポリオールを含有し、その割合は、疎水化された二酸化ケイ素粒子の割合に対して1〜10質量%であり、かつ、
    −その際、配合物のpHは9未満である、前記配合物。
  12. さらに着色顔料及び/又は不活性充填剤を含有する、請求項11に記載の配合物。
  13. 請求項1から10までのいずれか1項に記載の水性分散液を使用する、請求項11又は12に記載の配合物を製造するための方法。
  14. 自動車工業における水系サーフェイサーに対する添加剤として、缶及びコイルコーティングプロセスにおけるコーティング成分として、水ベースのUV硬化可能な配合物における添加剤としての、請求項1から10までのいずれか1項に記載の水性分散液又は請求項11又は12のいずれか1項に記載の配合物の使用。
JP2011502316A 2008-04-02 2009-03-05 疎水化された二酸化ケイ素粒子を含有する分散液 Expired - Fee Related JP5559143B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP08103321A EP2107086B1 (de) 2008-04-02 2008-04-02 Dispersion enthaltend hydrophobierte Siliciumdioxidpartikel
EP08103321.9 2008-04-02
PCT/EP2009/052581 WO2009121680A1 (en) 2008-04-02 2009-03-05 Dispersion comprising hydrophobized silicon dioxide particles

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011516646A JP2011516646A (ja) 2011-05-26
JP2011516646A5 true JP2011516646A5 (ja) 2013-05-09
JP5559143B2 JP5559143B2 (ja) 2014-07-23

Family

ID=39720456

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011502316A Expired - Fee Related JP5559143B2 (ja) 2008-04-02 2009-03-05 疎水化された二酸化ケイ素粒子を含有する分散液

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8377193B2 (ja)
EP (1) EP2107086B1 (ja)
JP (1) JP5559143B2 (ja)
CN (1) CN101981135B (ja)
AT (1) ATE556121T1 (ja)
WO (1) WO2009121680A1 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010043721A1 (de) 2010-11-10 2012-05-10 Evonik Degussa Gmbh Hydrophobierte Siliciumdioxidpartikel enthaltende Dispersion und Lackzubereitung
EP2867303A4 (en) 2012-06-29 2015-11-25 3M Innovative Properties Co PARTICLES OF THE SILSESQUIOXANE TYPE
WO2014134714A2 (en) 2013-03-07 2014-09-12 Switch Materials Inc. Seal and seal system for a layered device
EP3084519A4 (en) 2013-12-19 2017-08-16 Switch Materials, Inc. Switchable objects and methods of manufacture
GB201322840D0 (en) * 2013-12-23 2014-02-12 Imerys Minerals Ltd Aqueous suspension of inorganic particulate material
CA2944322A1 (en) * 2014-03-28 2015-10-01 Buckman Laboratories International, Inc. Defoamer compositions and methods of using the same
KR102249481B1 (ko) * 2014-04-30 2021-05-07 코오롱인더스트리 주식회사 폴리에스테르 필름 및 이의 제조방법
WO2019144910A1 (en) * 2018-01-25 2019-08-01 Cabot Corporation Aqueous hydrophobic silica dispersions
CN110591416A (zh) * 2019-08-23 2019-12-20 广州凌玮科技股份有限公司 一种无定形二氧化硅防锈颜料的制备方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4430369A (en) * 1982-06-01 1984-02-07 Nalco Chemical Company Silica sol penetration and saturation of thermal insulation fibers
JP3818689B2 (ja) * 1996-01-16 2006-09-06 富士写真フイルム株式会社 コロイド状シリカをコアとし、有機ポリマーをシェルとするコア/シェル状複合粒子の水性分散物及びその製造方法
DE19720269A1 (de) * 1997-05-14 1998-11-19 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Nanokomposit für thermische Isolierzwecke
DE19904603A1 (de) 1999-02-05 2000-08-10 Goldschmidt Ag Th Aminoxidgruppen enthaltende Maleinsäureanhydrid-Copolymere und ihre Verwendung als Dispergiermittel für Pigmente oder Füllstoffe
MXPA01001665A (es) 2000-02-18 2002-04-01 John Michael Friel Pinturas para el marcado de caminos,preparadas a partir de prepinturas; metodo y aparato para formar zonas y lineas marcadas en los caminos, con dichas pinturas y dispositivo para aplicar dichas pinturas
US6569920B1 (en) 2000-08-16 2003-05-27 Millennium Inorganic Chemicals, Inc. Titanium dioxide slurries having improved stability
JP2004075757A (ja) * 2002-08-13 2004-03-11 Yamamoto Yogyo Kako Co Ltd 水系塗料組成物
DE10316661A1 (de) 2003-04-11 2004-11-04 Degussa Ag Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver
JP2004351815A (ja) * 2003-05-30 2004-12-16 Fuji Photo Film Co Ltd シリカ分散液の製造方法及びインク吸収層塗液の製造方法
JP4540432B2 (ja) * 2004-09-06 2010-09-08 株式会社トクヤマ カチオン性樹脂変性シリカ分散液
JP4832940B2 (ja) * 2005-07-26 2011-12-07 株式会社トクヤマ カチオン性樹脂変性乾式シリカ分散液の製造方法
DE102006003956A1 (de) * 2006-01-26 2007-08-02 Degussa Gmbh Korrossionsschutzschicht auf Metalloberflächen
JP2007268790A (ja) * 2006-03-30 2007-10-18 Fujifilm Corp シリカ分散液及びインクジェット記録媒体用塗布液
DE102006020987A1 (de) * 2006-05-04 2007-11-08 Degussa Gmbh Dispersion von pyrogen hergestelltem Siliciumdioxid
JP2008038090A (ja) * 2006-08-09 2008-02-21 Kao Corp インクジェット記録用水系インク

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011516646A5 (ja)
JP7057769B2 (ja) アミノアルコール化合物ならびに塗料およびコーティング用ゼロまたは低voc添加剤としてのそれらの使用
EP2097476B1 (en) Amine neutralizing agents for low volatile compound organic paints
EP2247566B1 (en) Efficient coalescing agents
KR101805238B1 (ko) 연마용 조성물
US9475955B2 (en) Film forming coating compositions containing carboxamide coalescing solvents and methods of use
US20170037266A1 (en) Sorbate ester or sorbamide coalescent in a coatings formulation
CA2819606A1 (en) Diamino alcohols and strong base as neutralizers for low voc coating compositions
JP5368569B2 (ja) 塗料用中和剤
JP2021070721A5 (ja)
CN103834221B (zh) 氟烷基膦酸盐/酯组合物
AU2011334199A1 (en) Use of esters as coalescing agents
JP2011144122A (ja) 含フッ素化合物、含フッ素界面活性剤およびその組成物
CN109880431A (zh) 环保成膜助剂组合物
WO2013016269A1 (en) Aminoalcohol compounds and their use as zero or low voc additives for paints and coatings
JP2016132771A (ja) 水性塗料用湿潤剤
US20150344707A1 (en) Aminoalcohol compounds as low voc free-thaw stabilizers for paints and coatings
JP2014125593A (ja) アルミニウム顔料組成物及びその製造方法
JP2015513602A (ja) 有機ホスフェートを用いる会合性増粘剤の粘度の抑制
CA2832416A1 (en) Voc free product
CA2866869A1 (en) Non-voc neutralizing agents for coatings