JP2011501367A5

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Publication number: JP2011501367A5
Application number: JP2010530313A
Authority: JP
Filing date: 2008-10-16
Publication date: 2014-02-13
Anticipated expiration: 2028-10-16

Description

上述した第２の金属の同位体分布では、液体金属イオン源の天然または濃縮された１つの主要同位体の割合が、液体金属イオン源の放出スペクトルのうち当該第２の金属の合計の８０％以上で、９０％以上であることが有益であり、９５％以上であることが有益である。

Claims

合金にビスマスを含む液体金属イオン源であって、
前記合金は第２の金属をさらに含み、
前記第２の金属は、原子量が９０ｕ以下で、
前記第２の金属の天然の１つの主要同位体または濃縮された１つの主要同位体は、前記液体金属イオン源における前記第２の金属の総割合に対する割合が、８０％以上である、
液体金属イオン源。
合金にビスマスを含む液体金属イオン源であって、前記合金はさらに、第２の金属としてマンガンを含む液体金属イオン源。
ビスマスおよび前記第２の金属は、イオンビームの生成時に、ビスマスおよび前記第２の金属を共に含む混合クラスタを、総放出スペクトルに対して、１０％以下の割合で形成する、
請求項１または請求項２に記載の液体金属イオン源。
前記液体金属イオン源が生成する一次イオンビームにおける前記第２の金属の割合は、前記合金における前記第２の金属の化学量論比と対応するか、または、同一である、
請求項１から請求項３のうちいずれか一項に記載の液体金属イオン源。
前記合金におけるビスマスおよび前記第２の金属の合計の割合は、９０％以上である、
請求項１から請求項４のうちいずれか一項に記載の液体金属イオン源。
前記合金は、ビスマスを含む低融点合金である、
請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載の液体金属イオン源。
試料に対して照射されることによって二次粒子を生成する一次イオンビームを生成する液体金属イオン源を用いて、二次イオンおよび／または再イオン化された中性二次粒子などである二次粒子を分析するための二次粒子質量分析計であって、
前記液体金属イオン源として、請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載の液体金属イオン源を備え、
さらにフィルタデバイスを備え、
前記フィルタデバイスは、前記液体金属イオン源が放出する前記一次イオンビームから、質量高純度フィルタリング済み一次イオンビームとして、複数の種類のビスマスイオンのうち、１回以上荷電されている単原子ビスマスイオンの倍数に質量が略または正確に等しくなる１種類のビスマスイオンを、フィルタリングで取り出し、および、質量高純度フィルタリング済み一次イオンビームとして、前記第２の金属の複数の種類のイオンから一次イオンビームをフィルタリングで取り出す、
二次粒子質量分析計。
前記質量高純度フィルタリング済みビスマスイオンビームは、Ｂｉ_ｎ ^ｐ＋のイオンのみを含み、ｎは２以上で、ｐは１以上であり、ｎおよびｐはそれぞれ自然数である、
請求項７に記載の二次粒子質量分析計。
前記液体金属イオン源が放出する前記一次イオンビームに含まれるビスマスイオンおよび前記第２の金属のイオンの割合は合計で、９０％以上である、
請求項７または請求項８に記載の二次粒子質量分析計。
表面に一次イオンビームが照射されている分析対象試料を分析するための二次粒子質量分析方法であって、
第１の金属の単原子イオンまたは多原子イオンおよび第２の金属の単原子イオンを含む一次イオンビームを生成し、前記第１の金属のイオンは、原子量が１９０ｕ以上であって、前記第２の金属のイオンは、原子量が９０ｕ以下であり、前記一次イオンビームから、質量高純度フィルタリング済み一次イオンビームとして、前記第１の金属の複数の種類のイオンのうち１種類のイオン、および、質量高純度フィルタリング済み一次イオンビームとして、前記第２の金属の複数の種類のイオンのうち１種類のイオンを、交互にフィルタリングで取り出して、前記第１の金属のイオンを含む前記フィルタリング済み一次イオンビームによって二次粒子スペクトルを取得し、前記第２の金属のイオンを含む前記フィルタリング済み一次イオンビームによって二次粒子スペクトルを取得する、
二次粒子質量分析方法。
放出された前記一次イオンビームにおける前記第１の金属のイオンおよび前記第２の金属のイオンの割合は合計で、９０％以上である、
請求項１０に記載の二次粒子質量分析方法。
分析用ビームは、前記一次イオンビームを生成するべく、前記第１の金属および前記第２の金属を含む合金を有する液体金属イオン源によって生成される、
請求項１０または請求項１１に記載の二次粒子質量分析方法。
多原子ビスマスイオンおよび第２の金属のイオンを含む一次イオンビームを生成し、前記第２の金属は、原子量が９０ｕ以下で、前記第２の金属の天然の１つの主要同位体または濃縮された１つの主要同位体は、放出スペクトルにおける前記第２の金属の総割合に対する割合が、８０％以上であり、
前記一次イオンビームから、質量高純度フィルタリング済み一次イオンビームとして、複数の種類のビスマスイオンのうち、１回以上荷電されている単原子ビスマスイオンＢｉ_１ ^ｐ＋の倍数に質量が略または正確に等しくなる１種類のビスマスイオン、および、質量高純度フィルタリング済み一次イオンビームとして、前記第２の金属の複数の種類のイオンのうち１種類のイオンを、交互にフィルタリングで取り出して、
ビスマスを含む前記フィルタリング済み一次イオンビームによって二次粒子スペクトルを取得し、前記第２の金属を含む前記フィルタリング済み一次イオンビームによって二次粒子スペクトルを取得する、
請求項１０から請求項１２のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
多原子ビスマスイオンおよび第２の金属のイオンを含む一次イオンビームを生成し、前記第２の金属はマンガンであり、
前記一次イオンビームから、質量高純度フィルタリング済み一次イオンビームとして、複数の種類のビスマスイオンのうち、１回以上荷電されている単原子ビスマスイオンＢｉ_１ ^ｐ＋の倍数に質量が略または正確に等しくなる１種類のビスマスイオン、および、質量高純度フィルタリング済み一次イオンビームとして、マンガンの複数の種類のイオンのうち１種類のイオンを、交互にフィルタリングで取り出して、
ビスマスを含む前記フィルタリング済み一次イオンビームによって二次粒子スペクトルを取得し、マンガンを含む前記フィルタリング済み一次イオンビームによって二次粒子スペクトルを取得する、
請求項１０から請求項１３のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
ビスマスおよび前記第２の金属は、イオンビームの生成時において、ビスマスおよび前記第２の金属を共に含む混合クラスタを、総放出スペクトルに対して、１０％以下の割合で形成する、
請求項１０から請求項１４のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
放出される前記一次イオンビームに含まれるビスマスイオンおよび前記第２の金属のイオンの割合は合計で、９０％以上である、
請求項１０から請求項１５のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
ビスマスイオンを含む前記フィルタリング済み一次イオンビームは、Ｂｉ_ｎ ^ｐ＋のビスマスイオンを含み、ｎは２以上で、ｐは１以上であり、ｎおよびｐはそれぞれ自然数である、
請求項１０から請求項１６のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
分析用ビームは、請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載の液体金属イオン源によって生成される、
請求項１０から請求項１７のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
２つの前記二次粒子スペクトルは、Ｇ−ＳＩＭＳ（ジェントルＳＩＭＳ）法に従って評価され、前記試料の二次粒子スペクトルを取得する、
請求項１０から請求項１８のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
請求項７から請求項９のうちいずれか一項に記載の二次イオン質量分析計で実施される、
請求項１０から請求項１９のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
生成された二次粒子の分析は、磁場型、四重極型、および／または飛行時間型の質量分析計で実行される、
請求項１０から請求項２０のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
前記試料の前記表面の質量分析イメージおよび／または前記試料の前記表面の深さプロフィールを取得する、
請求項１０から請求項２１のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
分析対象の前記試料または前記表面は、有機材料を含む、
請求項１０から請求項２２のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法。
請求項１から請求項６のうちいずれか一項に記載の液体金属イオン源、請求項７から請求項９のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析計、および／または、請求項１０から請求項２３のうちいずれか一項に記載の二次粒子質量分析方法を利用して、試料および／または表面の分析を行う方法。
前記試料または前記表面は、有機材料を含む、
請求項２４に記載の方法。