JP5142580B2 - 表面解析方法および表面解析装置 - Google Patents
表面解析方法および表面解析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5142580B2 JP5142580B2 JP2007107173A JP2007107173A JP5142580B2 JP 5142580 B2 JP5142580 B2 JP 5142580B2 JP 2007107173 A JP2007107173 A JP 2007107173A JP 2007107173 A JP2007107173 A JP 2007107173A JP 5142580 B2 JP5142580 B2 JP 5142580B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ions
- sample
- ion
- irradiation
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/14—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers
- H01J49/142—Ion sources; Ion guns using particle bombardment, e.g. ionisation chambers using a solid target which is not previously vapourised
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
試料表面にサイズの異なる少なくとも2種類のイオンをそれぞれ照射する手段、前記試料表面から放出されるイオンの質量スペクトルを飛行時間型二次イオン質量分析器により計測する計測器、および計測された質量スペクトルから異なる種類のイオン照射で計測された2つの質量スペクトルの差を出力する情報処理装置を有し、前記2種類のイオンの組み合わせが、サイズが異なるイオンを照射することにより異なる深さ方向の情報を持つ前記2つの質量スペクトルが得られる組み合わせであり、前記2つの質量スペクトルの差によって、前記試料表面の深さ方向の構造を特定することを特徴とする表面構造解析装置である。
A.試料表面にフラーレンイオンを照射する工程、
B.サイズの異なる少なくとも2種類のイオンを前記試料表面にそれぞれ照射する工程、
C.前記試料表面から放出されるイオンの質量スペクトルを飛行時間型二次イオン質量分析器により計測する工程、ならびに
D.異なる種類のイオン照射で計測された2つの質量スペクトルの差を出力する工程
を有し、A−Cの工程を複数回繰り返した後Dの工程を行うものであり、前記2種類のイオンの組み合わせが、サイズが異なるイオンを照射することにより異なる深さ方向の情報を持つ前記2つの質量スペクトルが得られる組み合わせであり、前記2つの質量スペクトルの差によって、前記試料表面の深さ方向の構造を特定することを特徴とする前記試料表面の深さ方向の構造を解析する表面構造解析方法である。
図1は本発明の第1の実施形態の表面計測装置の構成を示すブロック図である。図1の表面計測装置は、試料の測定を行う情報計測機構と、得られた結果を解析する情報処理機構からなっている。
図3は本発明の第2の実施形態であるフラーレンイオン照射による深さ方向の構造解析装置である。
本発明は、試料1を冷却した状態でフラーレンイオンを照射し、深さ方向の構造解析を行うこともできる。
・(Au3 +イオン照射でのスペクトル)−(Au+イオン照射でのスペクトル)
・(Au+イオン照射でのスペクトル)−(Ga+イオン照射でのスペクトル)
求めた差スペクトルを図7に示す。
Mass=78,95,103,122,149は、スチレン−アクリル酸共重合体のアクリル酸(カリウム塩)由来のピーク
Mass=91,115は、スチレン−アクリル酸共重合体のスチレン由来のピーク
である。
実施例において、1種類だけの一次イオン照射(例えば、Ga+イオン照射)によって得られる質量スペクトルのみで解析しようとすると、Ga+イオン照射ではスチレン−アクリル酸共重合体のアクリル酸部分に由来するピークがほとんど検出されないので、スチレン−アクリル酸共重合体のアクリル酸部分は表面には存在しないという誤った解析結果を導き出してしまう。
2 一次イオン照射機構
3 計測器
4 フラーレンイオン照射装置
5 試料冷却手段
6 情報処理装置
Claims (10)
- 試料表面の深さ方向の構造を解析するための表面構造解析装置であって、
前記試料表面にサイズの異なる少なくとも2種類のイオンをそれぞれ照射する手段、前記試料表面から放出されるイオンの質量スペクトルを飛行時間型二次イオン質量分析器により計測する計測器、および計測された質量スペクトルから異なる種類のイオン照射で計測された2つの質量スペクトルの差を出力する情報処理装置を有し、前記2種類のイオンの組み合わせが、サイズが異なるイオンを照射することにより異なる深さ方向の情報を持つ前記2つの質量スペクトルが得られる組み合わせであり、前記2つの質量スペクトルの差によって、前記試料表面の深さ方向の構造を特定することを特徴とする表面構造解析装置。 - 照射されるイオンのいずれか1つが単量体イオンであり、別の1つが2量体以上のクラスタイオンである請求項1に記載の表面構造解析装置。
- 照射されるイオンの種類が3以上であり、計測された質量スペクトルをサイズの順に並べたときに隣同士となる2つの質量スペクトルの差を出力する請求項1または2に記載の表面構造解析装置。
- 二量体以上のクラスタイオンが金もしくはビスマスのイオンである請求項2に記載の表面構造解析装置。
- 単量体イオンが金、ビスマス、ガリウム、ゲルマニウム、もしくはインジウムのイオンである請求項2に記載の表面構造解析装置。
- 得られる複数の質量スペクトルの差を求め、その差から試料表面で層を成す部分の構造を決定する請求項1に記載の表面構造解析装置。
- フラーレンイオンを照射する手段を備える請求項1に記載の表面構造解析装置。
- 試料を冷却する手段を備える請求項1に記載の表面構造解析装置。
- 冷却温度が−100℃以下である請求項8に記載の表面構造解析装置。
- A.試料表面にフラーレンイオンを照射する工程、
B.サイズの異なる少なくとも2種類のイオンを前記試料表面にそれぞれ照射する工程、
C.前記試料表面から放出されるイオンの質量スペクトルを計測する工程、ならびに
D.異なる種類のイオン照射で計測された2つの質量スペクトルの差を出力する工程
を有し、A−Cの工程を複数回繰り返した後Dの工程を行うものであり、前記2種類のイオンの組み合わせが、サイズが異なるイオンを照射することにより異なる深さ方向の情報を持つ前記2つの質量スペクトルが得られる組み合わせであり、前記2つの質量スペクトルの差によって、前記試料表面の深さ方向の構造を特定することを特徴とする前記試料表面の深さ方向の構造を解析する表面構造解析方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007107173A JP5142580B2 (ja) | 2006-06-29 | 2007-04-16 | 表面解析方法および表面解析装置 |
US11/819,200 US7635840B2 (en) | 2006-06-29 | 2007-06-26 | Surface analysis apparatus and method using ion bombardment |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006179815 | 2006-06-29 | ||
JP2006179815 | 2006-06-29 | ||
JP2007107173A JP5142580B2 (ja) | 2006-06-29 | 2007-04-16 | 表面解析方法および表面解析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008032685A JP2008032685A (ja) | 2008-02-14 |
JP5142580B2 true JP5142580B2 (ja) | 2013-02-13 |
Family
ID=38875628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007107173A Expired - Fee Related JP5142580B2 (ja) | 2006-06-29 | 2007-04-16 | 表面解析方法および表面解析装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7635840B2 (ja) |
JP (1) | JP5142580B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8420182B2 (en) | 2009-08-14 | 2013-04-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing polymer dispersed liquid crystal display device including dichroic dye |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100448698C (zh) * | 2005-08-08 | 2009-01-07 | 郑州恒昊玻璃技术有限公司 | 多层次多透光效果的工艺图案玻璃的生产工艺 |
HU226837B1 (hu) | 2006-05-31 | 2009-12-28 | Semmelweis Egyetem | Folyadéksugárral mûködõ deszorpciós ionizációs eljárás és eszköz |
EP2056333B1 (de) * | 2007-10-29 | 2016-08-24 | ION-TOF Technologies GmbH | Flüssigmetallionenquelle, Sekundärionenmassenspektrometer, sekundärionenmassenspektrometisches Analyseverfahren sowie deren Verwendungen |
JP5545922B2 (ja) * | 2008-10-03 | 2014-07-09 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 試料分析方法及び装置 |
EP3285059A1 (en) | 2009-05-27 | 2018-02-21 | Micromass UK Limited | System and method for identification of biological tissues |
JP2011228069A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Ulvac Japan Ltd | ガスクラスターイオンビームを用いた飛行時間型二次イオン質量分析装置 |
GB201109414D0 (en) | 2011-06-03 | 2011-07-20 | Micromass Ltd | Diathermy -ionisation technique |
KR102006348B1 (ko) * | 2011-10-21 | 2019-08-01 | 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 | 고분자 박막 구조체 및 유기막의 깊이 방향의 분석 방법 |
CN104254772B (zh) | 2011-12-28 | 2018-11-16 | 英国质谱有限公司 | 用于液相样品的快速蒸发电离的系统和方法 |
US9287100B2 (en) | 2011-12-28 | 2016-03-15 | Micromass Uk Limited | Collision ion generator and separator |
US8772712B2 (en) * | 2012-04-24 | 2014-07-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Analysis apparatus and analysis method |
GB201208812D0 (en) * | 2012-05-18 | 2012-07-04 | Micromass Ltd | Cryogenic collision cell |
JP6070383B2 (ja) * | 2013-04-17 | 2017-02-01 | 新日鐵住金株式会社 | 水素分布観察装置及び水素分布観察方法 |
JP6476765B2 (ja) * | 2013-11-06 | 2019-03-06 | 東レ株式会社 | ガス拡散電極基材およびそれを用いたガス拡散電極 |
US9048075B1 (en) * | 2014-01-14 | 2015-06-02 | Shimadzu Corporation | Time-of-flight type mass spectrometer |
JP6845148B2 (ja) | 2015-03-06 | 2021-03-17 | マイクロマス ユーケー リミテッド | 電気外科的応用のための液体トラップ又は分離器 |
WO2016142691A1 (en) | 2015-03-06 | 2016-09-15 | Micromass Uk Limited | Rapid evaporative ionisation mass spectrometry ("reims") and desorption electrospray ionisation mass spectrometry ("desi-ms") analysis of swabs and biopsy samples |
CN108700590B (zh) | 2015-03-06 | 2021-03-02 | 英国质谱公司 | 细胞群体分析 |
EP3726562B1 (en) | 2015-03-06 | 2023-12-20 | Micromass UK Limited | Ambient ionization mass spectrometry imaging platform for direct mapping from bulk tissue |
KR102092047B1 (ko) | 2015-03-06 | 2020-03-24 | 마이크로매스 유케이 리미티드 | 생체내 내시경 조직 식별 도구 |
WO2016142685A1 (en) | 2015-03-06 | 2016-09-15 | Micromass Uk Limited | Collision surface for improved ionisation |
WO2016142675A1 (en) | 2015-03-06 | 2016-09-15 | Micromass Uk Limited | Imaging guided ambient ionisation mass spectrometry |
KR101934663B1 (ko) | 2015-03-06 | 2019-01-02 | 마이크로매스 유케이 리미티드 | 급속 증발 이온화 질량 분광분석 (“reims”) 디바이스에 커플링된 이온 분석기용 유입구 기기장치 |
US11270876B2 (en) | 2015-03-06 | 2022-03-08 | Micromass Uk Limited | Ionisation of gaseous samples |
US11282688B2 (en) | 2015-03-06 | 2022-03-22 | Micromass Uk Limited | Spectrometric analysis of microbes |
GB2551669B (en) | 2015-03-06 | 2021-04-14 | Micromass Ltd | Physically guided rapid evaporative ionisation mass spectrometry ("Reims") |
US11289320B2 (en) | 2015-03-06 | 2022-03-29 | Micromass Uk Limited | Tissue analysis by mass spectrometry or ion mobility spectrometry |
WO2016142692A1 (en) | 2015-03-06 | 2016-09-15 | Micromass Uk Limited | Spectrometric analysis |
GB2553941B (en) | 2015-03-06 | 2021-02-17 | Micromass Ltd | Chemically guided ambient ionisation mass spectrometry |
GB201517195D0 (en) | 2015-09-29 | 2015-11-11 | Micromass Ltd | Capacitively coupled reims technique and optically transparent counter electrode |
EP3443354A1 (en) | 2016-04-14 | 2019-02-20 | Micromass UK Limited | Spectrometric analysis of plants |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03165445A (ja) * | 1989-11-22 | 1991-07-17 | Hitachi Ltd | 質量スペクトルの表示方法 |
JPH07294459A (ja) * | 1994-04-21 | 1995-11-10 | Nippon Steel Corp | スパッタ中性粒子質量分析方法 |
JP2001240820A (ja) | 2000-02-29 | 2001-09-04 | Nitto Denko Corp | 塗膜保護シート、その製造方法及び施工方法 |
JP2002365183A (ja) * | 2001-06-12 | 2002-12-18 | Toray Res Center:Kk | 分析方法 |
US6768120B2 (en) * | 2001-08-31 | 2004-07-27 | The Regents Of The University Of California | Focused electron and ion beam systems |
JP3658397B2 (ja) * | 2002-06-28 | 2005-06-08 | キヤノン株式会社 | 飛行時間型二次イオン質量分析法による素子の情報取得方法、および、情報取得装置 |
US7076687B2 (en) * | 2002-10-16 | 2006-07-11 | Hitachi, Ltd. | System and method for bi-directional failure detection of a site in a clustering system |
US7081625B2 (en) * | 2002-11-06 | 2006-07-25 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus |
JP2004219261A (ja) | 2003-01-15 | 2004-08-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜の解析方法 |
GB0312940D0 (en) * | 2003-06-05 | 2003-07-09 | Shimadzu Res Lab Europe Ltd | A method for obtaining high accuracy mass spectra using an ion trap mass analyser and a method for determining and/or reducing chemical shift in mass analysis |
JP4636822B2 (ja) * | 2003-07-02 | 2011-02-23 | キヤノン株式会社 | 情報取得方法 |
JP4431459B2 (ja) * | 2004-07-29 | 2010-03-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 集束イオン・ビーム装置及び集束イオン・ビーム照射方法 |
JP4636859B2 (ja) * | 2004-11-25 | 2011-02-23 | キヤノン株式会社 | 情報取得方法 |
JP4843250B2 (ja) * | 2005-05-13 | 2011-12-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 質量分析を用いた物質の同定方法 |
US20070138385A1 (en) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | The Regents Of The University Of California | Time-of-flight secondary ion mass spectrometer mapping of cells and tissue |
JP4782579B2 (ja) * | 2006-02-15 | 2011-09-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | タンデム型質量分析システム及び方法 |
-
2007
- 2007-04-16 JP JP2007107173A patent/JP5142580B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-06-26 US US11/819,200 patent/US7635840B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8420182B2 (en) | 2009-08-14 | 2013-04-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of manufacturing polymer dispersed liquid crystal display device including dichroic dye |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008032685A (ja) | 2008-02-14 |
US7635840B2 (en) | 2009-12-22 |
US20080001081A1 (en) | 2008-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5142580B2 (ja) | 表面解析方法および表面解析装置 | |
Sodhi | Time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS):—versatility in chemical and imaging surface analysis | |
US9468953B2 (en) | Methods and apparatuses for cleaning at least one surface of an ion source | |
JP5030166B2 (ja) | レーザー脱離イオン化質量分析に使用される試料支持用基板の試験方法 | |
JP4497889B2 (ja) | 電子分光分析方法及び分析装置 | |
JP2008116363A (ja) | 表面分析方法 | |
US6815672B2 (en) | Method of analyzing polymer by using laser abrasion and system therefor | |
JP4163938B2 (ja) | サンプルの表面分析を行う方法及びこれを実施する装置 | |
KR20230006516A (ko) | 최적 집속 이온 빔 식각을 위한 적응적 기하형상 | |
Hues et al. | Ultratrace impurity analysis of wafer surfaces | |
Sykes | Surface chemical analysis | |
WO2008038642A1 (fr) | Procédé d'analyse d'échantillon et appareil d'analyse | |
JP2022137164A (ja) | 二次イオン質量分析方法及び、質量分析装置 | |
JP2011233248A (ja) | レーザイオン化質量分析装置 | |
Embong | XPS, AES and Laser Raman Spectroscopy: A fingerprint for a materials surface characterisation | |
Sakai et al. | Auger crater edge profiling by water droplet impact | |
JP2008076341A (ja) | 表面分析方法および二次イオン質量分析法 | |
PARK | Chemical analysis of surfaces | |
JPH08166362A (ja) | 表面解析方法および装置 | |
Maul | Measurement of nanoparticle mass distributions by laser desorption/ionization time-of-flight mass spectrometry | |
Matsui et al. | High-aspect-ratio micromachining of fluoropolymers using focused ion beam | |
KR100664868B1 (ko) | 이차이온 질량분석기 분석을 위한 표준시료 및 이를이용한 이차이온 질량분석기 분석 방법 | |
Kiani et al. | Beam interactions with materials and atoms | |
Dialameh | Fabrication and characterization of reference nano and micro structures for 3D chemical analysis | |
Lingenfelser et al. | Laser-induced thermal desorption mass spectrometry of functionalized silicon surfaces |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100201 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100415 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100630 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120403 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120604 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120724 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120921 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121023 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121120 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151130 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |