JP2011255296A - 液状樹脂の塗布装置 - Google Patents

液状樹脂の塗布装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2011255296A
JP2011255296A JP2010131278A JP2010131278A JP2011255296A JP 2011255296 A JP2011255296 A JP 2011255296A JP 2010131278 A JP2010131278 A JP 2010131278A JP 2010131278 A JP2010131278 A JP 2010131278A JP 2011255296 A JP2011255296 A JP 2011255296A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid resin
compressed air
passage
outlet
spray nozzle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2010131278A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5662706B2 (ja
Inventor
Satoshi Yamanaka
聡 山中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2010131278A priority Critical patent/JP5662706B2/ja
Publication of JP2011255296A publication Critical patent/JP2011255296A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5662706B2 publication Critical patent/JP5662706B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Nozzles (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

【課題】被加工物の被加工面に所望の厚みの樹脂被膜を形成することができる液状樹脂の塗布装置を提供する。
【解決手段】噴霧ノズル52は液状樹脂供給源51と連通し下端面に液状樹脂流出口521aが開口する液状樹脂流通通路521と、液状樹脂流出通路521を囲繞して設けられ下端面に環状の空気流出口522aが開口する筒状の圧縮空気流通通路522と、筒状の圧縮空気流通通路522の上端部に連通するとともに圧縮空気供給手段54に連通された圧縮空気導入通路523とを具備し、筒状の圧縮空気流通通路522は上端から下端に向けて縮径してロート状に形成され、該環状の空気流出口522aが該液状樹脂流出口521aを囲繞して設けられており、圧縮空気導入通路523は筒状の圧縮空気流通通路522の壁面に対して接線方向に形成され、筒状の圧縮空気流通通路522に導入する圧縮空気を旋回せしめる。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体ウエーハ等のウエーハの裏面に液状樹脂を塗布する液状樹脂の塗布装置に関する。
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって多数の矩形領域を区画し、該矩形領域の各々にIC、LSI等のデバイスを形成する。このように多数のデバイスが形成された半導体ウエーハをストリートに沿って分割することにより、個々のデバイスを形成する。デバイスの小型化および軽量化を図るために、通常、半導体ウエーハをストリートに沿って切断して個々のデバイスに分割するのに先立って、半導体ウエーハの裏面を研削して所定の厚みに形成している。
個々に分割された半導体デバイスは、その裏面にポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂脂等で形成された厚み20〜40μmのダイアタッチフィルムと称するダイボンディング用の接着フィルムが装着され、この接着フィルムを介して半導体デバイスを支持するダイボンディングフレームに加熱することによりボンディングされる。半導体デバイスの裏面にダイボンディング用の接着フィルムを装着する方法としては、半導体ウエーハの裏面に接着フィルムを貼着し、この接着フィルムを介して半導体ウエーハをダイシングテープに貼着した後、半導体ウエーハの表面に形成されたストリートに沿って切削ブレードにより接着フィルムと共に切断することにより、裏面に接着フィルムが装着された半導体デバイスを形成している。(例えば、特許文献1参照。)
しかるに、接着フィルムは所定の厚みおよび所定の大きさのシートをウエーハの大きさに合わせて切断して用いるため、ウエーハの大きさに対応させて所望の厚みの接着フィルムを得るには厚みが異なる複数の接着フィルムを用意する必要があり、コストが増大するとともに在庫の管理費用が増大する。
このような問題を解消するために、ウエーハの裏面に液状の樹脂を塗布することにより、ウエーハの大きさに対応してウエーハの裏面に接着剤を形成する方法が下記特許文献2および特許文献3に開示されている。
しかるに、上記特許文献2および特許文献3に記載された液状樹脂の塗布方法は、回転するウエーハの中心部に液状樹脂を滴下し、この滴下された液状樹脂を遠心力によって外周に向けて移動させるスピンコート法であり、滴下された液状樹脂の殆どがスピンアウトし実際にウエーハに塗布される液状樹脂は滴下量の30%にも満たず不経済であるとともに、ウエーハの裏面に塗布される樹脂被膜の厚みにムラが生ずるという問題ある。
このような問題を解消するために、ウエーハの被加工面に液状樹脂をスプレーで吹き付けて被膜を形成する方法が提案されている。(例えば、特許文献4参照。)
特開2000−182995号公報 特開平8−236554号公報 特開2007−489589号公報 特開2006−286763号公報
而して、液状樹脂をスプレーで吹き付ける方式は、スピンコート法に比して液状樹脂の使用量を減少することはできるが、液状樹脂は粘度が高いためスプレーで噴射すると液状樹脂の塊が断続的に噴射され、ウエーハの被加工面に塗布される樹脂の厚みにバラツキが生ずるという問題がある。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、被加工物の被加工面に所望の厚みの樹脂被膜を形成することができる液状樹脂の塗布装置を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、被加工物を保持する保持面を備えた保持テーブルと、該保持テーブルに保持された被加工物に液状樹脂を噴霧する噴霧ノズルと、該噴霧ノズルに液状樹脂を供給する液状樹脂供給源と、該噴霧ノズルに圧縮空気を供給する圧縮空気供給手段と、を具備する液状樹脂の塗布装置において、
該噴霧ノズルは、該液状樹脂供給源と連通し下端面に液状樹脂流出口が開口する液状樹脂流通通路と、該液状樹脂流出通路を囲繞して設けられ下端面に環状の空気流出口が開口する筒状の圧縮空気流通通路と、該筒状の圧縮空気流通通路の上端部に連通するとともに該圧縮空気供給手段に連通された圧縮空気導入通路と、を具備し、
該筒状の圧縮空気流通通路は、上端から下端に向けて縮径してロート状に形成され、該環状の空気流出口が該液状樹脂流出口を囲繞して設けられており、
該圧縮空気導入通路は、該筒状の圧縮空気流通通路の壁面に対して接線方向に形成され、該筒状の圧縮空気流通通路に導入する圧縮空気を旋回せしめる、
ことを特徴とする液状樹脂の塗布装置。
上記液状樹脂供給源は、ダイボンディング用の接着剤としての液状樹脂を供給する。
本発明による液状樹脂の塗布装置においては、保持テーブルに保持された被加工物に液状樹脂を噴霧する噴霧ノズルは、液状樹脂供給源と連通し下端面に液状樹脂流出口が開口する液状樹脂流通通路と、液状樹脂流出通路を囲繞して設けられ下端面に環状の空気流出口が開口する筒状の圧縮空気流通通路と、筒状の圧縮空気流通通路の上端部に連通するとともに圧縮空気供給手段に連通された圧縮空気導入通路とを具備し、筒状の圧縮空気流通通路が上端から下端に向けて縮径してロート状に形成され、環状の空気流出口が液状樹脂流出口を囲繞して設けられており、圧縮空気導入通路が筒状の圧縮空気流通通路の壁面に対して接線方向に形成され、筒状の圧縮空気流通通路に導入する圧縮空気を旋回せしめるので、圧縮空気導入通路から筒状の圧縮空気流通通路に導入された圧縮空気は渦流となって環状の空気流出口から流速を速めて流出される。この結果、環状の空気流出口によって囲繞されている液状樹脂流出口部に均一な負圧が形成されるため、液状樹脂流出口から液状樹脂が塊となることなく均一に流出し、渦流となって噴出する圧縮空気と混合され微細なミストとなって噴霧される。従って、液状樹脂の単位時間当たりの噴霧量を調整することにより、被加工物の被加工面にバラツキのない所望の厚みの樹脂被膜を形成することができる。
本発明に従って構成された液状樹脂の塗布装置の斜視図。 図1に示す液状樹脂の塗布装置を構成する噴霧ノズルの縦断面図。 図2に示す噴霧ノズルのB-B線断面図。 図1に示す液状樹脂の塗布装置を構成する噴霧ノズルの他の実施形態を示す横断面図。 図1に示す液状樹脂の塗布装置によって実施する液状樹脂固化工程の説明図。
以下、本発明による液状樹脂の塗布装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
図1には本発明に従って構成された液状樹脂の塗布装置の斜視図が示されている。
図示の実施形態における液状樹脂の塗布装置は、上方が開放した矩形状の装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2の一側壁21には吸引口211が形成されており、該吸引口211に図示しない吸引手段に連通された吸引ダクト22が接続されている。また、装置ハウジング2の底壁には排出口(図示せず)が形成されており、該排出口にドレーンパイプ23が接続されている。装置ハウジング2内には、被加工物としての半導体ウエーハ等を保持する保持テーブル3および該保持テーブル3を回転駆動する電動モータ4が配設されている。
保持テーブル3は、円盤状の基台31と、該基台31の上面に配設されポーラスセラミック材によって円盤状に形成された吸着保持チャック32とからなっており、吸着保持チャック32が図示しない吸引手段に連通されている。このように構成された保持テーブル3は、吸着保持チャック32の上面(保持面)に被加工物としての半導体ウエーハ等を載置し、図示しない吸引手段を作動することにより吸着保持チャック32上に被加工物としての半導体ウエーハ等を吸引保持する。このようにして被加工物としての半導体ウエーハ等を吸引保持する保持テーブル3は、電動モータ4によって回転せしめられる。
図示の実施形態における液状樹脂の塗布装置は、保持テーブル3に保持された、被加工物としての半導体ウエーハ等の上面に液状樹脂を塗布する液状樹脂塗布機構5を具備している。液状樹脂塗布機構5は、液状樹脂を収容する液状樹脂供給源としての液状樹脂収容容器51と、該液状樹脂収容容器51の下端に接続された噴霧ノズル52と、液状樹脂収容容器51を支持する容器支持手段53を具備している。液状樹脂供給源としての液状樹脂収容容器51は、上端が大気に開放されており、下端には図2に示すように液状樹脂吐出口511が形成されている。このように構成された液状樹脂収容容器51には、上端開放口から例えばエポキシ系樹脂やアクリル系樹脂脂等からなるダイボンディング用の接着剤としての液状樹脂が適宜供給されるようになっている。
図2および図3を参照して説明を続けると、上記液状樹脂収容容器51の下端に接続された噴霧ノズル52は、上記液状樹脂収容容器51の液状樹脂吐出口511と連通する液状樹脂流通通路521と、該液状樹脂流出通路521を囲繞して設けられた筒状の圧縮空気流通通路522と、該筒状の圧縮空気流通通路522の上端部に連通する圧縮空気導入通路523とを具備している。液状樹脂流出通路521は、噴霧ノズル52の中心部に軸方向に設けられており、噴霧ノズル52の下端面に開口する液状樹脂流出口521aを備えている。なお、噴霧ノズル52の液状樹脂流出通路521には、図示していないがニードル弁が配設されており、液状樹脂流出口521aの開閉および流量の調節ができるようになっている。
上記筒状の圧縮空気流通通路522は、上端から下端に向けて縮径してロート状に形成され、噴霧ノズル52の下端面に開口する環状の空気流出口522aが上記液状樹脂流出口521aを囲繞して設けられている。上記圧縮空気導入通路523は、図3に示すように筒状の圧縮空気流通通路522の軸方向に対して直交する方向から圧縮空気流通通路522の壁面に対して接線方向となるように形成されている。この圧縮空気導入通路523は、圧縮空気供給手段54に接続されている。なお、圧縮空気導入通路523は、図4に示すように180度の位相を持って2個設けてもよい。
図示の実施形態における噴霧ノズル52は以上のように構成されており、圧縮空気供給手段54が作動すると、圧縮空気が圧縮空気導入通路523から筒状の圧縮空気流通通路522の壁面に対して接線方向に流入せしめられる。筒状の圧縮空気流通通路522の壁面に対して接線方向に流入した圧縮空気は旋回せしめられ、渦流となって環状の空気流出口522aから流速を速めて流出される。この結果、環状の空気流出口522aによって囲繞されている液状樹脂流出口521a部には、環状の空気流出口522aから旋回しながら高速で流出する圧縮空気に起因して均一な負圧が形成されるため、液状樹脂流出口521aから液状樹脂が塊となることなく均一に流出し、渦流となって噴出する圧縮空気によって攪拌され微細なミストとなって噴霧される。
図1に戻って説明を続けると、上記液状樹脂収容容器51を支持する容器支持手段53は、液状樹脂収容容器51および噴霧ノズル52を支持する容器ホルダ531と、該容器ホルダ531を保持テーブル3の上面である保持面と平行に移動せしめる加工送り機構532を備えている。加工送り機構532は、容器ホルダ531に連結された支持部材533と、装置ハウジング2の側壁に配設され支持部材533を矢印Y1およびY2で示す方向に移動可能に案内する案内レール534と、支持部材533を案内レール534に沿って移動せしめる移動手段535とからなっている。支持部材533は、L字状に形成され上端が上記容器ホルダ531と連結する連結部533aと、該連結部533aの下端から水平に延びる支持部533bとからなっており、該支持部533bには上記案内レール534に摺動可能に嵌合する被案内溝533cが形成されている。従って、被案内溝533cを案内レール534に摺動可能に嵌合することにより、上記容器ホルダ531に連結された支持部材533は案内レール534に沿って矢印Y1およびY2で示す方向に移動可能に支持される。
上記加工送り機構532を構成する移動手段535は、装置ハウジング2の前壁に配設されたパルスモータ535aと、該パルスモータ535aの駆動軸に装着された駆動ローラ535bと間隔を置いて装置ハウジング2の側壁における後端部に配設された従動ローラ535cと、駆動ローラ535bと従動ローラ535cに巻回された無端ベルト535dとからなっており、無端ベルト535dが上記支持部材533の支持部533bに取付けられている。このように構成された移動手段535は、パルスモータ535aを正転駆動すると無端ベルト535dに取付けられた支持部材533が矢印Y1で示す方向に移動せしめられ、パルスモータ535aを逆転すると支持部材533が矢印Y2で示す方向に移動せしめられる。
図示の実施形態における液状樹脂の塗布装置は以上のように構成されており、以下その作用について説明する。
先ず、図5の(a)に示すように保持テーブル3の上面である保持面に被加工物としての半導体ウエーハWを載置する。この半導体ウエーハWは、裏面が研削されて所定の厚みに形成されており、表面に保護テープTが貼着された状態で保護テープT側が保持テーブル3に載置される。従って、半導体ウエーハWは、裏面が上側となる。このようにして、保持テーブル3上に載置された半導体ウエーハWは、図示しない吸引手段を作動することにより保持テーブル3に吸引保持される。保持テーブル3に半導体ウエーハWを吸引保持したならば、図5の(a)に示すように保持テーブル3を矢印Aで示す方向に例えば100rpmの回転速度で回転し、圧縮空気供給手段54を作動して例えば0.5Mpの圧縮空気を供給する。圧縮空気供給手段54によって供給された圧縮空気は、上述したように噴霧ノズル52の圧縮空気導入通路523から筒状の圧縮空気流通通路522に流入し、渦流となって環状の空気流出口522aから流速を速めて流出される。この結果、環状の空気流出口522aによって囲繞されている液状樹脂流出口521a部には、環状の空気流出口522aから旋回しながら高速で流出する圧縮空気に起因して均一な負圧が形成されるため、液状樹脂流出口521aから液状樹脂10が塊となることなく均一に流出し、渦流となって噴出する圧縮空気によって攪拌され微細なミスト10となって噴霧される。このようにして液状樹脂を噴霧するとともに、加工送り機構532の移動手段535のパルスモータ535aを正転駆動する。従って、上述したように噴霧ノズル52が装着された液状樹脂収容容器51を支持した容器ホルダ531に連結された支持部材533が図1および図5の(a)に示す待機位置から矢印Y1で示す方向に移動する。そして、容器ホルダ531に支持された液状樹脂収容容器51に装着された噴霧ノズル52の中心が保持テーブル3に保持された半導体ウエーハWの中心より10〜20mm手前の位置に達したら、移動手段535のパルスモータ535aを逆転駆動することにより、噴霧ノズル52を図1および図5の(a)に示す待機位置に戻し、図示しない圧縮空気供給手段からの圧縮空気の供給を停止して噴霧ノズル52からの液状樹脂の噴霧を停止する(液状樹脂塗布工程)。
この液状樹脂塗布工程における噴霧ノズル52の移動速度は、半導体ウエーハWの周速度が速い外周部領域では遅く、半導体ウエーハWの周速度が遅い中心領域においては速くすることが望ましく、例えば5〜10mm/秒の範囲で制御する。この結果、保持された半導体ウエーハWの裏面である被加工面(上面)には、液状樹脂が均一の厚みで塗布される。例えば、噴霧ノズル52から噴出される液状樹脂の量を(Q)ミリリットル/秒、噴霧ノズル52の移動速度を(V)mm/秒、噴霧ノズル52が位置付けられている半導体ウエーハWの中心からの距離を(r)mm、保持テーブル3の回転速度を(ω)ラジアン/秒とすると、Q/(V・r・ω)=一定(例えば30μm)となるように噴霧ノズル52の移動速度を(V)と保持テーブル31の回転速度を(ω) を制御すると、半導体ウエーハWの裏面である被加工面(上面)に一定の厚み(例えば30μm)の樹脂を被覆することができる。なお、噴霧ノズル52から噴出される液状樹脂の量 (Q)および保持テーブル3の回転速度 (ω)を一定にして、噴霧ノズル53の移動速度 (V)だけを制御するようにしてもよい。この結果、保持テーブル71に保持された半導体ウエーハWの裏面である被加工面(上面)には、図5の(b)に示すように液状樹脂10が均一の厚みで塗布される。
2:装置ハウジング
3:保持テーブル
4:電動モータ
5:液状樹脂塗布機構
51:液状樹脂収容容器
52:噴霧ノズル
53:容器支持手段
531:容器ホルダ
532:加工送り機構
535:移動手段
54:圧縮空気供給手段
W:半導体ウエーハ
T:保護テープ

Claims (2)

  1. 被加工物を保持する保持面を備えた保持テーブルと、該保持テーブルに保持された被加工物に液状樹脂を噴霧する噴霧ノズルと、該噴霧ノズルに液状樹脂を供給する液状樹脂供給源と、該噴霧ノズルに圧縮空気を供給する圧縮空気供給手段と、を具備する液状樹脂の塗布装置において、
    該噴霧ノズルは、該液状樹脂供給源と連通し下端面に液状樹脂流出口が開口する液状樹脂流通通路と、該液状樹脂流出通路を囲繞して設けられ下端面に環状の空気流出口が開口する筒状の圧縮空気流通通路と、該筒状の圧縮空気流通通路の上端部に連通するとともに該圧縮空気供給手段に連通された圧縮空気導入通路と、を具備し、
    該筒状の圧縮空気流通通路は、上端から下端に向けて縮径してロート状に形成され、該環状の空気流出口が該液状樹脂流出口を囲繞して設けられており、
    該圧縮空気導入通路は、該筒状の圧縮空気流通通路の壁面に対して接線方向に形成され、該筒状の圧縮空気流通通路に導入する圧縮空気を旋回せしめる、
    ことを特徴とする液状樹脂の塗布装置。
  2. 該液状樹脂供給源は、ダイボンディング用の接着剤としての液状樹脂を供給する、請求項1記載の液状樹脂の塗布装置。
JP2010131278A 2010-06-08 2010-06-08 液状樹脂の塗布装置 Active JP5662706B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010131278A JP5662706B2 (ja) 2010-06-08 2010-06-08 液状樹脂の塗布装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010131278A JP5662706B2 (ja) 2010-06-08 2010-06-08 液状樹脂の塗布装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011255296A true JP2011255296A (ja) 2011-12-22
JP5662706B2 JP5662706B2 (ja) 2015-02-04

Family

ID=45472089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010131278A Active JP5662706B2 (ja) 2010-06-08 2010-06-08 液状樹脂の塗布装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5662706B2 (ja)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02108756U (ja) * 1989-02-10 1990-08-29
JPH07124503A (ja) * 1993-11-01 1995-05-16 Mitsubishi Chem Corp 二流体ノズル及びこれを用いる噴霧乾燥方法
JPH08236554A (ja) * 1995-02-28 1996-09-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置,及び半導体装置の製造方法,並びに半導体装置のダイボンディング方法
JP2001239197A (ja) * 2000-02-29 2001-09-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd ペースト塗布装置およびペースト塗布方法
JP2003220353A (ja) * 2002-01-29 2003-08-05 Tokyo Autom Mach Works Ltd 糊噴射ノズル及び糊塗布装置
JP2005166792A (ja) * 2003-12-01 2005-06-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2006175358A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Fenwall Controls Of Japan Ltd 噴霧ノズルおよびこれを用いた噴霧消火ヘッド
JP2006286763A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハのレーザー加工方法およびレーザー加工装置
JP2011110523A (ja) * 2009-11-30 2011-06-09 Disco Abrasive Syst Ltd 液状樹脂の塗布装置および研削機

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02108756U (ja) * 1989-02-10 1990-08-29
JPH07124503A (ja) * 1993-11-01 1995-05-16 Mitsubishi Chem Corp 二流体ノズル及びこれを用いる噴霧乾燥方法
JPH08236554A (ja) * 1995-02-28 1996-09-13 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置,及び半導体装置の製造方法,並びに半導体装置のダイボンディング方法
JP2001239197A (ja) * 2000-02-29 2001-09-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd ペースト塗布装置およびペースト塗布方法
JP2003220353A (ja) * 2002-01-29 2003-08-05 Tokyo Autom Mach Works Ltd 糊噴射ノズル及び糊塗布装置
JP2005166792A (ja) * 2003-12-01 2005-06-23 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2006175358A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Fenwall Controls Of Japan Ltd 噴霧ノズルおよびこれを用いた噴霧消火ヘッド
JP2006286763A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハのレーザー加工方法およびレーザー加工装置
JP2011110523A (ja) * 2009-11-30 2011-06-09 Disco Abrasive Syst Ltd 液状樹脂の塗布装置および研削機

Also Published As

Publication number Publication date
JP5662706B2 (ja) 2015-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6032189B2 (ja) 塗布膜形成装置、塗布膜形成方法、記憶媒体
JP5324180B2 (ja) レーザ加工方法およびレーザ加工装置
CN107051831A (zh) 涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置
JP2010207723A (ja) 樹脂膜形成装置
CN106132564B (zh) 用于旋转涂布中的缺陷控制的盖板
KR20190093122A (ko) 연삭 연마 장치 및 연삭 연마 방법
JP2013078749A (ja) 塗布方法および塗布装置
KR20160022834A (ko) 반도체 기판 상에 접착 필름을 테이핑하기 위한 장치 및 방법
US10262880B2 (en) Cover plate for wind mark control in spin coating process
JP5479866B2 (ja) 液状樹脂の塗布装置および研削機
TWI697978B (zh) 傳送方法及傳送裝置
JP5637769B2 (ja) レーザー加工装置
JP5662706B2 (ja) 液状樹脂の塗布装置
KR102627121B1 (ko) 노즐 대기 장치, 액 처리 장치 및 액 처리 장치의 운전 방법 및 기억 매체
JP6305750B2 (ja) 静電気除去装置を備えた加工機
US20210346990A1 (en) Workpiece processing method
US11107671B2 (en) Method of processing semiconductor substrate
JP5335578B2 (ja) 塗布装置及び気流制御板
JP2014091207A (ja) 切削装置
JP2012139660A (ja) スピンナ洗浄装置
JP2011147853A (ja) 液状樹脂塗布装置
KR101847705B1 (ko) 기판 처리 장치
US20230234182A1 (en) Chuck table and grinding apparatus
TWI595532B (zh) 旋轉塗佈設備及用於製造半導體元件的方法
JP2018029151A (ja) ノズル調節治具

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130517

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140327

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140415

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140612

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20141111

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20141205

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5662706

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250