JP2011254315A - 半導体装置及びデータプロセッサ - Google Patents

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Abstract

【課題】動作電源電圧以上のアナロ信号を入力するための回路の回路規模を削減できる半導体装置を提供する。
【解決手段】アナログ信号(ISin)と基準電圧信号(HAVC)の夫々の外部入力端子からの入力に対して、対応する入力端子に一端が接続された入力抵抗素子(11,21)と、入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成するトランジスタ(14,24)と、対応する入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する定電流回路(16,26)とを設け、アナログ信号側の前記トランジスタに流れる電流と基準電圧信号側の前記トランジスタに流れる電流とをカレントミラー回路で夫々鏡映し、前記カレントミラー回路で得られる一対のミラー電流に応ずる差動信号を差動回路(40)に供給する。差動回路は差動信号の差に基づいてアナログ信号の信号成分を出力する。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置更にはデータプロセッサに係り、動作電源電圧よりも高い電圧の信号を入力する外部インタフェース技術に関し、例えばDVD(ディジタル・ビデオ・ディスク)から読み取られた信号を入力してデータ処理を行う信号処理用のデータプロセッサに適用して有効な技術に関する。
DVDなどの光ディスクから記録情報を読み取って出力する光ピックアップ用の半導体装置の電源電圧が5Vのとき、光ピックアップ用の半導体装置から読み取り信号を受け取って信号処理を行う半導体装置のアナログフロントエンドには5Vの耐圧が要求される。特許文献1には、その5Vの耐圧を得るアナログフロントエンドの回路構成を簡素化するために、3.3Vのような動作電源のアナログフロントエンドにおいて、外部入力端子に接続するESD保護回路の正極側のダイオードを複数個直列に接続し、ダイオード1個当たり0.7Vのような順方向降下電圧を考慮して5Vのような信号を後段に伝播可能とし、後段に伝播された信号を抵抗分圧回路で分圧し、分圧した信号を3.3Vで動作する内部回路に供給することが記載されている。
特開2007−189474号公報
しかしながら、特許文献1の技術は入力信号を抵抗分圧回路で分圧する方法を採用するから、信号処理回路における動作電圧の低電圧化に対して入力信号に必要な信号精度を得ることが難しくなり、また、ノイズの影響も受け易いという問題がある。また、ESD保護回路に複数個追加して直列に配置したダイオードによってチップ占有面積が増大する。更に、信号処理回路における動作電圧を低電圧化するほどダイオードの直列段数を増やさなければならず、チップ占有面積の増大という点で、動作電圧の低電圧化に対応することは容易ではないことが本発明者によって見出された。
本発明の目的は、動作電源電圧以上のアナログ信号を入力するための回路の回路規模を削減することができると共に、上記アナログ信号から必要な精度で信号を得ることが容易な半導体装置、更にはデータプロセッサを提供することにある。
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の通りである。
すなわち、アナログ信号と基準電圧信号のそれぞれの外部入力端子からの入力に対して、対応する入力端子に一端が接続された入力抵抗素子と、前記入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成するトランジスタと、対応する入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する定電流回路とを設け、アナログ信号側の前記トランジスタに流れる電流と基準電圧信号側の前記トランジスタに流れる電流とをカレントミラー回路で夫々鏡映し、前記カレントミラー回路で得られる一対のミラー電流に応ずる差動信号を差動回路に供給する。差動回路は差動信号の差に基づいて前記アナログ信号の信号成分を後段に出力する。ESD保護ダイオードは入力抵抗素子の他端に接続されて配置される。
前記定電流回路は入力抵抗素子の他端を定電圧とするようにトランジスタのフィードバック制御を行うことによって入力信号の電圧に応じた電流をトランジスタに流し、それをカレントミラー回路のミラー電流として取り出す。入力信号を電圧信号として抵抗分圧回路で分圧する信号入力形態を採用することを要しないので、ESD保護回路に複数個のダイオードを直列配置したり、抵抗分圧回路を必要としな分だけ、回路規模が小型になる。
前記トランジスタのサイズ、及び前記トランジスタに流れる電流に対してカレントミラー回路で鏡映される電流の大きさを決めるミラー電流比などにしたがって、入力アナログ信号に対して所要帯域の信号を後段の信号処理回路に供給することができる。更に、外部からの入力信号に対して基準電圧信号との差動電流に基づいて信号を得るから、同相ノイズ成分がキャンセルされる。したがって、上記アナログ信号から必要な信号精度で信号を得る事が容易になる。また、電圧信号処理と異なり、低インピーダンスのカレントミラーの回路で処理するため信号帯域を高く保つことが可能である。
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである。
すなわち、動作電源電圧以上のアナログ信号を入力するための回路の回路規模を削減することができると共に、上記アナログ信号から必要な精度で信号を得ることが容易である。
図1はアナログインタフェース回路として光ピックアップから出力されるアナログ信号の内の一つの信号を入力する回路構成を例示する回路図である。 図2は本発明の一実施の形態に係るデータプロセッサを用いたDVD装置のシステム構成を全体的に例示するブロック図である。 図3はアナログインタフェース回路の特性を調整するための構成を示す部位ロック図ブロック図である。 図4は制御レジスタCREG4の制御データを決めるオフセット調整動作のフローチャートである。 図5は制御レジスタCREG5の制御データを決めためのるゲイン調整動作のフローチャートである。 図6はピックアップ部とアナログインタフェース回路との動作電源の関係を示すブロック図である。
1.実施の形態の概要
先ず、本願において開示される発明の代表的な実施の形態について概要を説明する。代表的な実施の形態についての概要説明で括弧を付して参照する図面中の参照符号はそれが付された構成要素の概念に含まれるものを例示するに過ぎない。
〔1〕<一端が定電圧にフィードバックされた抵抗に流れる電流をカレントミラーで取り出す>
発明の代表的な実施の形態に係る半導体装置(1)は、外部からアナログ信号(Sin)が入力される外部アナログ入力端子(10)と、前記外部アナログ入力端子に一端が接続された第1入力抵抗素子(11)と、前記第1入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成する第1トランジスタ(14)、前記第1入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記第1トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する第1定電流回路(1515
,16,17)とを有する。同じく、外部から基準電圧(HAVC)が入力される外部基準電圧入力端子(20)と、前記基準電圧入力端子に一端が接続された第2入力抵抗素子(21)と、前記第2入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成する第2トランジスタ(24)、前記第2入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記第2トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する第2定電流回路(25,26,27)とを有する。更に、前記第1トランジスタに流れる電流と前記第2トランジスタに流れる電流とを夫々鏡映するカレントミラー回路(CMRR)と、前記カレントミラー回路で得られる一対のミラー電流に応ずる差動信号を入力する差動回路(40)と、を有する。
前記第1定電流回路は第1入力抵抗素子の他端を定電圧とするように第1トランジスタのフィードバック制御を行うことによってアナログ信号の電圧に応じた電流を第1トランジスタに流し、それに応ずるミラー電流をカレントミラー回路で生成する。基準電圧についても同様であり、基準電圧に応じた電流を第2トランジスタに流してそれに応ずるミラー電流をカレントミラー回路で生成する。このように、入力されたアナログ信号を電圧信号として抵抗分圧回路で分圧するような信号入力形態を採用しないので、ESD保護回路に複数個のダイオードを直列配置することを要せず、抵抗分圧回路を必要としな分だけ、回路規模が小型になる。
前記第1及び第2トランジスタのサイズ、及び前記第1及び第2トランジスタに流れる電流に対してカレントミラー回路で鏡映される電流の大きさを決めるミラー電流比などにしたがって、アナログ信号に対して所要帯域の信号を後段の信号処理回路などに供給することができる。更に外部から入力されるアナログ信号に対して基準電圧信号との差動電流に基づいて信号を得るから、同相ノイズ成分をキャンセルすることができる。したがって、上記アナログ信号から必要な信号精度で信号を得る事が容易である。
〔2〕<ESD保護ダイオード>
項1の半導体装置において、前記第1抵抗素子の他端と前記第2抵抗素子の他端に夫々個別に接続されたESD保護ダイオード(12,13,22,23、)を有する。
ESD保護回路による過電圧の吸収は第1抵抗素子による電流制限を受けた後に行われるからアナログ信号の信号成分は不所望に消失することはない。
〔3〕<第1定電流回路>
項1又は2の半導体装置において、前記第1定電流回路は、定電流源(15,17)と、前記定電流源からの電流と前記第1抵抗素子の他端からの電流とを入力しゲートに定電圧を受けてコンダクタンス制御され電流出力ノードの電圧で前記第1トランジスタのコンダクタンスを制御する第1フィードバックトランジスタ(16)と、を有する。
第1定電流回路を簡単に構成することができる。
〔4〕<第2定電流回路>
項1乃至3のいずれかの半導体装置において、前記第2定電流回路は、定電流源(25,27)と、前記定電流源からの電流と前記第2抵抗素子の他端からの電流とを入力しゲートに定電圧を受けてコンダクタンス制御され電流出力ノードの電圧で前記第2トランジスタのコンダクタンスを制御する第2フィードバックトランジスタ(26)と、を有する。
第2定電流回路を簡単に構成することができる。
〔5〕<所定の一定電圧>
項1乃至4のいずれかの半導体装置において、前記第1定電流回路及び第2定電流回路の夫々における前記所定の一定電圧は前記基準電圧に等しい電圧である。
基準電圧に対応する電流を基準として一対のミラー電流をカレントミラー回路で形成することができ、これに応ずる差動信号を入力する差動回路は、差動信号の差に基づいて前記アナログ信号の信号成分を出力することができる。
〔6〕<VREF発生回路>
項5の半導体装置において、前記基準電圧を生成する基準電圧生成回路(322)を有する。
前記アナログ信号を生成する回路で使用する基準電圧と半導体装置がアナログ信号の入力インタフェース制御に用いる基準電圧とを整合させることが容易になる。
〔7〕<第1及び第2トランジスタのサイズ可変>
項1乃至6のいずれか半導体装置において、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタはトランジスタサイズ可変の回路であり、そのトランジスタサイズを可変に設定するための制御レジスタ(CREG1)を有する。
製造プロセスのばらつきなどによるトランジスタ特性のばらつきや温度などの使用環境条件の相違に応じて前記所定の一定電圧を得るための調整が容易になる。
〔8〕<カレントミラー回路のミラー電流比可変>
項1乃至7のいずれか半導体装置において、前記第1トランジスタに流れる電流と前記第2トランジスタに流れる電流との夫々に流れる電流に対して前記カレントミラー回路で鏡映されえるミラー電流の大きさを決めるミラー電流比を可変に設定するための制御レジスタ(CREG2)を有する
第1トランジスタ及び第2トランジスタに流れる電流に対してカレントミラー回路から出力され差動信号のゲインの調整が容易になる。
〔9〕<オフセット調整>
項1乃至8のいずれか半導体装置において、前記差動回路に与えられる差動信号のオフセットを調整するためのオフセット調整値を出力するDAC(52)を有し、DACが出力するオフセット調整値を可変に設定するための制御レジスタ(CREG4)を有する。
前記差動回路に入力された差動信号のオフセットを容易にキャンセルすることができる。
〔10〕<可変抵抗としての入力抵抗素子>
項1乃至9のいずれか半導体装置において、前記第1入力抵抗素子及び第2入力抵抗素子は可変抵抗素子である。
製造プロセスのばらつきなどによるトランジスタ特性のばらつきや温度などの使用環境条件の相違に応じて前記所定の一定電圧を得るための調整が容易になる。
〔11〕<一端が定電圧にフィードバックされた抵抗に流れる電流をカレントミラーで取り出す>
発明の別の実施の形態に係るデータプロセッサは、アナログインタフェース回路(271)と、前記アナログインタフェース回路から出力されるアナログ信号(Sin)をディジタル信号に変換するAD変換回路(50)と、前記AD変換回路の出力を用いてデータを処理を行うデータ処理回路(320,330)とを有する。前記アナログインタフェース回路は、外部からアナログ信号が入力される外部アナログ入力端子(10)に一端が接続された第1入力抵抗素子(11)と、前記第1入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成する第1トランジスタ(14)、前記第1入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記第1トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する第1定電流回路(15,16,17)とを有する。更に前記アナログインタフェース回路は、外部から基準電圧(HAVC)が入力される外部基準電圧入力端子(20)に一端が接続された第2入力抵抗素子(21)と、前記第2入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成する第2トランジスタ(24)、前記第2入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記第2トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する第2定電流回路(25,26,27)とを有する。更にアナログインタフェース回路は、前記第1トランジスタに流れる電流と前記第2トランジスタに流れる電流とを夫々鏡映するカレントミラー回路(CRNT)と、前記カレントミラー回路で得られる一対のミラー電流に応ずる差動信号を形成入力する差動回路(40)とを有する。
項1と同様に、入力されたアナログ信号を電圧信号として抵抗分圧回路で分圧するような信号入力形態を採用しないので、ESD保護回路に複数個のダイオードを直列配置することを要せず、抵抗分圧回路を必要としな分だけ、回路規模が小型になる。そして、上記アナログ信号から必要な信号精度で信号を容易に得る事ができる。
〔12〕<ESD保護ダイオード>
項11の半導体装置において、前記第1抵抗素子の他端と前記第2抵抗素子の他端に夫々個別に接続されたESD保護ダイオードを有する。
ESD保護回路による過電圧の吸収は第1抵抗素子による電流制限を受けた後に行われるからアナログ信号の信号成分は不所望に消失することはない。
〔13〕<CPU,DSP>
項11又は12のデータプロセッサにおいて、前記AD変換回路は、前記差動回路の出力をアナログ信号からディジタル信号に変換し、前記データ処理回路は、前記AD変換回路から出力されるディジタル信号に対してディジタル信号処理を行うDSP(330)と、前記アナログインタフェース回路を制御するCPU(320)とを有する。
OPUデバイスから出力される読み取り信号に対する信号処理を行うことができる。
〔14〕<OPUデバイスとの連携>
項13のデータプロセッサにおて、前記アナログ信号は光ディスクから光学的に読み取られた光信号に基づいて得られる電気信号である。
OPUデバイスから出力される読み取り信号に対する信号処理を行うことができる。
〔15〕<第1及び第2トランジスタのサイズ可変>
項14のデータプロセッサにおいて、前記第1トランジスタ及び第2トランジスタはトランジスタサイズ可変の回路であり、そのトランジスタサイズを可変に設定するための第1制御レジスタを有する。
製造プロセスのばらつきなどによるトランジスタ特性のばらつきや温度などの使用環境条件の相違に応じて前記所定の一定電圧を得るための調整が容易になる。
〔16〕<カレントミラー回路のミラー電流比可変>
項15のデータプロセッサにおいて、前記第1トランジスタに流れる電流と前記第2トランジスタに流れる電流との夫々に流れる電流に対して前記カレントミラー回路で鏡映されえるミラー電流の大きさを決めるミラー電流比を可変に設定するための第3制御レジスタを有する。
第1トランジスタ及び第2トランジスタに流れる電流に対してカレントミラー回路から出力され差動電流信号のゲインの調整が容易になる。
〔17〕<オフセット調整>
項16のデータプロセッサにおいて、前記差動回路に与えられる差動信号のオフセットを調整するためのオフセット調整値を出力するDA変換回路を有し、DA変換回路が出力するオフセット調整値を可変に設定するための第4制御レジスタを有する。
前記差動回路に入力された差動電流信号のオフセットを容易にキャンセルすることができる。
〔18〕<可変抵抗としての入力抵抗素子>
項17のデータプロセッサにおいて、前記第1入力抵抗素子及び第2入力抵抗素子は可変抵抗素子である。
製造プロセスのばらつきなどによるトランジスタ特性のばらつきや温度などの使用環境条件の相違に応じて前記所定の一定電圧を得るための調整が容易になる。
〔19〕<CPUによるレジスタ設定>
項18のデータプロセッサにおいて、前記第1制御レジスタ、前記第2制御レジスタ、前記第3制御レジスタ、及び前記第4制御レジスタは前記CPUによって書き込み及び読み出しアクセス可能なレジスタである。
CPUのプログラムにしたがって前記レジスタの値をプログラマブルに設定することができる。
2.実施の形態の詳細
実施の形態について更に詳述する。
《DVD装置》
図2には本発明の一実施の形態に係るデータプロセッサ1を用いたDVD装置のシステム構成が例示される。データプロセッサはアナログフロントエンド部200とデータ処理部300を有し、アナログフロントエンド部200には光ピックアップ100が接続され、データ処理部300にはメモリ390が接続される。データプロセッサ1は、特に制限されないが、相補型MOS集積回路製造技術などによって単結晶シリコンのような1個の半導体基板に形成される。データプロセッサ1は1チップであることに限定されず、アナログフロントエンド部200とデータ処理部300は別々に半導体集積回路で構成されてもよい。
アナログフロントエンド部(以下、AFEと略す)200は、光ピックアップ100の光電変換回路(OEIC)130から入力される信号を内部の回路に適したレベルの信号に変換する回路などを有するアナログインタフェース回路271を備える。また、AFE200は、ピックアップから入力される高周波の再生信号から包絡線を抽出するなどの処理を行なうRF系回路272、ピックアップのウォブル(うねり)やLPP(ランドプリビット)、ID領域などを検出する第1検出回路273、MIRRやDefect(欠陥)などを検出する第2検出回路274を備える。LPP部は、溝と溝の間のランド部に記録してあるアドレス情報である。DSKはDVDなどの光ディスクである。
第2検出回路274によるMIRR検出は、トラックアクセスのために、再生信号の包絡線のトップとボトムの間に適当なしきい値レベルを設けて、ピックアップがトラックを横断しているときのリップルを検出する処理である。第2検出回路274によるDefect検出は、ディスク表面の欠陥や傷により反射光のトップレベルがダウンするのを検出して欠陥の有無を判定する処理である。
さらに、AFE200は、フォーカス方向やトラッキング方向等の位置合わせのためにピックアップからの信号を処理するサーボ系回路275、記録品質を検証するための信号抽出を行なうOPC回路276、発光素子の出力を制御する自動パワー制御(APC)回路277、上位の制御装置としてのデジタル信号処理LSI300からの設定値を保持するレジスタ278を備える。
光ピックアップ100は、光ディスクに対してレーザー光を照射する発光素子を駆動するLDドライバ110や発光素子の光量を一定にするために発光強度を検出するフロントモニタ検出器120を備える。また、光ピックアップ100は、光ディスクからの反射光を電気信号に変換し増幅する光電変換用IC130、フォーカス方向やトラッキング方向等の位置合わせをするアクチュエータ140などを備える。
データ処理部300は、AFE200からの信号をAD変換するAD変換回路310、プログラムに従ってシステム全体の制御等を行なう中央処理ユニット(CPU)320、アナログフロントエンドLSI200からのサーボ系信号を元にレンズの位置合わせのためのデジタル演算処理を行なうDSP330を備える。また、データ処理部300は、再生信号から読出し同期用のリードロックを生成するPLL回路からなるデータストローブ回路340やディスクへの記録時に必要なライトクロックを生成するW−PLL回路350を備える。
さらに、データ処理部300は、ウォブル検出信号を元にウォブルの位相変調によるアドレス情報や絶対位置情報を生成する、ATIP,ADIP処理部360、リードデータの復号、エラー訂正、デコード(伸長)などを行なうデコーダ部370、ライトデータの符号化(圧縮)を行なうエンコード部380も備えている。CPU320が実行するプログラムは、外付けメモリ390に格納されているが、内蔵メモリを設けて格納するように構成しても良い。
前記光ピックアップ100の動作電源電圧は例えば5Vであり、光ピックアップ100から信号を入力するアナログインタフェース回路271の動作電源電圧は3.3Vである。図示を省略するディジタルインタフェース回路の動作電源電圧も例えば3.3Vとされる。アナログインタフェース回路271及びディジタルインタフェース回路に接続して動作を行うサーボ系回路やデータ処理部などの内部回路は、特に制限されないが、1.5Vの動作電源を用いて動作する。
《アナログインタフェース回路》
図1にはアナログインタフェース回路271として光ピックアップ100から出力されるアナログ信号の内の一つの信号を入力する回路構成が例示される。Sinは光ピックアップから出力される一つのアナログ信号を示し、HAVCはアナログ信号Sinの基準レベルを意味する基準電圧である。基準電圧HAVCは、特に制限されないが、データプロセッサ1が生成して出力する。
アナログインタフェース回路271は、特に制限されないが、アナログ信号Sinに応じた電流を生成する電流生成回路CRNT1、基準電圧HAVC応じた電流を生成する電流生成回路CRNT2、電流生成回路CRNT1,CRNT2で生成された電流を鏡映して差動電流信号を生成し、それに応じた差動電圧を出力するカレントミラー回路CMRR、及びカレントミラー回路CMRRから出力される差動電圧信号を入力してその差電圧信号41を出力する差動回路(DIFF)40を備える。
電流生成回路CRNT1は次のように構成される。アナログ信号Sinは外部アナログ入力端子10から入力され、外部アナログ入力端子10には入力抵抗素子11の一端が接続され、他端にはESD保護ダイオード12,13が接続される。アナログ信号Sinの信号レベルは光ピックアップ100の動作電源電圧に応じ例えば最大5Vとされる。アナログインタフェース回路271の動作電源電圧Vddは例えば3.3Vであり、ESD保護ダイオード12は入力抵抗素子11から電源電圧Vddに向かって順方向に配置され、ESD保護ダイオード13は入力抵抗素子11からグランド電圧Vss(例えば0V)に向かって逆方向に配置される。前記入力抵抗素子11の他端にはnチャンネル型のMOSトランジスタ14が接続されて一つの電流経路を形成する。更に、電流源15、ゲート電圧が固定電圧VGにされたpチャンネル型MOSトランジスタ16及び電流源17の直列回路が設けられ、MOSトランジスタ16のソースが前記入力抵抗素子11の他端に結合され、MOSトランジスタ16のドレインがMOSトランジスタ14のゲートに接続されて、電流源15とMOSトランジスタ16の結合ノード18を電源電圧Vddよりも低い所定の一定電圧とするように前記MOSトランジスタ14のコンダクタンスをフィードバック制御する第1定電流回路が構成される。
電流生成回路CRNT2は次のように構成される。基準電圧HAVCは外部基準電圧入力端子20から入力され、外部基準電圧入力端子20には入力抵抗素子21の一端が接続され、他端にはESD保護ダイオード22,23が接続される。基準電圧HAVCの信号レベルは例えば2.1V,1.9V又は1.65Vなどの特定の電圧であり、前記アナログ信号Sinはこの基準レベルの上に信号成分が重畳された信号波形を有している。ESD保護ダイオード22は入力抵抗素子21から電源電圧Vddに向かって順方向に配置され、ESD保護ダイオード23は入力抵抗素子21からグランド電圧Vss(例えば0V)に向かって逆方向に配置される。前記入力抵抗素子21の他端にはnチャンネル型のMOSトランジスタ24が接続されて一つの電流経路を形成する。更に、電流源25、ゲート電圧が固定電圧VGにされたpチャンネル型MOSトランジスタ26及び電流源27の直列回路が設けられ、MOSトランジスタ26のソースが前記入力抵抗素子21の他端に結合され、MOSトランジスタ26のドレインがMOSトランジスタ24のゲートに接続されて、電流源25とMOSトランジスタ26の結合ノード28を電源電圧Vddよりも低い所定の一定電圧とするように前記MOSトランジスタ24のコンダクタンスをフィードバック制御する第2定電流回路が構成される。
ここで、信号成分のないアナログ入力信号Sinの電圧は基準電圧HAVCに等しくされる。また、上記外部アナログ入力端子10に接続して電流経路を構成する回路の回路特性と、上記外部基準電圧入力端子20に接続して電流経路を構成する回路の回路特性とは対称性を有する。前記入力抵抗素子11,21の抵抗値、MOSトランジスタ14,24のサイズ、MOSトランジスタ16,26のサイズ、電流源15,17,25,27の電流供給能力は、前記ノード18,28の電圧が基準電圧HAVCとなるように決定されている。その抵抗値及びトランジスタサイズを可変にするために抵抗11,21は可変抵抗で構成され、MOSトランジスタ14,24はゲート幅が選択可能に構成される。ゲート幅を選択可能にするには複数個の単位MOSトランジスタを並列配置しておきその中から所要個数の単位MOSとランジスを選択して使用可能に構成すればよい。これにより、製造プロセスのばらつきなどによるトランジスタ特性のばらつきや温度などの使用環境条件の相違に応じて前記所定の一定電圧を得るための調整が容易になる。
カレントミラー回路CMRRは次のように構成される。nチャンネル型のMOSトランジスタ30はゲートに前記MOSトランジスタ14のゲート電圧を受けることにより、MOSトランジスタ14に流れる電流の整数倍の電流を電源電圧Vddから抵抗32を介して流す。nチャンネル型のMOSトランジスタ31はゲートに前記MOSトランジスタ24のゲート電圧を受けることにより、MOSトランジスタ24に流れる電流の整数倍の電流を電源電圧Vddから抵抗33を介して流す。MOSトランジスタ30,31のドレインには差動電電圧が形成される。
例えば、入力抵抗素子11に流れる電流をIs、MOSトランジスタ14に流れる電流を便宜上Is+Ibとすると、MOSトランジスタ30にはそのG倍の電流G×(Is+Ib)が鏡映されて流れる。一方、入力抵抗素子21に流れる電流をIz、MOSトランジスタ24に流れる電流を便宜上Iz+Ibとすると、MOSトランジスタ31にはそのG倍の電流G×(Iz+Ib)が鏡映されて流れる。抵抗32、33の抵抗値をRxとすると、差動回路40に入力される差動電圧を便宜上α×Rx×(Is+Ib),α×Rx×(Iz+Ib)と表すことができる。差動回路40の出力電圧41は(Is−Ib)の差分に比例した電圧β×(Is−Iz)とされる。
また、抵抗11、21、32、33を温度係数の等しい抵抗で構成することにより、差動回路40に入力される電圧の温度特性を小さくすることが可能となる。
前記MOSトランジスタ30,31は上述と同様にゲート幅が選択可能に構成される。これにより、電流(Is+Ib)、(Iz+Ib)に対して鏡映される電流G×(Is+Ib)、G×(Iz+Ib)の大きさを可変にできる。これにより、差動電流G×(Is+Ib)、G×(Iz+Ib)のゲインの調整を容易に行うことができる。
《アナログインタフェース回路の特性調整》
図3にはアナログインタフェース回路271の特性を調整するための構成を示す。CREG1はMOSDトランジスタ14,24のゲート幅を共通に設定する設定データが格納される制御レジスタ、CREG2はMOSDトランジスタ30,31のゲート幅を共通に設定する設定データが格納される制御レジスタ、CGR3は入力抵抗素子11,21の抵抗値を共通に設定する設定データが格納される制御レジスタであり、制御データの設定はCPU320がその動作プログラムに従って行う。321は内部バスである。
差動回路40の回路構成については特に制限されず、差動電流から得られる差動電圧のような差動信号を入力してその差に応じた信号41を形成すればよい。CRFEG4は差動信号のオフセット更には差動回路40それ自体の入力オフセット2をキャンセルするための制御データが格納される制御レジスタ、CREG5は差動回路40の入力に対する出力のゲインを調整するための制御データが格納される制御レジスタである。制御レジスタCREG4の制御データはDA変換回路52に入力されてアナログ信号に変換され、変換されたアナログ信号がオフセット調整用の信号として例えば差動入力信号の一方に加算される。制御レジスタCREG5の制御データは例えばゲインを調整する帰還抵抗の抵抗値をの選択に用いられる。
差動回路40から出力される差の信号41はAD変換回路50でディジタルデータ51に変換され、ピックアップのウォブル(うねり)やLPP(ランドプリビット)、ID領域などを検出する第1検出回路273、MIRRやDefect(欠陥)などを検出する第2検出回路274、サーボ系回路275、及び記録品質を検証するための信号抽出を行なうOPC回路276に供給される。
図4には制御レジスタCREG4の制御データを決めるオフセット調整動作のフローチャートが例示される。このオフセット調整は電源投入時、又はディスクのローディング時などに行われる。
データプロセッサ1に電源が投入され(LSI Power On)、ピックアップ回路100の動作電源が投入され(Pick Up Power On)とき、レーザ光の照射を行わず(Laser Off)、受光素子(OEIVC)を光電変換可能にして(OEIC On)、OEICの出力が基準レベル(基準電圧HAVC)となるようにオフセット調整を開始する(S1)。まずAD変換回路50による出力信号51の変換データをCPU320が取り込んで(S2)、例えばCPU320はオフセット制御データの最小値をオフセット設定値として制御レジスタCREG4に設定する(S3)。CPU320は取り込んだAD変換値と目標となる基準電圧に応ずるターゲット値とを比較し(S4)、ターゲット値が小さければ、オフセット設定値に+1し(S5)、インクリメントしたオフセット設定値のAD変換結果と再度ターゲット値と比較する動作を繰り返し(S4、S5)、AD変換結果がターゲット値以下になったところで、今回のAD変換結果(ADC[n])と前回のAD変換結果(ADC[n−1])との大小関係に従ってオフセット調整値を確定する(S6)。すなわち、ターゲット値をまたいだ前後でAD変換結果とターゲット値の差分が小さいほうのオフセット値を、制御レジスタCREG4に最終的に設定する制御データとする。
図5には制御レジスタCREG5の制御データを決めるゲイン調整動作のフローチャートが例示される。このゲイン調整は電源投入時、又はディスクのローディング時などに行われる。
データプロセッサ1に電源が投入され(LSI Power On)、ピックアップ回路100の動作電源が投入され(Pick Up Power On)とき、サーボをオンにして(Servo On)ディスクをリードしながら、アナログ信号のトップレベルをターゲット値に合わせるようにゲイン調整を開始する(S11)。まず、図3に示すトップレベル検出回路(TLD)52で信号51のトップレベル値を検出し、そのトップレベル値をCPU320が取り込んで(S12)、例えばCPU320はゲイン制御データの最小値をゲイン設定値として制御レジスタCREG5に設定する(S13)。CPU320は取り込んだトップレベル値と目標となるゲインに応ずるターゲット値とを比較し(S14)、ターゲット値が小さければ、ゲイン設定値に+1し(S15)、インクリメントしたゲイン設定値によるトップレベル値と再度ターゲット値と比較する動作を繰り返し(S14、S15)、トップレベル値がターゲット値以下になったところで、今回のトップレベル値(TOP[n])と前回のトップレベル値(TOP[n−1])との大小関係に従ってゲイン設定値を確定する(S16)。すなわち、ターゲット値をまたいだ前後でトップレベル値とターゲット値の差分が小さいほうのゲイン設定値を、制御レジスタCREG5に最終的に設定する制御データとする。
図6にはピックアップ部100とアナログインタフェース回路271との動作電源の関係が示される。前述の通り、光電変換回路130の動作電源は例えば5Vであり、アナログインタフェース回路271の動作電源は3.3Vである。基準電圧HAVCを生成する基準電圧発生回路(VREFG)322の動作電源は3.3Vとされる。61はアナログインタフェース回路271における3.3Vの動作電源領域、60は基準電圧発生回路(VREFG)322における3.3Vの動作電源領域、62は光電変換回路130における5Vの動作電源領域である。
以上説明したデータプロセッサによれば以下の作用効果を得る。
(1)前述のごとく、アナログ信号Sinに対して、定電流フィードバックMOSトランジスとして機能するMOSトランジスタ16のソース電位をMOSトランジスタ14のゲートにフィードバックすることによって、入力抵抗素子11の他端(MOSトランジスタM16のドレイン)のノード18の電圧を基準電圧に維持するように、MOSトランジスタのコンダクタンスを制御するから、最大電圧が5V近傍になるアナログ信号Sinの入力に対して、61で示される3.3Vの動作電源領域の耐圧を保証することができる。ESD保護ダイオードの直列段数を増やすることを要せず、また、そのようにして入力したアナログ信号を抵抗分圧回路で分圧して後段回路の耐圧に整合させるとう従来の手法を採用することを要しない。したがって、ESD保護ダイオードの数を増やしたり抵抗分圧回路を用いることを要しない分だけ、回路規模を小型化することができる。
(2)抵抗分圧を用いないから動作電圧の低電圧化にも容易に対応することができる。
(3)基準電圧HAVCの入力側についてもアナログ信号Sinの入力側と特性的に対称性のある回路構成を備え、夫々の入力に対してカレントミラー回路で差動電流信号若しくは差動電圧信号を形成するから、その差分を採ることによって同相ノイズ成分を容易にキャンセルすることができる。また、差動電流信号の大きさは、MOSトランジスタ14,24のサイズ、MOSトランジスタ30,31のサイズなどにしたがって容易に若しくは任意に決定することができ、アナログ信号に対して所要帯域の信号41を生成して後段に供給することができる。したがって、上記アナログ信号Sinから必要な信号精度で信号41又は51を得る事が容易である。
(4)定電圧ノード18,28の電圧を基準電圧HAVCとすることにより、基準電圧HAVCに対応する電流を基準として一対のミラー電流をカレントミラー回路CMRRで形成することができ、これを差動信号として入力する差動回路40は、差動信号の差に基づいて前記アナログ信号Sinの信号成分を出力することができる。
(5)前記入力抵抗素子11,21の抵抗値、MOSトランジスタ14,24のサイズ、MOSトランジスタ16,26のサイズ、電流源15,17,25,27の電流供給能力は、前記ノード18,28の電圧が基準電圧HAVCとなるように決定されおり、その抵抗値及びトランジスタサイズを可変にするために抵抗11,21は可変抵抗で構成され、MOSトランジスタ14,24はゲート幅が選択可能に構成される。これにより、製造プロセスのばらつきなどによるトランジスタ特性のばらつきや温度などの使用環境条件の相違に応じて前記所定の一定電圧を得るための調整が容易になる。
(6)前記MOSトランジスタ30,31はゲート幅が選択可能に構成されるので、図1で説明したように電流(Is+Ib)、(Iz+Ib)に対して鏡映される電流G×(Is+Ib)、G×(Iz+Ib)の大きさを可変にできるから、差動電流G×(Is+Ib)、G×(Iz+Ib)のゲインの調整を容易に行うことができ、入力アナログ信号の信号成分に対して容易に所要の信号帯域で差電圧41を得ることができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。
例えば、外部アナログ入力端子の数は1個に限定されず、光ディスクからの読み取り信号を処理する場合を想定すれば全部で2桁の数の端子数になるのが通例である。この場合、基準電圧HAVCを生成する回路は共通化することができる。また、差動回路の回路構成、カレントミラー回路の回路構成はなんら限定されるものではない。また、可変抵抗に対する抵抗値設定やゲート幅可変のMOSトランジスタに対するゲート幅の設定はCPUによるレジスタへの制御データのセットで行う構成に限定されず、ヒューズプログラム回路を用いて行ってもよい。また、データプロセッサはシングルチップであってもマルチチップであってもよい。光ディスクはDVDに限定されずCDなどであってもよい。アナログ入力回路の動作電源電圧は3.3Vに限定されず、1.5Vのようにそれよりも低い電圧であってもよい。
1 データプロセッサ
200 アナログフロントエンド部
100 光ピックアップ
300 データ処理部
130 光電変換回路(OEIC)
320 中央処理ユニット(CPU)
330 DSP
Sin アナログシンゴウ
HAVC 基準電圧
271 アナログインタフェース回路
CRNGT1 電流生成回路
CRNTG2 電流生成回路
CMRR カレントミラー回路
40 差動回路(DIFF)
10 外部アナログ入力端子
12,13 ESD保護ダイオード
11 入力抵抗素子
14 MOSトランジスタ
16 定電流フィードバッグ制御用のpチャンネル型MOSトランジスタ
18 定電圧ノード
20 外部アナログ入力端子
22,23 ESD保護ダイオード
21 入力抵抗素子
24 MOSトランジスタ
26 定電流フィードバッグ制御用のpチャンネル型MOSトランジスタ
28 定電圧ノード
30,31 nチャンネル型の電流ミラーMOSトランジスタ
32,33 抵抗
CREG1〜CREG5 制御レジスタ

Claims (19)

  1. 外部からアナログ信号が入力される外部アナログ入力端子と、
    前記外部アナログ入力端子に一端が接続された第1入力抵抗素子と、
    前記第1入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成する第1トランジスタ、
    前記第1入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記第1トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する第1定電流回路と、
    外部から基準電圧が入力される外部基準電圧入力端子と、
    前記基準電圧入力端子に一端が接続された第2入力抵抗素子と、
    前記第2入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成する第2トランジスタ、
    前記第2入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記第2トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する第2定電流回路と、
    前記第1トランジスタに流れる電流に比例するミラー電流と前記第2トランジスタに流れる電流に比例するミラー電流とを生成するカレントミラー回路と、
    前記カレントミラー回路で得られるミラー電流に応ずる一対の差動信号を入力する差動回路と、を有する半導体装置。
  2. 前記第1抵抗素子の他端と前記第2抵抗素子の他端に夫々個別に接続されたESD保護ダイオードを有する、請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記第1定電流回路は、定電流源と、前記定電流源からの電流と前記第1抵抗素子の他端からの電流とを入力しゲートに定電圧を受けてコンダクタンス制御され電流出力ノードの電圧で前記第1トランジスタのコンダクタンスを制御する第1フィードバックトランジスタと、を有する請求項1記載の半導体装置。
  4. 前記第2定電流回路は、定電流源と、前記定電流源からの電流と前記第2抵抗素子の他端からの電流とを入力しゲートに定電圧を受けてコンダクタンス制御され電流出力ノードの電圧で前記第2トランジスタのコンダクタンスを制御する第2フィードバックトランジスタと、を有する請求項3記載の半導体装置。
  5. 前記第1定電流回路及び第2定電流回路の夫々における前記所定の一定電圧は前記基準電圧に等しい電圧である、請求項1記載の半導体装置。
  6. 前記基準電圧を生成する基準電圧生成回路を有する、請求項5記載の半導体装置。
  7. 前記第1トランジスタ及び第2トランジスタはトランジスタサイズ可変の回路であり、そのトランジスタサイズを可変に設定するための制御レジスタを有する、請求項1記載の半導体装置。
  8. 前記第1トランジスタに流れる電流と前記第2トランジスタに流れる電流との夫々に流れる電流に対して前記カレントミラー回路で生成されるミラー電流の大きさを決めるミラー電流比を可変に設定するための制御レジスタを有する、請求項1記載の半導体装置。
  9. ディジタルデータをアナログ信号に変換して前記差動回路に与えられる差動信号のオフセットを調整するためのオフセット調整値を出力するDA変換回路を有し、前記DA変換回路が出力するオフセット調整値を可変に設定するための制御レジスタを有する、請求項1記載の半導体装置。
  10. 前記第1入力抵抗素子及び第2入力抵抗素子は可変抵抗素子である、請求項1記載の半導体装置。
  11. アナログインタフェース回路と、前記アナログインタフェース回路から出力されるアナログ信号をディジタル信号に変換するAD変換回路と、前記AD変換回路の出力を用いてデータを処理を行うデータ処理回路とを有するデータプロセッサであって、
    前記アナログインタフェース回路は、外部からアナログ信号が入力される外部アナログ入力端子に一端が接続された第1入力抵抗素子と、
    前記第1入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成する第1トランジスタ、
    前記第1入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記第1トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する第1定電流回路と、
    外部から基準電圧が入力される外部基準電圧入力端子に一端が接続された第2入力抵抗素子と、
    前記第2入力抵抗素子の他端に接続され電流経路を形成する第2トランジスタ、
    前記第2入力抵抗素子の他端に接続して当該他端の電圧を所定の一定電圧とするように前記第2トランジスタのコンダクタンスをフィードバック制御する第2定電流回路と、
    前記第1トランジスタに流れる電流に比例するミラー電流と前記第2トランジスタに流れる電流に比例するミラー電流とを生成するカレントミラー回路と、
    前記カレントミラー回路で得られる一対のミラー電流に応ずる差動信号を入力する差動回路と、を有するデータプロセッサ。
  12. 前記第1抵抗素子の他端と前記第2抵抗素子の他端に夫々個別に接続されたESD保護回路を有する、請求項11記載の半導体装置。
  13. 前記AD変換回路は、前記差動回路の出力をアナログ信号からディジタル信号に変換し、
    前記データ処理回路は、前記AD変換回路から出力されるディジタル信号に対してディジタル信号処理を行うDSPと、前記アナログインタフェース回路を制御するCPUとを有する、請求項12項記載のデータプロセッサ。
  14. 前記アナログ信号は光ディスクから光学的に読み取られた光信号に基づいて得られる電気信号である、請求項13記載のデータプロセッサ。
  15. 前記第1トランジスタ及び第2トランジスタはトランジスタサイズ可変の回路であり、そのトランジスタサイズを可変に設定するための第1制御レジスタを有する、請求項14記載のデータプロセッサ。
  16. 前記第1トランジスタに流れる電流と前記第2トランジスタに流れる電流との夫々に流れる電流に対して前記カレントミラー回路で生成されるミラー電流の大きさを決めるミラー電流比を可変に設定するための第3制御レジスタを有する、請求項15記載のデータプロセッサ。
  17. ディジタルデータをアナログ信号に変換して前記差動回路に与えられる差動信号のオフセットを調整するためのオフセット調整値を出力するDA変換回路を有し、前記DA変換回路が出力するオフセット調整値を可変に設定するための第4制御レジスタを有する、請求項16記載のデータプロセッサ。
  18. 前記第1入力抵抗素子及び第2入力抵抗素子は可変抵抗素子である、請求項17記載のデータプロセッサ。
  19. 前記第1制御レジスタ、前記第2制御レジスタ、前記第3制御レジスタ、及び前記第4制御レジスタは前記CPUによって書き込み及び読み出しアクセス可能なレジスタである、請求項18記載のデータプロセッサ。
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