JP2011246320A - ガラス溶着方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することができるガラス溶着方法を提供する。
【解決手段】 ガラス層３を介して対向するようにガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせ、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間を接着層７によって外部雰囲気から封止する。これにより、溶着予定領域Ｒに沿ったレーザ光Ｌの照射を大気雰囲気中で実施することが可能となる。更に、ガラス層３ごとに、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間を示す隙間情報を取得し、その隙間情報に基づいてレーザ光Ｌの照射順序を決定する。これにより、ガラス層３に対するガラス基板５０の接触不良に起因して溶着に不具合が生じるおそれが高いガラス層３の溶着を後回しにして、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層３の溶着を優先して実施することが可能となる。
【選択図】 図７

Description

本発明は、環状の溶着予定領域に沿ったレーザ光の照射によって、ガラス部材同士が溶着されたガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法に関する。

上記技術分野のガラス溶着方法として、次のようなものが知られている（例えば特許文献１，２参照）。すなわち、ガラス溶着体を構成するガラス部材に対応する有効部分を複数含むガラス基板を準備し、一方のガラス基板に対し、有効部分ごとに溶着予定領域に沿うようにガラス層を配置する。続いて、ガラス層を介して一方のガラス基板に他方のガラス基板を重ね合わせ、各溶着予定領域に沿ってガラス層にレーザ光を照射することにより、有効部分同士を溶着する。そして、ガラス基板から、溶着された有効部分同士を切り出し、複数のガラス溶着体を得る。

ところで、上記ガラス溶着体が例えば有機ＥＬディスプレイ等である場合には、その製造工程において、溶着予定領域に包囲された発光素子領域に水分等が進入するのを防止する必要がある。そこで、ガラス基板同士の重ね合わせやレーザ光の照射を不活性ガス雰囲気中で実施することが提案されている（例えば特許文献１参照）。

特開２００９−１０４８４１号公報 特開２００７−１１５４９１号公報

しかしながら、レーザ光の照射を不活性ガス雰囲気中で実施することは、製造の効率化を図る観点では好ましくない。その一方で、レーザ光の照射を大気雰囲気中で実施した場合には、如何に歩留りを向上させ得るかが問題となる。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することができるガラス溶着方法を提供することを課題とする。

上記課題を解決するために、本発明のガラス溶着方法は、環状の溶着予定領域に沿ったレーザ光の照射によって、第１のガラス部材と第２のガラス部材とが溶着されたガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法であって、第１のガラス部材に対応する第１の部分を複数含む第１のガラス基板に対し、第１の部分ごとに溶着予定領域に沿うように、レーザ光吸収材を含むガラス層を配置する第１の工程と、第２のガラス部材に対応する第２の部分を複数含む第２のガラス基板を、第１の部分のそれぞれと第２の部分のそれぞれとがガラス層を介して対向するように第１のガラス基板に重ね合わせ、第１の部分及び第２の部分を包囲するように配置された接着層よって、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間の空間を外部雰囲気から封止する第２の工程と、ガラス層ごとに、第１のガラス基板と第２のガラス基板との隙間を示す隙間情報を取得し、隙間情報に基づいてレーザ光の照射順序を決定する第３の工程と、照射順序に従って、溶着予定領域に沿ってガラス層にレーザ光を照射することにより、対向する第１の部分と第２の部分とを溶着する第４の工程と、を備えることを特徴とする。

このガラス溶着方法では、ガラス層を介して対向するように第１のガラス基板と第２のガラス基板とを重ね合わせ、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間の空間を接着層によって外部雰囲気から封止する。これにより、溶着予定領域に沿ったレーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することが可能となる。更に、ガラス層ごとに、第１のガラス基板と第２のガラス基板との隙間を示す隙間情報を取得し、その隙間情報に基づいてレーザ光の照射順序を決定する。これにより、ガラス層に対するガラス基板の接触不良に起因して溶着に不具合が生じるおそれが高いガラス層の溶着を後回しにして、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層の溶着を優先して実施することが可能となる。つまり、ガラス層ごとにレーザ光の照射を実施している際に、ガラス基板へのクラックの発生等の不具合が途中のガラス層で起こると、溶着未実施のガラス層の内側領域への外部雰囲気の進入が懸念されることから、溶着未実施の部分が全て無駄になるおそれがあるが、隙間情報に基づいたレーザ光の照射順序の決定により、そのような無駄を減らすことが可能となる。よって、このガラス溶着方法によれば、歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することができる。

ここで、第３の工程では、レーザ光を順次照射する対象となる複数のガラス層について、照射順序が隙間の小さい順となるように決定されることが好ましい。これによれば、レーザ光を順次照射する対象となる複数のガラス層について、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層の溶着を優先して実施するためのレーザ光の照射順序を適切に決定することができる。

また、第３の工程では、隙間情報に基づいて、ガラス層の厚さよりも隙間が所定値以上大きいか否かが判断され、第４の工程では、ガラス層の厚さよりも隙間が所定値以上大きいと判断されたガラス層が、レーザ光を照射する対象から除かれることが好ましい。これによれば、溶着に不具合が生じるおそれが極めて高いガラス層の溶着を実施しないで済むため、より一層の製造の効率化を図ることができる。

また、第３の工程では、ガラス層の側方における隙間が隙間情報として取得されることが好ましい。ガラス層の側方における隙間は、ガラス層にガラス基板が接触しているか否かを直接的に示すため、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層の溶着を優先して実施するためのレーザ光の照射順序を適切に決定することができる。

或いは、第３の工程では、第２のガラス基板における第１のガラス基板と反対側の表面の高さが隙間情報として取得されてもよい。その表面の高さが第１のガラス基板に対して低い部分ほど、第１のガラス基板と第２のガラス基板との隙間が狭く、ガラス層にガラス基板が確実に接触していると判断することができる。若しくは、第３の工程では、接着層の幅が隙間情報として取得されてもよい。接着層の幅が広い部分ほど、第１のガラス基板と第２のガラス基板との隙間が狭く、ガラス層にガラス基板が確実に接触していると判断することができる。従って、これらによっても、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層の溶着を優先して実施するためのレーザ光の照射順序を適切に決定することができる。

また、本発明のガラス溶着方法は、第１のガラス基板及び第２のガラス基板から、溶着された第１の部分及び第２の部分を切り出し、複数のガラス溶着体を得る第５の工程を更に備えることが好ましい。これにより、第１のガラス部材と第２のガラス部材とが溶着されたガラス溶着体を複数得ることができる。

本発明によれば、歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光の照射を大気雰囲気中で実施することができる。

本発明の一実施形態のガラス溶着方法によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための平面図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法における隙間情報の取得方法を説明するための一部断面図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための一部断面図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 図１のガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法における隙間情報の他の取得方法を説明するための概念図である。

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。

図１に示されるように、ガラス溶着体１は、溶着予定領域Ｒに沿うように配置されたガラス層３を介して、ガラス部材４とガラス部材５とが溶着されたものである。ガラス部材４，５は、例えば無アルカリガラスからなる厚さ０．７ｍｍの矩形板状の部材であり、溶着予定領域Ｒは、ガラス部材４，５の外縁に沿うように矩形環状に設定されている。ガラス層３は、例えば低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなる層であり、溶着予定領域Ｒに沿うように矩形環状に配置されている。このガラス溶着体１は、有機ＥＬディスプレイであり、溶着予定領域Ｒの内側に形成された発光素子領域が、ガラス部材４，５及びガラス層３によって外部雰囲気から封止されている。

次に、環状の溶着予定領域Ｒに沿った溶着用レーザ光Ｌの照射によって、上述したガラス溶着体１を製造するためのガラス溶着方法について説明する。まず、図２に示されるように、マトリックス状（ここでは２行３列）に配置された有効部分（第１の部分）４１〜４６を含むガラス基板４０を準備する。各有効部分４１〜４６は、ガラス部材４に対応している。そして、有効部分４１〜４６ごとに環状の溶着予定領域Ｒを設定する。

続いて、ディスペンサやスクリーン印刷等によってフリットペーストを塗布することにより、有効部分４１〜４６ごとに溶着予定領域Ｒに沿うようにガラス基板４０の表面４０ａにペースト層６を配置する。フリットペーストは、例えば、低融点ガラスからなる粉末状のガラスフリット（ガラス粉）２、酸化鉄等の無機顔料であるレーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）、酢酸アミル等である有機溶剤、及びアクリル等の樹脂成分であるバインダが混練されたものである。

続いて、ペースト層６を乾燥させて有機溶剤を除去し、ペースト層６を加熱してバインダを除去することにより、ガラス基板４０の表面４０ａにガラス層３を固着させる。更に、ガラス層３を加熱してガラスフリット２を溶融・再固化させることにより、ガラス基板４０の表面４０ａに、レーザ光吸収性顔料を含むガラス層３を定着させる。続いて、ガラス基板４０の表面４０ａに、有効部分４１〜４６を包囲するように接着層７を配置する。接着層７は、例えば紫外線硬化樹脂からなり、ガラス基板４０の外縁に沿って矩形環状に形成されている。

続いて、図３に示されるように、マトリックス状（ここでは２行３列）に配置された有効部分（第２の部分）５１〜５６を含むガラス基板５０を準備する。各有効部分５１〜５６は、ガラス部材５に対応しており、各有効部分５１〜５６には、発光素子領域が形成されている。そして、有効部分４１〜４６のそれぞれと有効部分５１〜５６のそれぞれとがガラス層３を介して対向するようにガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせる。続いて、接着層７を紫外線の照射によって硬化させ、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間（有効部分４１〜４６と有効部分５１〜５６とで挟まれる空間）を接着層７によって外部雰囲気から封止する。なお、ガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせ、及び接着層７による封止は、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気中で実施される。

続いて、ガラス層３ごとに、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間を示す隙間情報を取得する。具体的には、図４に示されるように、干渉膜厚計８を用いて、全てのガラス層３について、ガラス層３の側方における隙間を隙間情報として取得する。分光干渉式膜厚計８による測定光の投光及び受光は、図５に示されるように、環状のガラス層３の内側及び外側の少なくとも一方に沿って実施され、環状のガラス層３の内側及び外側の少なくとも一方における隙間Ｇが測定される。なお、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間は、接着層７によって外部雰囲気から封止されているので、隙間情報の取得は、大気雰囲気中で実施される。

続いて、ガラス層３ごとに取得した隙間情報に基づいて、溶着用レーザ光Ｌの照射順序を決定する。具体的には、レーザ光Ｌを順次照射する対象となる複数のガラス層３（ここでは、全てのガラス層３）について、隙間Ｇの小さい順となるようにレーザ光Ｌの照射順序を決定する。ただし、ガラス層３の厚さよりも隙間Ｇが所定値以上大きいと判断した場合には、そのガラス層３を、レーザ光Ｌを照射する対象から除く。なお、所定値は、ガラス層３の厚さの０．５倍〜１倍が好ましい。つまり、ガラス層３の厚さが２０μｍであれば、所定値は１０μ〜２０μｍ（このとき、隙間Ｇは３０μ〜４０μｍ）となる。

ここで、レーザ光Ｌの照射順序を決定する理由について説明する。すなわち、図６の（ａ）に示されるように、ガラス層３に対するガラス基板５０の接触が十分な部分では（このとき、隙間Ｇは小さくなる）、レーザ光Ｌの照射によってガラス層３の溶融部Ｍで発生した熱は、ガラス基板４０及びガラス基板５０の両方に分散して伝わることになる。これにより、隙間Ｇが小さいガラス層３では、溶着に不具合が生じるおそれが低くなる。

一方、図６の（ｂ）に示されるように、ガラス層３に対するガラス基板５０の接触が不十分な部分では（このとき、隙間Ｇは大きくなる）、レーザ光Ｌの照射によってガラス層３の溶融部Ｍで発生した熱は、ガラス基板４０のみに伝わることになり、その結果、ガラス基板４０が入熱過多の状態となる。これにより、隙間Ｇが大きいガラス層３では、ガラス基板４０にクラックが発生するなど、溶着に不具合が生じるおそれが高くなる。

つまり、レーザ光Ｌの照射順序を決定するのは、溶着に不具合が生じるおそれが高いガラス層３の溶着を後回しにして、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層３の溶着を優先して実施するためである。なお、隙間Ｇは、ガラス層３ごとに取得した測定値の平均値でもよいし、代表値（測定値の最大値や、所定の箇所の測定値等）でもよい。

続いて、決定したレーザ光Ｌの照射順序に従って、レーザ光Ｌの照射を実施する。ここでは、レーザ光Ｌの照射順序が、有効部分４１，５１間のガラス層３、有効部分４４，５４間のガラス層３、有効部分４５，５５間のガラス層３、有効部分４６，５６間のガラス層３、有効部分４３，５３間のガラス層３という順序に決定され、有効部分４２，５２間のガラス層３が、レーザ光Ｌを照射する対象から除かれたとする。

その場合、図７に示されるように、まず、有効部分４１，５１の溶着予定領域Ｒに沿ってガラス層３にレーザ光Ｌを照射する。これにより、ガラス層３及びその周辺部分（ガラス基板４０，５０の表面４０ａ，５０ａ）が同程度に溶融・再固化し、対向する有効部分４１，５１同士が溶着される（溶着においては、ガラス層３が溶融し、ガラス基板４０，５０が溶融しない場合もある）。以降、上述した順序でレーザ光Ｌの照射を実施し、有効部分４４，５４同士、有効部分４５，５５同士、有効部分４６，５６同士、有効部分４３，５３同士を順次溶着する。そして、対向する有効部分４２，５２同士は溶着しない。なお、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間は、接着層７によって外部雰囲気から封止されているので、レーザ光Ｌの照射は、大気雰囲気中で実施される。

続いて、図８に示されるように、ガラス基板４０，５０から、溶着された有効部分４１，５１同士、有効部分４４，５４同士、有効部分４５，５５同士、有効部分４６，５６同士、及び有効部分４３，５３同士を切り出し、複数（ここでは５セット）のガラス溶着体１を得る。

以上説明したガラス溶着方法によれば、以下のように、歩留りの低下を抑制しつつ、レーザ光Ｌの照射を大気雰囲気中で実施することができる。

すなわち、上述したガラス溶着方法においては、ガラス層３を介して対向するようにガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせ、ガラス基板４０とガラス基板５０との間の空間を接着層７によって外部雰囲気から封止する。これにより、溶着予定領域Ｒに沿ったレーザ光Ｌの照射を大気雰囲気中で実施することが可能となる。

更に、上述したガラス溶着方法においては、ガラス層３ごとに、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間Ｇを示す隙間情報を取得し、その隙間情報に基づいてレーザ光Ｌの照射順序を決定する。これにより、ガラス層３に対するガラス基板５０の接触不良に起因して溶着に不具合が生じるおそれが高いガラス層３の溶着を後回しにして、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層３の溶着を優先して実施することが可能となる。

つまり、ガラス層３ごとにレーザ光Ｌの照射を実施している際に、ガラス基板４０へのクラックの発生等の不具合が途中のガラス層３で起こると、溶着未実施のガラス層３の内側領域への外部雰囲気の進入が懸念されることから、溶着未実施の部分が全て無駄になる。例えば、上述した場合において、有効部分４１，５１同士の溶着の次に、有効部分４２，５２同士の溶着を実施し、ここで、ガラス層３に対するガラス基板５０の接触不良に起因して溶着に不具合が生じると、溶着に不具合が生じるおそれが低いにも拘らず、溶着未実施の有効部分４３，５３、有効部分４４，５４、有効部分４５，５５及び有効部分４６，５６が全て無駄になるおそれがある。上述したガラス溶着方法によれば、隙間情報に基づいたレーザ光Ｌの照射順序の決定により、そのような無駄を減らすことが可能となる。

また、上述したガラス溶着方法においては、隙間情報に基づいて、ガラス層３の厚さよりも隙間Ｇが所定値以上大きいか否かを判断し、ガラス層３の厚さよりも隙間Ｇが所定値以上大きいと判断したガラス層を、レーザ光Ｌを照射する対象から除く。これにより、溶着に不具合が生じるおそれが極めて高いガラス層３の溶着を実施せずに、より一層の製造の効率化を図ることができる。

また、上述したガラス溶着方法においては、ガラス層３の側方における隙間Ｇを隙間情報として取得する。ガラス層３の側方における隙間Ｇは、ガラス層３にガラス基板５０が接触しているか否かを直接的に示すため、溶着に不具合が生じるおそれが低いガラス層３の溶着を優先して実施するためのレーザ光Ｌの照射順序を適切に決定することができる。

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、ＣＣＤカメラ等を用いて、図４に示されるように、接着層７の幅Ｗを隙間情報として取得してもよい。接着層７の幅Ｗが広い部分は、ガラス基板４０側にガラス基板５０が押圧された部分と想定される。従って、接着層７の幅Ｗが広い部分ほど、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間が狭く、ガラス層３にガラス基板５０が確実に接触していると判断することができる。

また、図９に示されるように、レーザ距離計９を用いて、ガラス基板５０におけるガラス基板４０と反対側の表面５０ｂの高さを隙間情報として取得してもよい。ガラス層３に対するガラス基板５０の接触状態は、ガラス基板５０のうねり（図９の（ａ）の場合）やガラス基板５０の傾き（図９の（ｂ）の場合）等に起因して変化する。そこで、例えば、ガラス基板４０におけるガラス基板５０と反対側の表面４０ｂを平坦面に真空吸着させる。このとき、ガラス基板４０に対するガラス基板５０の表面５０ｂの高さが低い部分ほど、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間が狭く、ガラス層３にガラス基板５０が確実に接触していると判断することができる。

また、ガラス基板４０とガラス基板５０との隙間の小さい順となるようにレーザ光Ｌの照射順序を決定するのは、レーザ光Ｌの照射対象となる全てのガラス層３ではなく、レーザ光Ｌを順次照射する対象となる（物理的にレーザ光Ｌを順次照射し得る）複数のガラス層３であることが好ましい。例えば、上記実施形態において、有効部分４１，５１同士、有効部分４２，５２同士及び有効部分４３，５３同士の溶着と、有効部分４４，５４同士、有効部分４５，５５同士及び有効部分４６，５６同士の溶着と、を別々のレーザヘッドで実施するとする。その場合には、有効部分４１，５１間のガラス層３、有効部分４２，５２間のガラス層３及び有効部分４３，５３間のガラス層３について、隙間の小さい順となるようにレーザ光Ｌの照射順序を決定し、有効部分４４，５４間のガラス層３、有効部分４５，５５間のガラス層３及び有効部分４６，５６間のガラス層３について隙間の小さい順となるようにレーザ光Ｌの照射順序を決定するようにする。

また、上記実施形態では、ガラス層３を加熱してガラスフリット２を溶融・再固化させることにより、ガラス基板４０の表面４０ａに、レーザ光吸収性顔料を含むガラス層３を定着させたが、ガラス基板４０に対するガラス層３の配置は、これに限定されない。一例として、ガラス基板４０に対するガラス層３の配置は、ペースト層６を乾燥させて有機溶剤を除去し、ペースト層６を加熱してバインダを除去することにより、ガラス基板４０の表面４０ａにガラス層３を固着させるだけでもよい。また、レーザ光Ｌの照射は、ガラス基板４０側から実施してもよい。

また、上記実施形態では、ガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせる前に、ガラス基板４０に接着層７を配置したが、これに限定されない。例えば、ガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせる前に、ガラス基板５０に接着層７を配置してもよいし、ガラス基板４０とガラス基板５０とを重ね合わせた後に、ガラス基板４０とガラス基板５０との間に外縁に沿うように接着層７を配置してもよい。

１…ガラス溶着体、３…ガラス層、４…ガラス部材（第１のガラス部材）、５…ガラス部材（第２のガラス部材）、７…接着層、４０…ガラス基板（第１のガラス基板）、４１〜４６…有効部分（第１の部分）、５０…ガラス基板（第２のガラス基板）、５１〜５６…有効部分（第２の部分）、Ｒ…溶着予定領域、Ｌ…レーザ光。

Claims (7)

1. 環状の溶着予定領域に沿ったレーザ光の照射によって、第１のガラス部材と第２のガラス部材とが溶着されたガラス溶着体を製造するためのガラス溶着方法であって、
   前記第１のガラス部材に対応する第１の部分を複数含む第１のガラス基板に対し、前記第１の部分ごとに前記溶着予定領域に沿うように、レーザ光吸収材を含むガラス層を配置する第１の工程と、
   前記第２のガラス部材に対応する第２の部分を複数含む第２のガラス基板を、前記第１の部分のそれぞれと前記第２の部分のそれぞれとが前記ガラス層を介して対向するように前記第１のガラス基板に重ね合わせ、前記第１の部分及び前記第２の部分を包囲するように配置された接着層よって、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板との間の空間を外部雰囲気から封止する第２の工程と、
   前記ガラス層ごとに、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板との隙間を示す隙間情報を取得し、前記隙間情報に基づいて前記レーザ光の照射順序を決定する第３の工程と、
   前記照射順序に従って、前記溶着予定領域に沿って前記ガラス層に前記レーザ光を照射することにより、対向する前記第１の部分と前記第２の部分とを溶着する第４の工程と、を備えることを特徴とするガラス溶着方法。
2. 前記第３の工程では、前記レーザ光を順次照射する対象となる複数の前記ガラス層について、前記照射順序が前記隙間の小さい順となるように決定されることを特徴とする請求項１記載のガラス溶着方法。
3. 前記第３の工程では、前記隙間情報に基づいて、前記ガラス層の厚さよりも前記隙間が所定値以上大きいか否かが判断され、
   前記第４の工程では、前記ガラス層の厚さよりも前記隙間が前記所定値以上大きいと判断された前記ガラス層が、前記レーザ光を照射する対象から除かれることを特徴とする請求項１又は２記載のガラス溶着方法。
4. 前記第３の工程では、前記ガラス層の側方における前記隙間が前記隙間情報として取得されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載のガラス溶着方法。
5. 前記第３の工程では、前記第２のガラス基板における前記第１のガラス基板と反対側の表面の高さが前記隙間情報として取得されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載のガラス溶着方法。
6. 前記第３の工程では、前記接着層の幅が前記隙間情報として取得されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載のガラス溶着方法。
7. 前記第１のガラス基板及び前記第２のガラス基板から、溶着された前記第１の部分及び前記第２の部分を切り出し、複数の前記ガラス溶着体を得る第５の工程を更に備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項記載のガラス溶着方法。

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