JP5850237B2 - 光電変換素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
(光電変換素子)
図1は、本発明の第1実施形態に係る光電変換素子100を示す概略図である。光電変換素子100は、少なくとも一方が透明である第1の基板101及び第2の基板102と、第1及び第2の基板101、102で挟まれた光電変換層104とを備える。第1実施形態では、第1及び第2の基板として、どちらも透明なソーダガラスを用いた。なお、ソーダガラス以外の透明な基板としては、石英ガラス、透明樹脂又はサファイヤ等であり、レーザ光の波長に対して透明であり且つバンドギャップが大きな物質から形成されているものであることが好ましい。光電変換層104は、有機EL素子や太陽電池素子等、どのような光電変換素子であってもよい。
図4は、本実施形態に係る光電変換素子の製造方法のフローチャートを示す図である。本実施形態に係る光電変換素子の製造方法は、まず、光電変換層104を挟んだ少なくとも一方が透明である第1及び第2の基板101、102を準備する(工程401)。このとき、光電変換層104を挟んだ第1の基板101と第2の基板102との積層体は後述するレーザ溶接装置501の載置部502上に載置される。次いで、レーザ溶接装置501により、合わせ面103において、第1及び第2の基板101、102の周囲に沿って第1及び第2の溶接ライン105、106を形成する(工程402)。そして、レーザ溶接装置501により、第1及び第2の溶接ライン105、106を横断するように複数の連結溶接ライン107又は第1及び第2の溶接ライン105、106を周期的に横断する1本の連続線である連結溶接ライン117を形成する(工程403)。なお、工程402の前に、工程403を行うようにしてもよい。一例として、限定されないが、第1の基板101が3mmの厚さを有するソーダガラスであり、第2の基板102が2mmの厚さを有するソーダガラスであり、光電変換層104が有機EL層であり、出力2W、パルス幅500fs、繰り返し500kHzのフェムト秒レーザを使用して合わせ面103に溶接ラインを形成することができる。
図5は、本実施形態及び下記実施形態に係る光電変換素子を製造する際に使用されるレーザ溶接装置501を示すブロック図である。なお、本発明は、下記に説明するレーザ溶接装置に限定されるものではなく、本発明に係る製造方法を実現できるどのようなレーザ溶接装置を用いてもよい。
y1=WD−(t1/n)×cos(sin−1(NA))/cos(sin−1(NA/n)) (1)
上述のように、第1の基板101の屈折率はnであるので、スネルの法則から、
sinθ1=n・sinθ2 (2)
となる。
図7から、tanθ1=X/(WD−y1)の関係式が得られ、該関係式から、
sinθ1=X・cosθ1/(WD−y1) (3)
が得られる。
また、図7からtanθ2=X/t1の関係式が得られ、該関係式から、
sinθ2=X・cosθ2/t1 (4)
が得られる。
X・cosθ1/(WD−y1)=n・X・cosθ2/t1
が得られ、これより、
y1=WD−(t1/n)×cosθ1/cosθ2 (5)
が得られる。
ここで、集光レンズ505のNA=sinθ1であるので、θ1=sin−1(NA)であり、これを式(5)に代入すると、式(1)を得ることができる。
(光電変換素子)
図9は、本発明の第2実施形態に係る光電変換素子900を示す概略図である。光電変換素子900は、少なくとも一方が透明である第1の基板101及び第2の基板102と、第1及び第2の基板で挟まれた光電変換層104とを備える。第2実施形態では、第1及び第2の基板として、どちらも透明なソーダガラスを用いた。
図12は、本実施形態に係る光電変換素子の製造方法のフローチャートを示す図である。本実施形態に係る光電変換素子の製造方法は、光電変換層104を挟んだ少なくとも一方が透明である第1及び第2の基板101、102を準備する(工程1201)。次いで、レーザ溶接装置501により、合わせ面103において、第1及び第2の基板101、102の周囲に沿って第1の溶接ライン905を形成する(工程1202)。そして、レーザ溶接装置501により、第1の溶接ライン905とともに複数の閉じた領域(「封止領域」)を周期的に形成する1本の連続線である連結溶接ライン907を形成する(工程1203)。なお、工程1202の前に、工程1203を行うようにしてもよい。
(光電変換素子)
図13は、本実施形態に係る光電変換素子1300を示す概略図である。光電変換素子1300は、少なくとも一方が透明である第1の基板101及び第2の基板102と、第1及び第2の基板で挟まれた光電変換層104とを備える。第3実施形態では、第1及び第2の基板として、どちらも透明なソーダガラスを用いた。
図14は、本実施形態に係る光電変換素子の製造方法のフローチャートを示す図である。本実施形態に係る光電変換素子の製造方法は、光電変換層104を挟んだ少なくとも一方が透明である第1及び第2の基板101、102を準備する(工程1401)。次いで、レーザ溶接装置501により、合わせ面103において、第1及び第2の基板101、102の周囲に沿って第1及び第2の溶接ライン1305、1306を形成する(工程1402)。そして、レーザ溶接装置501により、第1及び第2の溶接ライン1305、1306の一部に複数の閉じた領域(「封止領域」)を形成する(工程1403)。
Claims (11)
- 光電変換層を挟んだ少なくとも一方が透明である第1の基板及び第2の基板を準備するステップと、
溶接用レーザを用いて、前記第1の基板と前記第2の基板との合わせ面に、前記光電変換層を囲む第1の溶接ラインを形成するステップと、
溶接用レーザを用いて、前記合わせ面に、前記第1の溶接ラインと交わる領域を有し、前記第1の溶接ラインとともに少なくとも1つの閉じた領域を形成する連結溶接ラインを形成するステップとを具備することを特徴とする光電変換素子の製造方法。 - 前記第1の溶接ラインを形成するステップは、溶接用レーザを用いて、前記合わせ面に、前記第1の溶接ラインを囲む第2の溶接ラインをさらに形成するステップを具備し、
前記連結溶接ラインは、前記第1及び第2の溶接ラインとともに少なくとも1つの前記閉じた領域を形成し、前記第1及び第2の溶接ラインを垂直に横断する複数の溶接ラインであることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。 - 前記第1の溶接ラインを形成するステップは、溶接用レーザを用いて、前記合わせ面に、前記第1の溶接ラインを囲む第2の溶接ラインをさらに形成するステップを具備し、
前記連結溶接ラインは、前記第1及び第2の溶接ラインとともに少なくとも1つの前記閉じた領域を形成し、前記第1及び第2の溶接ラインの双方と少なくとも2箇所で交わる1本の連続線であることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。 - 前記連結溶接ラインは、前記第1及び第2の溶接ラインとともに複数の前記閉じた領域を形成し、前記第1及び第2の溶接ラインを周期的に横断する1本の連続線であることを特徴とする請求項3に記載の製造方法。
- 前記連結溶接ラインは、前記第1の溶接ラインとともに少なくとも1つの前記閉じた領域を形成し、前記第1の溶接ラインと少なくとも2箇所で交差する1本の連続線であることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記連結溶接ラインは、前記第1の溶接ラインとともに複数の前記閉じた領域を形成し、前記第1の溶接ラインを周期的に横断する1本の連続線であることを特徴とする請求項5に記載の製造方法。
- 少なくとも一方が透明である第1の基板及び第2の基板と、
前記第1の基板及び前記第2の基板で挟まれた光電変換層と、
前記第1の基板と前記第2の基板との合わせ面に、前記光電変換層を囲んで形成される第1の溶接ラインと、
前記合わせ面に、前記第1の溶接ラインを囲んで形成される第2の溶接ラインと、
前記合わせ面に形成されるとともに、前記第1の溶接ライン及び前記第2の溶接ラインを垂直に横断し、前記第1の溶接ライン及び前記第2の溶接ラインとともに少なくとも1つの閉じた領域を形成する複数の連結溶接ラインと、
を備えることを特徴とする光電変換素子。 - 少なくとも一方が透明である第1の基板及び第2の基板と、
前記第1の基板及び前記第2の基板で挟まれた光電変換層と、
前記第1の基板と前記第2の基板との合わせ面に、前記光電交換層を囲んで形成される第1の溶接ラインと、
前記合わせ面に形成されるとともに、前記第1の溶接ラインと少なくとも2箇所で交差し、前記第1の溶接ラインとともに少なくとも1つの閉じた領域を形成する連結溶接ラインと、
を備えることを特徴とする光電変換素子。 - 前記連結溶接ラインは、前記第1の溶接ラインを周期的に横断し、前記第1の溶接ラインとともに複数の前記閉じた領域を形成する1本の連続線であることを特徴とする請求項8に記載の光電変換素子。
- 前記合わせ面に、前記第1の溶接ラインを囲んで形成される第2の溶接ラインをさらに備え、
前記連結溶接ラインは、前記第1の溶接ライン及び前記第2の溶接ラインと少なくとも2箇所で交差し、前記第1の溶接ライン及び前記第2の溶接ラインとともに少なくとも1つの前記閉じた領域を形成する1本の連続線であることを特徴とする請求項8に記載の光電変換素子。 - 前記連結溶接ラインは、前記第1の溶接ライン及び前記第2の溶接ラインを周期的に横断し、前記第1の溶接ライン及び前記第2の溶接ラインとともに複数の前記閉じた領域を形成することを特徴とする請求項10に記載の光電変換素子。
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