JP2011243981A - 基板テーブル、リソグラフィ装置、基板のエッジを平らにする方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を支持するための基板テーブルが開示される。基板テーブルは、基板を支持し、基板のエッジに第1方向の曲げ力を付与するための基板支持部を含む。基板エッジ操作部が設けられており、第2方向の可変の曲げ力を基板のエッジに付与するよう構成されている。第2方向は、第1方向とは反対向きの成分を少なくとも有する。
【選択図】図6
Description
放射ビームB(例えばUV放射またはDUV放射)を調整するよう構成されている照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するよう構成され、いくつかのパラメタに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするよう構成されている第1の位置決め装置PMに接続されている支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストで被覆されたウエーハ)Wを保持するよう構成され、いくつかのパラメタに従って基板Wを正確に位置決めするよう構成されている第2の位置決め装置PWに接続されている基板テーブル(例えばウエーハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つまたは複数のダイからなる)目標部分Cに投影するよう構成されている投影システム(例えば屈折投影レンズ系)PSと、を備える。
Claims (15)
- 基板を支持するための基板テーブルであって、
基板を支持するための基板支持部であって、基板エッジに第1方向の曲げ力を付与する基板支持部と、
第1方向とは反対向きの成分を少なくとも有する第2方向の可変の曲げ力を基板エッジに付与する基板エッジ操作部と、を備える基板テーブル。 - 前記基板エッジ操作部により基板エッジに付与される力を信号に基づいて制御するコントローラをさらに備える、請求項1に記載の基板テーブル。
- 前記信号は、(i)前記基板支持部に支持されているときの基板エッジの平坦度を表し、及び/または、(ii)基準位置に対する基板テーブルの位置を表す信号である、請求項2に記載の基板テーブル。
- 前記コントローラは、前記基板エッジ操作部により付与される力が欠落しているときの平坦度に比べて、前記第2方向に基板エッジの曲げを引き起こして前記基板支持部にある基板エッジの平坦度を改善するために、前記基板エッジ操作部により基板エッジに付与される曲げ力を制御する、請求項2または3に記載の基板テーブル。
- 前記基板支持部は、該基板支持部の表面形状によって基板エッジに力を付与する、請求項1から3のいずれかに記載の基板テーブル。
- 前記基板支持部は、使用時に基板を支持する複数の突起間の機械的特性の違いによって基板エッジに力を付与する、請求項1から5のいずれかに記載の基板テーブル。
- 前記基板支持部は、基板中心部に対して基板エッジにおける基板と基板支持部との間の負圧を変化させることによって基板エッジに力を付与する、請求項1から6のいずれかに記載の基板テーブル。
- 前記基板エッジ操作部は、基板エッジと基板テーブルの上面との隙間を封じるシールである、請求項1から7のいずれかに記載の基板テーブル。
- 前記基板エッジ操作部は、基板に物理的に接触する機械的操作部を備える、請求項1から8のいずれかに記載の基板テーブル。
- 前記基板エッジ操作部は、基板の周囲において基板テーブルの上側表面から基板の上側主面の外周部分へと使用時に延びているカバーを備え、該カバーは開放された中央部分を画定する、請求項9に記載の基板テーブル。
- 前記基板エッジ操作部は、負圧源、電磁アクチュエータ、圧電アクチュエータ、静電アクチュエータの1つまたは複数を通じて前記可変の曲げ力を付与する、請求項1から10のいずれかに記載の基板テーブル。
- 請求項1から11のいずれかに記載の基板テーブルを備えるリソグラフィ装置。
- 基板の平坦度を測定するための測定デバイスをさらに備える、請求項12に記載のリソグラフィ装置。
- 基板のエッジを平らにする方法であって、
基板のエッジに第1方向に曲げを引き起こすのに十分な力を基板のエッジに与えることと、
基板のエッジの平坦度を改善するために、第1方向とは実質的に反対向きの第2方向の可変の力を基板のエッジに与えることと、を含む方法。 - 請求項14に記載の基板のエッジの平坦度を改善する方法を含むデバイス製造方法。
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