JP2011243748A5 - - Google Patents

Description

本発明の１つの側面は、電子装置の製造方法に係り、前記製造方法は、第１層を形成する工程と、前記第１層の上に第２層を形成する工程と、前記第２層の上に感光性樹脂で構成された第３層を形成する工程と、前記第３層の露光および現像を経て、前記第３層から複数の凸形状部を形成する工程と、前記第１層から、各々が前記凸形状部に対応する複数のマイクロレンズが形成されるように、前記凸形状部をマスク層として、前記第２層および前記第１層をエッチングする工程と、を含み、前記第２層は、前記露光で用いる露光光に対する分光透過率が前記第１層よりも低いこと、および、前記露光で用いる露光光に対する分光透過率が６０％以下であること、の少なくとも一方を満たす、ことを特徴とする。

Claims (10)

1. 第１層を形成する工程と、
   前記第１層の上に第２層を形成する工程と、
   前記第２層の上に感光性樹脂で構成された第３層を形成する工程と、
   前記第３層の露光および現像を経て、前記第３層から複数の凸形状部を形成する工程と、
   前記第１層から、各々が前記凸形状部に対応する複数のマイクロレンズが形成されるように、前記凸形状部をマスク層として、前記第２層および前記第１層をエッチングする工程と、を含み、
   前記第２層は、前記露光で用いる露光光に対する分光透過率が前記第１層よりも低いこと、および、前記露光で用いる露光光に対する分光透過率が６０％以下であること、の少なくとも一方を満たす、
   ことを特徴とする電子装置の製造方法。
2. 第１層を形成する工程と、
   前記第１層の上に第２層を形成する工程と、
   前記第２層の上に感光性樹脂で構成された第３層を形成する工程と、
   前記第３層の露光および現像を経て、前記第３層から複数の凸形状部を形成する工程と、
   前記第１層から、各々が前記凸形状部に対応する複数のマイクロレンズが形成されるように、前記凸形状部をマスク層として、前記第２層および前記第１層をエッチングする工程と、を含み、
   前記第２層は、前記露光におけるハレーションの発生を抑制する、
   ことを特徴とする電子装置の製造方法。
3. 前記エッチングは、前記凸形状部および前記第２層が除去されるように行われる、
   ことを特徴とする請求項１または２に記載の電子装置の製造方法。
4. 前記エッチングは、前記マイクロレンズの表面にフッ素含有物層が形成される条件で行われる、
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電子装置の製造方法。
5. 前記第３層の前記現像によって形成された複数の島状パターンを熱処理することにより、前記複数の島状パターンの各々をなだらかな凸形状に変化させることで、前記複数の凸形状部を形成し、
   前記エッチングは、前記凸形状部の底面積よりも前記マイクロレンズの底面積が大きくなる条件で実施される、
   ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電子装置の製造方法。
6. 前記第１層および前記第２層の少なくとも一方は樹脂で構成されている、
   ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電子装置の製造方法。
7. 前記エッチングは、ＣＦ _４ およびＣ _４ Ｆ _８ を含むプロセスガスを使用してマグネトロンＲＩＥ装置によってなされるプラズマ処理によってなされ、前記プラズマ処理は、前記プロセスガスの流量を１００〜２００ｓｃｃｍの範囲内、前記マグネトロンＲＩＥ装置の高周波電力を３〜５Ｗ／ｃｍ^２の範囲内、前記マグネトロンＲＩＥ装置のチャンバー内の圧力を２０〜５０ｍｍＴｏｒｒの範囲内として実施される、
   ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の電子装置の製造方法。
8. 前記第２層は、前記露光で用いる露光光に対する分光透過率が６０％以下である、
   ことを特徴とする請求項２に記載の電子装置の製造方法。
9. 前記第１層は、光電変換部が形成された基板の上に形成される、
   ことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の電子装置の製造方法。
10. 前記第１層と前記基板との間には、カラーフィルタ層が設けられている、
    ことを特徴とする請求項９に記載の電子装置の製造方法。