JP2010056025A5

JP2010056025A5 -

Info

Publication number: JP2010056025A5
Application number: JP2008222013A
Authority: JP
Filing date: 2008-08-29
Publication date: 2011-05-12

Claims

基板の上面に形成された遮光膜と、
前記遮光膜を被覆する層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜の上面に形成された画素電極及び画素トランジスタと、
前記複数の画素電極の外周部及び前記画素トランジスタを被覆するように形成された保護絶縁膜と、
前記画素電極の上部に形成された発光機能層と、
前記保護絶縁膜の上部に形成され、前記発光機能層の形成領域を画定する隔壁と、
を備え、
前記遮光膜は、前記保護絶縁膜または前記隔壁の少なくともいずれか一方と平面視において同一形状であることを特徴とする発光パネル。
前記保護絶縁膜は前記遮光膜と平面視において同一形状であり、前記隔壁は平面視において前記遮光膜より小さい形状を有することを特徴とする請求項１記載の発光パネル。
前記遮光膜は、前記基板の上面に形成された金属膜と、前記金属膜の上面に形成された反射防止膜とからなることを特徴とする請求項１又は２記載の発光パネル。
前記遮光膜は、前記基板の上面に形成された反射防止膜と、前記反射防止膜の上面に形成された金属膜とからなることを特徴とする請求項１又は２記載の発光パネル。
前記金属膜はクロムからなり、前記反射防止膜は酸化クロムからなることを特徴とする請求項３または４に記載の発光パネル。
前記遮光膜は、前記基板の上面に形成された第１の反射防止膜と、前記第１の反射防止膜の上面に形成された金属膜と、前記金属膜の上面に形成された第２の反射防止膜とからなることを特徴とする請求項１又は２記載の発光パネル。
前記金属膜はクロムからなり、前記第１の反射防止膜及び前記第２の反射防止膜は酸化クロムからなることを特徴とする請求項６記載の発光パネル。
画素電極上に形成された発光機能層を有してなる発光素子を備える発光パネルの製造方法であって、
基板の上面に遮光膜を形成する工程と、
前記遮光膜を被覆する層間絶縁膜を形成する工程と、
前記層間絶縁膜の上面に前記画素電極及び該画素電極を駆動する画素トランジスタを形成する工程と、
前記画素電極及び前記画素トランジスタを被覆する保護絶縁膜を形成する工程と、
前記基板の下側から光を照射して、前記保護絶縁膜に前記画素電極を露出させる開口部を形成する開口部形成工程、または前記発光機能層の形成領域を画定する隔壁を形成する隔壁形成工程、の少なくともいずれか一方を含む裏面露光工程と、
を含むことを特徴とする発光パネルの製造方法。
前記裏面露光工程は前記開口部形成工程を含み、
該開口部形成工程は、前記保護絶縁膜の上面にフォトレジストを塗布する工程と、前記基板の下側から光を照射して、前記遮光膜を通過した光により前記フォトレジストを露光する工程と、現像された前記フォトレジストを用いて前記保護絶縁膜に前記開口部を形成する工程と、を含み、前記開口部が形成された前記保護絶縁膜の上部に前記隔壁を形成する工程を含むことを特徴とする請求項８記載の発光パネルの製造方法。
前記裏面露光工程は前記隔壁形成工程を含み、
該隔壁形成工程は、前記保護絶縁膜の上面に感光性樹脂を塗布する工程と、前記基板の
下側から光を照射して、前記遮光膜を通過した光により前記感光性樹脂を露光することで前記隔壁を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項８記載の発光パネルの製造方法。
前記裏面露光工程は前記開口部形成工程及び前記隔壁形成工程を含み、
該開口部形成工程は、前記保護絶縁膜の上面にフォトレジストを塗布する工程と、前記基板の下側から光を照射して、前記遮光膜を通過した光により前記フォトレジストを露光する工程と、現像された前記フォトレジストを用いて前記保護絶縁膜に前記開口部を形成する工程と、を含み、
前記隔壁形成工程は、前記開口部が形成された前記保護絶縁膜及び前記画素電極の上面に感光性樹脂を塗布する工程と、前記基板の下側から光を照射して、前記遮光膜を通過した光により前記感光性樹脂を露光することで前記隔壁を形成する工程と、を含む
ことを特徴とする請求項８記載の発光パネルの製造方法。
前記裏面露光工程は前記隔壁形成工程を含み、
該隔壁形成工程は、前記保護絶縁膜の上面に感光性樹脂を塗布する工程と、前記基板の下側から光を照射して、前記遮光膜を通過した光により前記感光性樹脂を露光することで前記隔壁を形成する工程と、を含み、
更に、形成された前記隔壁をレジストマスクとして用いて前記保護絶縁膜をエッチングして、前記保護絶縁膜に前記画素電極を露出させる開口部を形成する工程を含む、ことを特徴とする請求項８記載の発光パネルの製造方法。
前記隔壁を形成した後、前記画素電極の上部に前記発光機能層を形成する前に、前記隔壁に対しプラズマアッシングまたはプラズマエッチングによる表面処理を行う工程を含むことを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか一項に記載の発光パネルの製造方法。
前記感光性樹脂を露光して前記隔壁を形成する工程における前記感光性樹脂の露光時間を、マスク線幅と仕上がり線幅が同じになる適正な露光時間よりも長くすることを特徴とする請求項１０乃至１２のいずれか一項に記載の発光パネルの製造方法。
前記遮光膜は、前記基板の上面に形成された金属膜と、前記金属膜の上面に形成された反射防止膜とからなることを特徴とする請求項８〜１４のいずれか一項に記載の発光パネルの製造方法。
前記遮光膜は、前記基板の上面に形成された反射防止膜と、前記反射防止膜の上面に形成された金属膜とからなることを特徴とする請求項８〜１４のいずれか一項に記載の発光パネルの製造方法。
前記遮光膜は、前記基板の上面に形成された第１の反射防止膜と、前記第１の反射防止膜の上面に形成された金属膜と、前記反射膜の上面に形成された第２の反射防止膜とからなることを特徴とする請求項８〜１４のいずれか一項に記載の発光パネルの製造方法。