JP2011232198A - 斜入射干渉計を用いた測定方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 高さ方向の異なる位置に配置された複数の面の形状を一括でかつ高精度に測定できる斜入射干渉計を用いた測定方法を提供する。
【解決手段】 斜入射干渉計を用いた測定方法は、被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面に測定光を入射させる測定光入射工程S1と、複数の面で反射された測定光を利用して複数の面の形状を測定する面形状測定工程S2とを備える。また、複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きを測定する傾き測定工程S3を備える。
【選択図】図4
【解決手段】 斜入射干渉計を用いた測定方法は、被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面に測定光を入射させる測定光入射工程S1と、複数の面で反射された測定光を利用して複数の面の形状を測定する面形状測定工程S2とを備える。また、複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きを測定する傾き測定工程S3を備える。
【選択図】図4
Description
本発明は、斜入射干渉計を用いて、被測定物を構成する面の形状などを測定する測定方法に関する。
従来、斜入射干渉計を用いて、被測定物の1つの表面の形状を測定する測定方法が知られている(例えば特許文献1参照)。
特許文献1の測定方法では、光源からの測定光が被測定物の表面に対して所定の入射角度で入射され、その表面で反射された測定光を利用して表面の干渉縞が得られ、その干渉縞の情報に基づいてその表面の形状が測定される。
特許文献1の測定方法では、光源からの測定光が被測定物の表面に対して所定の入射角度で入射され、その表面で反射された測定光を利用して表面の干渉縞が得られ、その干渉縞の情報に基づいてその表面の形状が測定される。
ここで、例えば、貫通した貫通穴部を内部に有する軸受け部材のように、測定光の入射面における法線方向(以下、高さ方向という)の異なる位置に略平行に配置された複数の面を有する被測定物においては、貫通穴部を構成する内面の形状と、この内面と高さ方向に異なる位置に略平行に配置された軸受け部材の外面の形状とを一括でかつ高精度に測定したいという要求がある。
さらに、例えば、内部に軸部材が貫通して挿入配置され、その軸部材に対して相対移動する軸受け部材のように、高さ方向の異なる位置に略平行に配置されて互いに相対移動する複数の面を有する被測定物においては、軸部材の外面の形状と、軸部材の外面と高さ方向の異なる位置に略平行に配置されて相対移動する軸受け部材の外面の形状とを一括でかつ高精度に測定したいという要求がある。
しかし、特許文献1に記載の測定方法は単一の面の形状を測定する測定方法であり、高さ方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面の形状を測定することはできない。
また、貫通穴部を構成する内面の形状を測定するときには、貫通穴部の貫通方向に延びる棒状の支持部を有し、支持部が固定部に片持ち支持され、支持部の先端に接触式のプローブが設けられた検出器が用いられる。そうすると、内面形状の測定の際に、支持部がたわみ、検出器がたわむなどして測定誤差が生じる。
さらに、互いに相対移動する軸受け部材の外面と軸部材の外面とについて、それらの外面形状を高精度に測定することは難しく、測定誤差が生じる。
また、貫通穴部を構成する内面の形状を測定するときには、貫通穴部の貫通方向に延びる棒状の支持部を有し、支持部が固定部に片持ち支持され、支持部の先端に接触式のプローブが設けられた検出器が用いられる。そうすると、内面形状の測定の際に、支持部がたわみ、検出器がたわむなどして測定誤差が生じる。
さらに、互いに相対移動する軸受け部材の外面と軸部材の外面とについて、それらの外面形状を高精度に測定することは難しく、測定誤差が生じる。
本発明の目的は、高さ方向の異なる位置に配置された複数の面の形状を一括でかつ高精度に測定できる斜入射干渉計を用いた測定方法を提供することである。
本発明の斜入射干渉計を用いた測定方法は、被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面に測定光を入射させる測定光入射工程と、前記複数の面で反射された測定光を利用して前記複数の面の形状を測定する面形状測定工程と、を備えることを特徴とする。
このような構成によれば、被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面の形状を一括でかつ高精度に測定できる。例えば、被測定物が、貫通した貫通穴部を内部に有する軸受け部材の場合には、貫通穴部を構成する内面の形状と、軸受け部材の外面の形状とを一括でかつ高精度に測定できる。また、例えば、被測定物が、内部に軸部材が貫通して挿入配置され、その軸部材に対して相対移動する軸受け部材の場合には、軸受け部材の外面の形状と軸部材の外面の形状とを一括でかつ高精度に測定できる。
このような構成によれば、被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面の形状を一括でかつ高精度に測定できる。例えば、被測定物が、貫通した貫通穴部を内部に有する軸受け部材の場合には、貫通穴部を構成する内面の形状と、軸受け部材の外面の形状とを一括でかつ高精度に測定できる。また、例えば、被測定物が、内部に軸部材が貫通して挿入配置され、その軸部材に対して相対移動する軸受け部材の場合には、軸受け部材の外面の形状と軸部材の外面の形状とを一括でかつ高精度に測定できる。
本発明の斜入射干渉計を用いた測定方法は、被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面に測定光を入射させる測定光入射工程と、前記複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きを測定する傾き測定工程と、を備えることを特徴とする。
このような構成によれば、複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きを一括でかつ高精度に測定できる。
このような構成によれば、複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きを一括でかつ高精度に測定できる。
本発明の斜入射干渉計を用いた測定方法は、互いに相対移動する被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置されて互いに相対移動する複数の面に測定光を入射させる測定光入射工程と、前記被測定物が相対移動しているときの、前記複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きの変化を測定する傾き変化測定工程と、を備えることを特徴とする。
このような構成によれば、互いに相対移動する被測定物において、測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きの変化を一括でかつ高精度に測定できる。
このような構成によれば、互いに相対移動する被測定物において、測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きの変化を一括でかつ高精度に測定できる。
以下、本発明の各実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、各実施形態において、同一の構成部分には同じ符号を付すとともに、それらの説明を省略または簡略化する。
なお、各実施形態において、同一の構成部分には同じ符号を付すとともに、それらの説明を省略または簡略化する。
<第1実施形態>
図1に示すように、斜入射干渉計1は、光源11と、コリメータ12と、ビームスプリッタ13,16と、反射ミラー14,15と、検出器17とから構成され、本実施形態では、光源11から出射された光によって被測定物としての軸受け部材100の内側下面101の形状および外側上面102の形状などが測定される。よって、内側下面101と外側上面102とは、後述する測定光L2が入射される入射面である。
図1に示すように、斜入射干渉計1は、光源11と、コリメータ12と、ビームスプリッタ13,16と、反射ミラー14,15と、検出器17とから構成され、本実施形態では、光源11から出射された光によって被測定物としての軸受け部材100の内側下面101の形状および外側上面102の形状などが測定される。よって、内側下面101と外側上面102とは、後述する測定光L2が入射される入射面である。
図2に示すように、軸受け部材100は四角形の断面を有する略直方体で、内部に、軸受け部材100の長手方向に貫通して形成され、図示しない軸部材などが挿入配置される貫通穴部としての受け部103を有する。軸受け部材100は、外側上面102を取り付け面として、図示しない機器などに取り付けられる。受け部103を構成する内面のうち、図2中下側にある面が内側下面101であり、軸受け部材100の外面のうち、図2中上側にある面が外側上面102である。内側下面101と外側上面102とは、後述する測定光L2の入射面の法線方向(以下、高さ方向という。)の異なる位置に略平行に配置されている。本実施形態では、内側下面101と外側上面102とが図1において略水平となるように軸受け部材100が配置される。
図1に戻って、光源11は、例えばHe−Neレーザ等であり、ビームスプリッタ13に向かって可干渉光を出射する。光源11から出射された光は、コリメータ12によってビーム径がより大きな平行光L1とされた後、ビームスプリッタ13に入射される。なお、以下では、図1において、光L1のうち、内側下面101に入射する光を一点鎖線で示す光L11とし、外側上面102に入射する光を点線で示す光L12とする。後述する測定光L2についても同様にする。
ビームスプリッタ13は、光L1を測定光L2と参照光L3とに分割する。すなわち、光L11は測定光L21と参照光L31とに分割され、光L12は測定光L22と参照光L32とに分割される。
測定光L2は反射ミラー14に向かって直進し、参照光L3はビームスプリッタ16に向かって進む。
測定光L2は反射ミラー14に向かって直進し、参照光L3はビームスプリッタ16に向かって進む。
反射ミラー14は、軸受け部材100の内側下面101と外側上面102に対して設置角度θ1だけ傾けられて設置されており、入射された測定光L2を内側下面101と外側上面102に向けて反射させる。反射ミラー14は図示しない回動装置によって回動可能であり、この回動装置によって反射ミラー14が回動させられて設置角度θ1が変化させられる。
反射ミラー14で反射された測定光L2のうち、測定光L21が内側下面101の法線に対して入射角度θ2で内側下面101に入射され、測定光L22が外側上面102の法線に対して入射角度θ2で外側上面102に入射される。
軸受け部材100の内側下面101に入射された測定光L21と外側上面102に入射された測定光L22とは反射ミラー15に向けて反射される。
反射ミラー14で反射された測定光L2のうち、測定光L21が内側下面101の法線に対して入射角度θ2で内側下面101に入射され、測定光L22が外側上面102の法線に対して入射角度θ2で外側上面102に入射される。
軸受け部材100の内側下面101に入射された測定光L21と外側上面102に入射された測定光L22とは反射ミラー15に向けて反射される。
反射ミラー15は、軸受け部材100の内側下面101と外側上面102に対して設置角度θ3だけ傾けられて設置されており、内側下面101で反射された測定光L21および外側上面102で反射された測定光L22を反射してビームスプリッタ16に入射させる。反射ミラー15は図示しない回動装置によって回動可能であり、この回動装置によって反射ミラー15が回動させられて設置角度θ3が変化させられる。設置角度θ3を変化させることにより、内側下面101で反射された測定光L21および外側上面102で反射された測定光L22をビームスプリッタ16に確実に入射させることができる。
ビームスプリッタ16は、反射ミラー15で反射された測定光L2をビームスプリッタ13で分割された参照光L3と合成する。この合成によって光の干渉が起こり、干渉光L4が生成されて検出器17に送られる。すなわち、測定光L21と参照光L31とが合成されて干渉光L41が生成されて検出器17に送られ、測定光L22と参照光L32とが合成されて干渉光L42が生成されて検出器17に送られる。
反射ミラー15では、反射される測定光L2の光軸とビームスプリッタ16で反射される参照光L3の光軸とが重なるように、軸受け部材100の内側下面101と外側上面102とで反射された測定光L2が反射される。よって、ビームスプリッタ16は、入射してくる測定光L2と参照光L3とを互いの光軸が重なるように合成して干渉光L4を生成する。
反射ミラー15では、反射される測定光L2の光軸とビームスプリッタ16で反射される参照光L3の光軸とが重なるように、軸受け部材100の内側下面101と外側上面102とで反射された測定光L2が反射される。よって、ビームスプリッタ16は、入射してくる測定光L2と参照光L3とを互いの光軸が重なるように合成して干渉光L4を生成する。
検出器17は撮像素子であり、図3に示すように、検出器17では、干渉光L41によって内側下面101の干渉縞画像101aが検出され、同時に、干渉光L42によって外側上面102の干渉縞画像102aが検出される。
検出器17では、干渉縞画像101aと干渉縞画像102aとに基づいて、内側下面101の形状および外側上面102の形状などが算出される。
検出器17では、干渉縞画像101aと干渉縞画像102aとに基づいて、内側下面101の形状および外側上面102の形状などが算出される。
次に、図4に基づいて、以上のような斜入射干渉計1によって、軸受け部材100の内側下面101の形状および外側上面102の形状と、外側上面102に対する内側下面101の傾きとを測定する本実施形態の測定方法を説明する。以下では、各測定動作をS1,S2,S3で示す。
まず、S1の測定光入射工程では、反射ミラー14の設置角度θ1を所定角度に設定し、光源11から可干渉光を出射させる。これにより、反射ミラー14で反射された測定光L21が内側下面101に入射角度θ2で入射し、反射ミラー14で反射された測定光L22が外側上面102に入射角度θ2で入射する。すると、図3に示すように、検出器17によって、内側下面101の干渉縞画像101aと外側上面102の干渉縞画像102aとが同時に検出される。
そして、S2の面形状測定工程で、検出器17で検出された干渉縞画像101aと干渉縞画像102aとに基づいて、内側下面101の形状と外側上面102の形状とを算出する。その後、S3の傾き測定工程で、検出器17で検出された干渉縞画像101aと干渉縞画像102aとに基づいて、内側下面101の代表面および外側上面102の代表面を算出する。この代表面は、干渉縞画像101aと干渉縞画像102aとに基づいて、例えば最小二乗法によって算出される最小二乗平面である。そして、外側上面102の代表面に対する内側下面101の代表面の傾きを算出して外側上面102に対する内側下面101の傾きを算出する。なお、S2の工程の前にS3の工程を行ってもよい。
以上のような本実施形態の斜入射干渉計1を用いた測定方法では、以下の効果がある。
本実施形態の測定方法では、S1の測定光入射工程とS2の面形状測定工程とを備えているため、高さ方向の異なる位置に略平行に配置された内側下面101の形状と外側上面102の形状とを一括でかつ高精度に測定できる。
また、S1の測定光入射工程とS3の傾き測定工程とを備えているため、外側上面102に対する内側下面101の傾きも一括でかつ高精度に測定できる。
本実施形態の測定方法では、S1の測定光入射工程とS2の面形状測定工程とを備えているため、高さ方向の異なる位置に略平行に配置された内側下面101の形状と外側上面102の形状とを一括でかつ高精度に測定できる。
また、S1の測定光入射工程とS3の傾き測定工程とを備えているため、外側上面102に対する内側下面101の傾きも一括でかつ高精度に測定できる。
斜入射干渉計1によって測定される被測定物としての軸受け部材は、図2に示す軸受け部材100には限定されない。
図5の(A)に示すように、貫通した受け部111が内部に形成された円筒形状の軸受け部材110であってもよい。この場合には、内側下面112の形状および内側下面112と高さ方向に異なる位置に略平行に配置された外側上面113の形状と、外側上面113に対する内側下面112の傾きが算出される。なお、内側下面112と外側上面113とは曲面であるが、斜入射干渉計1では、内側下面112の局所的な平面形状と外側上面113の局所的な平面形状とが測定される。
図5の(A)に示すように、貫通した受け部111が内部に形成された円筒形状の軸受け部材110であってもよい。この場合には、内側下面112の形状および内側下面112と高さ方向に異なる位置に略平行に配置された外側上面113の形状と、外側上面113に対する内側下面112の傾きが算出される。なお、内側下面112と外側上面113とは曲面であるが、斜入射干渉計1では、内側下面112の局所的な平面形状と外側上面113の局所的な平面形状とが測定される。
または、図5の(B)に示すように、右側方が開放されて貫通した受け部121が形成され、コの字形状の断面を有する軸受け部材120であってもよい。この場合には、内側下面122の形状および内側下面122と高さ方向に異なる位置に略平行に配置された外側上面123の形状と、外側上面123に対する内側下面122の傾きが算出される。
あるいは、図5の(C)に示すように、上側の一部分が開放されて貫通した受け部131が形成され、略C字形状の断面を有する軸受け部材130であってもよい。この場合には、内側下面132の形状および内側下面132と高さ方向に異なる位置に略平行に配置された外側上面133の形状と、外側上面133に対する内側下面132の傾きが算出される。
<第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態の斜入射干渉計1を用いた測定方法について説明する。
本実施形態では、図6に示すように、被測定物は、軸部材200と、内部に軸部材200が貫通して挿入配置され、固定された軸部材200に沿って軸部材200に対して図6中左右方向の所定の移動範囲を移動可能とされた軸受け部材201とである。
本実施形態では、図1に示す斜入射干渉計1を用いて、軸部材200の外側上面202の形状および外側上面202と高さ方向に異なる位置に略平行に配置された軸受け部材201の外側上面203の形状と、軸受け部材201が移動しているときの外側上面202に対する外側上面203の傾きの変化が測定される。
次に、本発明の第2実施形態の斜入射干渉計1を用いた測定方法について説明する。
本実施形態では、図6に示すように、被測定物は、軸部材200と、内部に軸部材200が貫通して挿入配置され、固定された軸部材200に沿って軸部材200に対して図6中左右方向の所定の移動範囲を移動可能とされた軸受け部材201とである。
本実施形態では、図1に示す斜入射干渉計1を用いて、軸部材200の外側上面202の形状および外側上面202と高さ方向に異なる位置に略平行に配置された軸受け部材201の外側上面203の形状と、軸受け部材201が移動しているときの外側上面202に対する外側上面203の傾きの変化が測定される。
図7に示すように、まず、S4の測定光入射工程では、反射ミラー14の設置角度θ1を所定角度に設定し、軸受け部材201を図8の(A)に示すような軸受け部材200における図6中左側に配置し、光源11から可干渉光を出射させる。これにより、反射ミラー14で反射された測定光L21が軸部材200の外側上面202に入射角度θ2で入射し、反射ミラー14で反射された測定光L22が軸受け部材200の外側上面203に入射角度θ2で入射する。そして、軸受け部材201を図8の(A)に示す位置から図8中右方向に移動させる。
このとき、検出器17では、図8の(B)や図9の(B)に示すように、所定の時間間隔で連続して外側上面202の干渉縞画像202aと外側上面203の干渉縞画像203aとが同時に検出される。例えば、軸受け部材201が図8の(A)に示す位置にあるときは、図8の(B)に示すように干渉縞画像202aと干渉縞画像203aとが同時に検出される。そして、軸受け部材201が図8の(A)に示す位置から図9の(A)に示す位置に移動されると、軸部材200は動かないため干渉縞画像202aも動かないが、干渉縞画像203aは、図8の(B)に示す位置から図9の(B)に示す位置に移動される。
その後、S5の面形状測定工程で、検出器17で検出された干渉縞画像202aと干渉縞画像203aとに基づいて、外側上面202の形状と外側上面203の形状とを算出する。また、S6の傾き変化測定工程では、まず、検出器17で検出された干渉縞画像202aと干渉縞画像203aとに基づいて、所定の時間間隔ごとの外側上面202の代表面および外側上面203の代表面を算出する。そして、所定の時間間隔ごとの外側上面202の代表面に対する外側上面203の代表面の傾きを算出し、軸受け部材201が図8中右方向に移動しているときの外側上面202に対する外側上面203の傾きの変化を算出する。
なお、図8の(B)や図9の(B)に示される黒い部分は、軸受け部材201があることにより、軸部材200の外側上面202からの干渉光L41の一部が検出器17には入射しないため影となっている部分である。しかし、図8の(B)や図9の(B)に白抜きで示されるように、軸部材200の外側上面202からの干渉光L41の他の一部が検出器17に入射するため、その入射する干渉光L41に基づいて干渉縞画像202aが検出器17で検出される。よって、S5の面形状測定工程やS6の傾き変化測定工程では、干渉縞画像202aを用いることが可能となっている。また、S5の工程の前にS6の工程を行ってもよい。
なお、図8の(B)や図9の(B)に示される黒い部分は、軸受け部材201があることにより、軸部材200の外側上面202からの干渉光L41の一部が検出器17には入射しないため影となっている部分である。しかし、図8の(B)や図9の(B)に白抜きで示されるように、軸部材200の外側上面202からの干渉光L41の他の一部が検出器17に入射するため、その入射する干渉光L41に基づいて干渉縞画像202aが検出器17で検出される。よって、S5の面形状測定工程やS6の傾き変化測定工程では、干渉縞画像202aを用いることが可能となっている。また、S5の工程の前にS6の工程を行ってもよい。
以上のような本実施形態の斜入射干渉計1を用いた測定方法では、以下の効果がある。
本実施形態の測定方法では、S4の測定光入射工程とS5の面形状測定工程とS6の傾き変化測定工程とを備えているため、軸部材200と軸受け部材201とが互いに相対移動していても、高さ方向に異なる位置に略平行に配置された外側上面202の形状および外側上面203の形状と、外側上面202に対する外側上面203の傾きの変化とを一括でかつ高精度に測定できる。
本実施形態の測定方法では、S4の測定光入射工程とS5の面形状測定工程とS6の傾き変化測定工程とを備えているため、軸部材200と軸受け部材201とが互いに相対移動していても、高さ方向に異なる位置に略平行に配置された外側上面202の形状および外側上面203の形状と、外側上面202に対する外側上面203の傾きの変化とを一括でかつ高精度に測定できる。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記実施形態では、被測定物として軸受け部材について説明したが、高さ方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面を有するものであれば、軸受け部材以外の部材であってもよい。
また、前記実施形態では、高さ方向に異なる位置に略平行に配置された2つの面について説明したが、3つ以上の面であってもよい。
前記実施形態では、被測定物として軸受け部材について説明したが、高さ方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面を有するものであれば、軸受け部材以外の部材であってもよい。
また、前記実施形態では、高さ方向に異なる位置に略平行に配置された2つの面について説明したが、3つ以上の面であってもよい。
前記第2実施形態では、軸部材200が固定され、軸部材200に対して軸受け部材201が移動可能とされているが、逆に、軸受け部材201が固定され、軸受け部材201に対して軸部材200が移動可能とされていてもよい。または、軸部材200と軸受け部材201との両方が移動して相対移動していてもよい。
また、前記第2実施形態では、軸受け部材201を図8の(A)に示すような軸受け部材200における図6中左側に配置して、図8の(A)に示す位置から図8中右方向に移動させているが、逆に、軸受け部材201を軸受け部材200における図6中右側に配置して、その位置から図6中左側に移動させてもよい。
また、前記第2実施形態では、軸部材200の外側上面202に対する軸受け部材201の外側上面203の傾きの変化を算出しているが、例えば、軸部材200の左右両端側に真直基準器を配置し、真直基準器の上面の高さ位置を外側上面202の高さ位置と同じ位置として、この真直基準器の上面に対する外側上面203の傾きの変化を算出してもよい。
また、前記第2実施形態では、S5の面形状測定工程を行っているが、この工程を行わなくてもよい。
また、前記第2実施形態では、軸受け部材201を図8の(A)に示すような軸受け部材200における図6中左側に配置して、図8の(A)に示す位置から図8中右方向に移動させているが、逆に、軸受け部材201を軸受け部材200における図6中右側に配置して、その位置から図6中左側に移動させてもよい。
また、前記第2実施形態では、軸部材200の外側上面202に対する軸受け部材201の外側上面203の傾きの変化を算出しているが、例えば、軸部材200の左右両端側に真直基準器を配置し、真直基準器の上面の高さ位置を外側上面202の高さ位置と同じ位置として、この真直基準器の上面に対する外側上面203の傾きの変化を算出してもよい。
また、前記第2実施形態では、S5の面形状測定工程を行っているが、この工程を行わなくてもよい。
本発明は、斜入射干渉計を用いて、被測定物を構成する面の形状などを測定する測定方法に好適に利用することができる。
1…斜入射干渉計、
100,110,120,130,201…軸受け部材(被測定物)、
101,112,122,132…内側下面(面)、
102,113,123,133,202,203…外側上面(面)、
200…軸部材(被測定物)、
L2,L21,L22…測定光、
S1,S4…測定光入射工程、
S2,S5…面形状測定工程、
S3…傾き測定工程、
S6…傾き変化測定工程
100,110,120,130,201…軸受け部材(被測定物)、
101,112,122,132…内側下面(面)、
102,113,123,133,202,203…外側上面(面)、
200…軸部材(被測定物)、
L2,L21,L22…測定光、
S1,S4…測定光入射工程、
S2,S5…面形状測定工程、
S3…傾き測定工程、
S6…傾き変化測定工程
Claims (3)
- 被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面に測定光を入射させる測定光入射工程と、
前記複数の面で反射された測定光を利用して前記複数の面の形状を測定する面形状測定工程と、を備えることを特徴とする斜入射干渉計を用いた測定方法。 - 被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置された複数の面に測定光を入射させる測定光入射工程と、
前記複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きを測定する傾き測定工程と、を備えることを特徴とする斜入射干渉計を用いた測定方法。 - 互いに相対移動する被測定物における測定光の入射面の法線方向の異なる位置に略平行に配置されて互いに相対移動する複数の面に測定光を入射させる測定光入射工程と、
前記被測定物が相対移動しているときの、前記複数の面のいずれか1つの面に対する他の面の傾きの変化を測定する傾き変化測定工程と、を備えることを特徴とする斜入射干渉計を用いた測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010103255A JP2011232198A (ja) | 2010-04-28 | 2010-04-28 | 斜入射干渉計を用いた測定方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010103255A JP2011232198A (ja) | 2010-04-28 | 2010-04-28 | 斜入射干渉計を用いた測定方法 |
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JP (1) | JP2011232198A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114777644A (zh) * | 2022-04-11 | 2022-07-22 | 河南科技大学 | 一种双联齿轮之小齿轮的机器视觉测量方法及测量装置 |
-
2010
- 2010-04-28 JP JP2010103255A patent/JP2011232198A/ja active Pending
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CN114777644A (zh) * | 2022-04-11 | 2022-07-22 | 河南科技大学 | 一种双联齿轮之小齿轮的机器视觉测量方法及测量装置 |
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