JP6485992B2 - 複数の位置測定装置を備えた装置 - Google Patents
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Description
− 前記第1のメイン移動軸に沿って前記対象物の方向へビームを照射する光源と、
− 前記第3の軸に沿って周期的に配置された分割マーカで構成され、前記対象物に配置された標準器と、
− 前記対象物から離間しつつ少なくとも前記第3の軸に沿って配置された反射器と、 − 再帰反射器と、
− 検出装置と
を備えて成り、前記ビームにより生成される測定ビーム及び基準ビームの重ね合わせにより、前記対象物の前記第3の軸に沿った移動についての位置信号を生成可能であることを特徴としている。
− 前記第1のメイン移動軸に沿って周期的に配置された分割マーカを含んで構成された回折格子として形成するか、又は
− 入射する測定ビームに対して垂直に配置された平面鏡として形成した。
− 前記光源から照射されるビームが前記再帰反射器において1つの測定ビームと1つの基準ビームに分光され、
− 前記測定ビームが前記標準器方向へ拡がるとともに、該標準器により前記反射器方向へ第1の反射及び回折がなされ、
− 前記反射器からの測定ビームが前記標準器の方向への第1の反射を受け、
− 前記測定ビームが前記標準器から前記再帰反射器方向への第1の反射を受け、ここで、前記測定ビームが前記標準器の方向への再帰反射及び反射を受け、
− 前記測定ビームが前記標準器において前記反射器の方向への第2の反射及び回折を受け、
− 前記測定ビームが前記反射器において前記標準器の方向への第2の反射を受け、
− 前記測定ビームが前記標準器において前記再帰反射器方向への第2の反射を受け、 − 前記基準ビームが前記再帰反射器を通過し、そして、
− 前記標準器における第2の反射の後に入射する前記測定ビームの重ね合わせがなされ、前記測定ビームと前記基準ビームから成る重ね合わされた対が前記検出装置の方向へ拡がることを特徴としている。
− 前記第1のメイン移動軸に沿って前記対象物の方向へビームを照射する光源と、
− 前記第2のメイン移動軸に沿って周期的に配置された分割マーカで構成され、前記対象物に配置された標準器と、
− 前記対象物から離間しつつ少なくとも第3の軸に沿って配置された反射器と、
− 再帰反射器と、
− 検出装置と
を備えて成り、前記第3の軸が前記第1及び第2のメイン移動軸に対して垂直に配向されており、前記ビームにより生成される測定ビーム及び基準ビームの重ね合わせにより、前記対象物の前記第2のメイン移動軸(x)に沿った移動についての位置信号を生成可能であることを特徴としている。
− 前記第2のメイン移動軸の方向に離間した2つの回折格子を含み、この回折格子が周期的に配置された分割マーカを備えているか、又は
− 前記第2のメイン移動軸の方向に離間した2つの平面鏡を含み、各平面鏡がこれに入射する測定ビームに対して垂直に配置されている
ことを特徴としている。
− 1次元の標準器として形成され、該標準器が前記第3の軸(z)に対して0°ではない角度で前記対象物に配置されているか、又は
− 2次元の標準器として形成され、該標準器が前記第3の軸に対して平行に前記対象物に配置されているとともに、前記第3の軸に沿って周期的に配置された分割マーカを含んで構成されている
ように構成することが考えられる。
− 前記光源(12.5)から照射されるビームが前記標準器(13)の方向へ拡がり、そこで2つの分割ビームへ分光され、これら分割ビームが、位置信号の干渉された生成のための測定ビーム及び基準ビームとして使用可能であるとともに、これら2つの分割ビームが前記標準器(13)における反射の後に前記反射器(14.1,14.2)へ異なる方向へ拡がり、
− 両分割ビームが前記反射器(14.1,14.2)においてそれぞれ前記標準器(13)の方向へ第1の反射を受け、
− 両分割ビームが前記標準器(13)において前記再帰反射器(12.6)の方向へ第1の反射を受け、ここで、両分割ビームが前記標準器(13)方向への再帰反射及び反射を受け、
− 両分割ビームが前記標準器(13)において前記反射器(14.1,14.2)の方向への第2の反射及び回折を受け、
− 両分割ビームが前記反射器(14.1,14.2)が前記標準器(13)の方向への第2の反射を受け、
− 前記分割ビームが前記標準器(13)において再度統合され、重ね合わされたビームが前記標準器(13)から前記検出装置(12.5)の方向へ拡がる
ことを特徴としている。
− 2つの直交する第1及び第2のメイン移動軸並びにこれに対して垂直な第2の軸に沿って可変に配置された対象物と、
− 複数の空間的な自由度において前記対象物の位置を検出するための複数の位置測定装置と
を備えて成り、複数の光学的な前記位置測定装置が唯一の走査方向から前記対象物を走査するとともに、この走査方向が両メイン移動軸に一致することを特徴としている。
2,12 光学ユニット
2.1,12.1 光源
2.2,12.2 ビームスプリッタ要素
2.3,12.3 再帰反射要素
2.4 基準反射要素
2.5,12.5 検出装置
2.6,12.6 再帰反射器
3,13,23.2,23.3 標準器
4,14.1,14.2,24,24.1,24.2 反射器
5 機械部分
12.7 屈折面
23.1 測定反射器
My1,My2,My3 測定ビーム
P1 第1の投射箇所
P2 第2の投射箇所
PMy1,PMy2,PMy3 投射箇所
Mz1,Mz2,Mz3 測定ビーム
PMz1,PMz2,PMz3 投射箇所
Mx 測定ビーム
Claims (1)
- − 2つの直交する第1及び第2のメイン移動軸(y,x)並びにこれに対して垂直な第3の軸(z)に沿って可変に配置された対象物(1)と、
− 6つ全ての空間的な自由度において前記対象物(1)の位置を検出するための複数の位置測定装置と
を備えて成り、複数の光学的な前記位置測定装置が唯一の走査方向から前記対象物(1)を走査するとともに、この走査方向が両メイン移動軸(y,x)のうちいずれかに一致し、前記6つの空間的な自由度が、前記第1及び第2のメイン移動軸(y,x)に沿った、並びにこれら第1及び第2のメイン移動軸に対して垂直な前記第3の軸(z)に沿った3つの並進運動自由度と、前記第1及び第2のメイン移動軸(y,x)周りの、並びにこれら第1及び第2のメイン移動軸に対して垂直な前記第3の軸(z)周りの3つの回転運動自由度とを含んでおり、
前記対象物(1)において必要な、様々な前記位置測定装置の全ての標準器(23.2,23.3)及び測定反射器(23.1)が前記対象物(1)の共通の側に配置されていることを特徴とする装置。
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