JP2011210509A - 電子ビーム照射方法、及び走査電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記目的を達成するために、予備照射領域を複数の領域に分割し、当該複数の領域に対し、異なるビーム照射条件のビームを用いて、帯電を付着する荷電粒子ビーム照射方法、及び荷電粒子線装置を提案する。上記構成によれば、予備照射領域内で、各位置の帯電の差異を抑制し得るような照射条件に基づいて、予備照射領域に対する帯電の付着が可能となるため、荷電粒子ビームや試料から放出される電子に対する電界の影響を抑制することが可能となる。
【選択図】 図1
Description
902,903 SEM
904,905 制御装置
906,907 通信回線
908 シミュレータ
1001 電子源
1002 引出電極
1003 電子ビーム
1004 コンデンサレンズ
1005 走査偏向器
1006 対物レンズ
1007 試料室
1008 試料台
1009 試料
1010 電子
1011 二次電子
1012 変換電極
1013 検出器
Claims (12)
- 試料に第1の電子ビームを走査して、試料を帯電させ、当該帯電した試料への第2の電子ビームの走査によって得られる電子に基づいて、前記試料の測定、或いは検査を行う電子ビーム照射方法において、
前記第1の電子ビームの走査領域を複数に分割し、当該複数の分割領域について、帯電の程度を示す帯電パラメータを導出し、当該帯電パラメータが所定の閾値を超える、或いは所定の閾値以上の分割領域を特定し、
前記第2の電子ビームの走査領域が属する分割領域の前記帯電パラメータと、その他の分割領域の帯電パラメータとの差異を抑制するように、前記分割領域に対する走査条件を決定することを特徴とする電子ビーム照射方法。 - 請求項1において、
前記帯電パラメータは、前記分割領域内のパターンの密度、及び/又は前記分割領域内のパターンの材質に応じて割り当てられたパラメータに基づいて、導出されることを特徴とする電子ビーム照射方法。 - 請求項1において、
前記複数の分割領域に対し、異なるビーム条件の電子ビームを走査することによって、前記第2のビームの走査領域が属する分割領域の前記帯電パラメータと、その他の分割領域の帯電パラメータとの差異を抑制することを特徴とする電子ビーム照射方法。 - 請求項1において、
前記帯電パラメータが所定値を超える、或いは所定の閾値以上の分割領域に対し、前記第1の電子ビームの走査を実施しない、或いは帯電を抑制する第1の電子ビームによる走査を行うことを特徴とする電子ビーム照射方法。 - 請求項1において、
前記第2の電子ビームの走査領域に対する帯電分布の偏りを抑制、或いは相殺するように、前記複数の分割領域に対する走査条件を決定することを特徴とする電子ビーム照射方法。 - 請求項1において、
前記帯電パラメータは、前記試料の設計データに基づいて導出されるものであることを特徴とする電子ビーム照射方法。 - 電子源と、
当該電子源から放出された電子ビームを集束するレンズと、
電子ビームを試料上で走査するための走査偏向器と、
前記試料から放出される電子を検出する検出器を備えた走査電子顕微鏡において、
試料を帯電させる第1の電子ビームのビーム条件と、試料の測定、或いは検査のための第2の電子ビームのビーム条件を記憶する記憶媒体を内蔵、或いは当該記憶媒体にアクセス可能な制御装置を備え、
当該制御装置は、
前記第1の電子ビームの走査領域を複数に分割し、当該複数の分割領域について、帯電の程度を示す帯電パラメータを導出し、当該帯電パラメータが所定の閾値を超える、或いは所定の閾値以上の分割領域を特定し、
前記第2の電子ビームの走査領域が属する分割領域の前記帯電パラメータと、その他の分割領域の帯電パラメータとの差異を抑制するように、前記分割領域に対する走査条件を決定することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項7において、
前記制御装置は、前記分割領域内のパターンの密度、及び/又は前記分割領域内のパターンの材質に応じて割り当てられたパラメータに基づいて、前記帯電パラメータを導出することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項7において、
前記制御装置は、前記複数の分割領域に対し、異なるビーム条件の電子ビームを走査することによって、前記第2のビームの走査領域が属する分割領域の前記帯電パラメータと、その他の分割領域の帯電パラメータとの差異を抑制する条件を導出することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項7において、
前記制御装置は、前記帯電パラメータが所定値を超える、或いは所定の閾値以上の分割領域に対し、前記第1の電子ビームの走査を実施しない、或いは帯電を抑制する第1の電子ビームによる走査を行うよう前記走査電子顕微鏡を制御することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項7において、
前記制御装置は、前記第2の電子ビームの走査領域に対する帯電分布の偏りを抑制、或いは相殺するように、前記複数の分割領域に対する走査条件を設定することを特徴とする走査電子顕微鏡。 - 請求項7において、
前記制御装置は、前記帯電パラメータを、前記試料の設計データに基づいて導出することを特徴とする走査電子顕微鏡。
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