JP2011203603A - 光学素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】先ず、単一基板10のチップ列領域20に複数のグレーティングカプラ30を形成するとともに、単一基板の評価用領域40に、評価用グレーティングカプラ50及び多分岐導波路55を形成する。この多分岐導波路は、複数のグレーティングカプラのそれぞれと評価用グレーティングカプラとを光学的に接続する。次に、複数のグレーティングカプラを評価する。この評価は、評価用グレーティングカプラに評価用光信号を入射し、複数のグレーティングカプラからの回折光を測定し、及び、回折光の強度と、予め設定された基準値とを比較することにより行われる。次に、チップ列領域と評価用領域とを分離するとともに、チップ列領域を、それぞれグレーティングカプラを含む、複数のONUチップに個片化する。
【選択図】図2
Description
グの周期を変調したりしても良い。
12 支持層
14 BOX層
16 SOI層
18 オーバークラッド層
20 チップ列領域
22a、22b、22c、22d チップ領域
23 ONUチップ
30、31、32 グレーティングカプラ
35 光導波路
36 入出力端部
39 方向性結合器
40 評価用領域
50 評価用グレーティングカプラ
55 多分岐導波路
56 第1段のY分岐部
57 第2段のY分岐部
58 第3段のY分岐部
Claims (2)
- 単一基板のチップ列領域に複数のグレーティングカプラを形成するとともに、前記単一基板の評価用領域に、評価用グレーティングカプラ、及び、前記複数のグレーティングカプラのそれぞれと前記評価用グレーティングカプラとを光学的に接続する多分岐導波路を形成する工程と、
前記評価用グレーティングカプラに評価用光信号を入射し、前記複数のグレーティングカプラからの回折光を測定し、及び、前記回折光の強度と、予め設定された基準値とを比較することにより、前記複数のグレーティングカプラを評価する工程と、
前記チップ列領域と前記評価用領域とを分離するとともに、前記チップ列領域を、それぞれグレーティングカプラを含む、複数のチップに個片化する工程と
を備えることを特徴とする光学素子の製造方法。 - 前記複数のグレーティングカプラを評価する工程では、前記複数のグレーティングカプラからの回折光を一括して測定する
ことを特徴とする請求項1に記載の光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP (1) | JP5482360B2 (ja) |
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JP5482360B2 (ja) | 2014-05-07 |
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A621 | Written request for application examination |
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