JP2011201261A - Method for manufacturing rolled film base material, method for manufacturing pattern forming body using rolled film base material, rolled film base material, and functional layer-containing film base material - Google Patents

Method for manufacturing rolled film base material, method for manufacturing pattern forming body using rolled film base material, rolled film base material, and functional layer-containing film base material Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a rolled film base material as a principal object by which a rolled film base material free from dimensional shift in inside and outside of the roll can be obtained.SOLUTION: This method for manufacturing a rolled film base material includes a step of: preparing a rolled film base material by winding up a space member-laminated film base material with a space member arranged on a film base material; and a step of preserving the rolled film base material under an atmosphere of prescribed temperature and humidity until the moisture content of the rolled film base material reaches the moisture content under the atmosphere.

Description

本発明は、カラーフィルタおよび配線パターン等の各種の用途に使用可能なパターン形成体に用いられるロール状フィルム基材の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a roll-shaped film substrate used for a pattern forming body that can be used for various applications such as a color filter and a wiring pattern.

近年、液晶表示素子の薄型軽量化および耐衝撃性の向上等が目指されており、カラーフィルタ、TFTアレイ等を構成する基材として、従来使用されてきたガラス基板の代わりに、可撓性を有するフィルム基材が巻回されてなるロール状フィルム基材を用いる試みがなされている。ロール状フィルム基材をこのような基材に用いた場合、基材上に所望の精度で、例えば、着色層およびブラックマトリックスが形成されたカラーフィルタを得ることが困難であるといった問題があった。具体的には、ロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に着色層、ブラックマトリックスが形成される工程において、フォトリソグラフィー法やインクジェット法等の微細加工手段を用いてパターンが形成されるが、その工程中に熱や水分等の影響を受けたロール状フィルム基材に寸法ずれが生じてしまい、カラーフィルタを精度良く作製することが困難であるといった問題があった。   In recent years, liquid crystal display elements have been reduced in thickness and weight and improved in impact resistance. As a base material for constituting color filters, TFT arrays, etc., instead of the conventionally used glass substrate, flexibility has been achieved. Attempts have been made to use a roll-shaped film base material in which a film base material is wound. When a roll-shaped film base material is used for such a base material, there is a problem that it is difficult to obtain a color filter in which, for example, a colored layer and a black matrix are formed on the base material with a desired accuracy. . Specifically, in the process of forming a colored layer and a black matrix on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate, a pattern is formed using a fine processing means such as a photolithography method or an inkjet method. However, there is a problem that a dimensional shift occurs in the roll-shaped film substrate affected by heat, moisture, etc. during the process, and it is difficult to produce a color filter with high accuracy.

これに対して、例えば、特許文献1においては、基材を乾燥後、高温高湿環境下に放置し、所定の温湿度環境における含水率の±10%以内の含水率となるように吸湿処理を行うことによって、基材の寸法を制御する方法が開示されている。   On the other hand, for example, in Patent Document 1, after drying the substrate, the substrate is left in a high-temperature and high-humidity environment to absorb moisture so that the moisture content is within ± 10% of the moisture content in a predetermined temperature-humidity environment. A method of controlling the dimensions of the substrate by performing the above is disclosed.

しかしながら、この方法では、ロール状フィルム基材の巻内は吸水や脱水がしにくいため、所望の含水率に達するまでには長時間が必要であり、巻内と巻外とで含水率が均一にならず、ロール状フィルム基材の巻内および巻外で寸法ずれが生じるという問題がある。   However, in this method, since the inside of the roll film substrate is difficult to absorb or dehydrate, it takes a long time to reach the desired moisture content, and the moisture content is uniform between the inside and outside of the roll. However, there is a problem that dimensional deviation occurs in and outside the roll film substrate.

一方、例えば、特許文献2においては、基材の加熱脱水後から露光開始までの時間を運搬手段により管理し、かつ、温度・湿度を調整することによって、基材の寸法を再現性良く制御する方法が開示されている。   On the other hand, for example, in Patent Document 2, the time from the heat dehydration of the base material to the start of exposure is managed by the transport means, and the temperature and humidity are adjusted to control the dimensions of the base material with good reproducibility. A method is disclosed.

しかしながら、この方法では、精密な時間管理が必要であり、ロール状フィルム基材の巻内と巻外とでは、所要時間が異なるという問題がある。   However, this method requires precise time management, and there is a problem that the required time differs between the inside and outside of the roll-shaped film substrate.

特開2003−66423号公報JP 2003-66423 A 特開2003−177551号公報JP 2003-177551 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、巻内および巻外での寸法ずれがないロール状フィルム基材を得ることができるロール状フィルム基材の製造方法を提供することを主目的とする。   This invention is made in view of the said problem, and provides the manufacturing method of the roll-shaped film base material which can obtain the roll-shaped film base material without the dimension shift | offset | difference in winding and unwinding. Main purpose.

上記課題を解決するために、本発明は、フィルム基材上に空隙部材を配置した空隙部材積層フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備するロール状フィルム基材準備工程と、上記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記ロール状フィルム基材を上記温湿度雰囲気下で保管する保管工程とを有することを特徴とするロール状フィルム基材の製造方法を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention comprises a roll-shaped film substrate preparation step of winding a gap member laminated film substrate in which a gap member is disposed on a film substrate, and preparing a roll-shaped film substrate, The roll-shaped film substrate has a storage step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature-humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature-humidity atmosphere. A method for producing a film substrate is provided.

本発明によれば、空隙部材が挟まれたロール状フィルム基材を、含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管することで、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材を得ることができる。   According to the present invention, the roll-shaped film substrate sandwiched with the gap members is stored until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, so that the uniform moisture content can be obtained regardless of whether it is inside or outside the winding. A roll-shaped film substrate having a rate can be obtained.

上記発明においては、上記空隙部材が、表面粗さ(Ra)が1μm以上の多孔質シートであることが好ましい。多孔質シートは入手しやすく、そのRaが上記範囲であることにより、通気性および透湿性に優れた空隙部材とすることができるからである。   In the said invention, it is preferable that the said space | gap member is a porous sheet whose surface roughness (Ra) is 1 micrometer or more. This is because the porous sheet is easily available, and when the Ra is in the above range, a void member having excellent air permeability and moisture permeability can be obtained.

上記発明においては、上記保管工程の温湿度雰囲気が、上記所定の温湿度雰囲気下における含水率に達した上記ロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成する際の温湿度雰囲気と等しいことが好ましい。保管工程とパターン形成時との温度差および湿度差によるロール状フィルム基材の寸法ずれが抑制され、所定の温湿度雰囲気下における含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材の寸法を基準としてパターン形成を行うことにより、高い寸法精度でパターンを形成することができるからである。   In the said invention, the temperature and humidity atmosphere of the said storage process are the temperature at the time of forming a pattern on the film base material unwound from the said roll-shaped film base material which reached the moisture content in the said predetermined temperature and humidity atmosphere. It is preferable to be equal to the humidity atmosphere. Film substrate unrolled from a roll-shaped film substrate having a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, in which dimensional deviation of the roll-shaped film substrate due to temperature difference and humidity difference between the storage process and pattern formation is suppressed This is because the pattern can be formed with high dimensional accuracy by forming the pattern with reference to the dimension.

また、本発明は、上述したロール状フィルム基材の製造方法により得られたロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上に、パターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。   Moreover, this invention has the pattern formation process which forms a pattern on the film base material unwound from the roll-shaped film base material obtained by the manufacturing method of the roll-shaped film base material mentioned above, It is characterized by the above-mentioned. Provided is a method for manufacturing a pattern forming body.

本発明によれば、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に、パターンを形成することにより、巻内と巻外とで寸法ずれのない高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができる。   According to the present invention, by forming a pattern on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate having a uniform water content regardless of whether it is in-winding or unwinding, It is possible to obtain a pattern forming body on which a high-definition pattern having no dimensional deviation is formed.

上記発明においては、上記パターン形成工程前または上記パターン形成工程後に、上記フィルム基材から空隙部材を剥離する剥離工程を有していてもよい。空隙部材によりパターン形成体の機能が妨げられる場合、フィルム基材から空隙部材を剥離する必要がある。また、空隙部材によりパターン形成体の機能が妨げられない場合においても、フィルム基材から空隙部材を剥離することで、パターン形成体の薄膜化を図ることができる。   In the said invention, you may have the peeling process which peels a space | gap member from the said film base material before the said pattern formation process or after the said pattern formation process. When the function of the pattern forming body is hindered by the gap member, it is necessary to peel the gap member from the film base material. Even when the function of the pattern forming body is not hindered by the gap member, the pattern forming body can be made thinner by peeling the gap member from the film substrate.

また、本発明は、フィルム基材上に空隙層を形成した空隙層含有フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備するロール状フィルム基材準備工程と、上記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記ロール状フィルム基材を上記温湿度雰囲気下で保管する保管工程とを有することを特徴とするロール状フィルム基材の製造方法を提供する。   Moreover, this invention winds the space | gap layer containing film base material which formed the space | gap layer on the film base material, the roll-shaped film base material preparation process of preparing a roll-shaped film base material, and the said roll-shaped film base material And a storage step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature-humidity atmosphere until the moisture content reaches a moisture content in a predetermined temperature-humidity atmosphere. I will provide a.

本発明によれば、空隙層が挟まれたロール状フィルム基材を、含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管することで、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材を得ることができる。   According to the present invention, the roll-shaped film substrate sandwiched with the void layer is stored until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, so that the uniform moisture content can be obtained regardless of whether it is inside or outside the winding. A roll-shaped film substrate having a rate can be obtained.

上記発明においては、上記空隙層が、表面に凹凸構造を有する機能層であることが好ましい。空隙層が表面に凹凸構造を有することで、巻回したときにロール状フィルム基材間に多くの空隙を挟むことができ、また空隙層が機能層であることで、目的とするパターン形成体の基材として用いることにより、パターン形成体に容易に機能を付加することができるからである。   In the said invention, it is preferable that the said space | gap layer is a functional layer which has an uneven | corrugated structure on the surface. Since the void layer has a concavo-convex structure on the surface, a large number of voids can be sandwiched between the roll-shaped film substrates when wound, and the intended pattern forming body is formed by the void layer being a functional layer. It is because a function can be easily added to a pattern formation body by using as a base material.

上記発明においては、上記機能層が、アンチグレア(AG)機能を有し、かつ表面粗さ(Ra)が50nm〜500nmの範囲内であることが好ましい。上述した利点に加え、Raが上記範囲内であることにより、良好なAG機能を有する層を含有するロール状フィルム基材とすることができ、このようなロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上にパターンが形成されたパターン形成体を画像表示素子に用いることで、ギラツキの発生およびコントラストの低下を抑制することができるからである。   In the said invention, it is preferable that the said functional layer has an anti-glare (AG) function and surface roughness (Ra) exists in the range of 50 nm-500 nm. In addition to the advantages described above, when Ra is within the above range, a roll-shaped film substrate containing a layer having a good AG function can be obtained, and the roll-shaped film substrate is unwound from such a roll-shaped film substrate. This is because the occurrence of glare and the reduction in contrast can be suppressed by using the pattern forming body in which the pattern is formed on the film base material as the image display element.

上記発明においては、上記保管工程の温湿度雰囲気が、上記所定の温湿度雰囲気下における含水率に達した上記ロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成する際の温湿度雰囲気と等しいことが好ましい。保管工程とパターン形成時との温度差および湿度差によるロール状フィルム基材の寸法ずれが抑制され、所定の温湿度雰囲気下における含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材の寸法を基準としてパターン形成を行うことにより、高い寸法精度でパターンを形成することができるからである。   In the said invention, the temperature and humidity atmosphere of the said storage process are the temperature at the time of forming a pattern on the film base material unwound from the said roll-shaped film base material which reached the moisture content in the said predetermined temperature and humidity atmosphere. It is preferable to be equal to the humidity atmosphere. Film substrate unrolled from a roll-shaped film substrate having a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, in which dimensional deviation of the roll-shaped film substrate due to temperature difference and humidity difference between the storage process and pattern formation is suppressed This is because the pattern can be formed with high dimensional accuracy by forming the pattern with reference to the dimension.

また、本発明は、上述したロール状フィルム基材の製造方法により得られたロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上に、パターンを形成するパターン形成工程を有するパターン形成体の製造方法を提供する。   Moreover, this invention is a pattern formation body which has a pattern formation process which forms a pattern on the film base material unwound from the roll-shaped film base material obtained by the manufacturing method of the roll-shaped film base material mentioned above. A manufacturing method is provided.

本発明によれば、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に、パターンを形成することにより、巻内と巻外とで寸法ずれのない高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができる。   According to the present invention, by forming a pattern on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate having a uniform water content regardless of whether it is in-winding or unwinding, It is possible to obtain a pattern forming body on which a high-definition pattern having no dimensional deviation is formed.

また、本発明は、フィルム基材上に空隙部材を配置した空隙部材積層フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状フィルム基材を提供する。   Moreover, this invention provides the roll-shaped film base material by which the space | gap member laminated | stacked film base material which has arrange | positioned the space | gap member on a film base material is wound.

本発明によれば、上記ロール状フィルム基材を、含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管するだけで、巻内と巻外とで含水率の差を生じないロール状フィルム基材とすることができる。   According to the present invention, the roll-shaped film substrate is stored in a roll shape that does not cause a difference in moisture content between the inside and outside of the winding, only by storing the moisture content until the moisture content reaches the moisture content under a predetermined temperature and humidity atmosphere. It can be a film substrate.

また、本発明は、フィルム基材上に空隙層を形成した空隙層含有フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状フィルム基材を提供する。   Moreover, this invention provides the roll-shaped film base material by which the space | gap layer containing film base material which formed the space | gap layer on the film base material is wound.

本発明によれば、上記ロール状フィルム基材を、含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管するだけで、巻内と巻外とで含水率の差を生じないロール状フィルム基材とすることができる。   According to the present invention, the roll-shaped film substrate is stored in a roll shape that does not cause a difference in moisture content between the inside and outside of the winding, only by storing the moisture content until the moisture content reaches the moisture content under a predetermined temperature and humidity atmosphere. It can be a film substrate.

また、本発明は、巻回したときにロール状フィルム基材間に通気性を付与し、かつ、上記ロール状フィルム基材に機能を付加する機能層が、フィルム基材の一方の面に形成されてなることを特徴とする機能層含有フィルム基材を提供する。   In addition, the present invention provides a functional layer on one surface of the film substrate that imparts air permeability between the roll film substrates when wound, and adds a function to the roll film substrate. The functional layer containing film base material characterized by being made is provided.

本発明によれば、上記機能層含有フィルム基材を巻回し、含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管することにより、巻内と巻外とで含水率の差を生じず、かつ、巻き出してフィルム基材とした際に所望の機能を有するロール状フィルム基材とすることができる。   According to the present invention, the functional layer-containing film base material is wound and stored until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, thereby producing a difference in moisture content between the inside and outside of the winding. And it can be set as the roll-shaped film base material which has a desired function when unwinding and setting it as a film base material.

上記発明においては、機能性パターンが、上記フィルム基材の他方の面に形成されていてもよい。上記フィルム基材の上記機能層が形成されていない面に機能性パターンを形成することで、上記機能層の機能が付加されたパターン形成体とすることができる。   In the said invention, the functional pattern may be formed in the other surface of the said film base material. By forming a functional pattern on the surface of the film base material on which the functional layer is not formed, a pattern forming body to which the function of the functional layer is added can be obtained.

本発明においては、巻内および巻外での寸法ずれがないロール状フィルム基材を得ることができるという効果を奏する。   In this invention, there exists an effect that the roll-shaped film base material without the dimension shift | offset | difference in winding and unwinding can be obtained.

本発明のロール状フィルム基材の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention. 本発明のロール状フィルム基材の製造方法の他の例を示す工程図である。It is process drawing which shows the other example of the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention. 本発明のパターン形成体の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the pattern formation body of this invention. 本発明のパターン形成体の製造方法の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of the pattern formation body of this invention. 本発明のパターン形成体の製造方法の他の例を示す工程図である。It is process drawing which shows the other example of the manufacturing method of the pattern formation body of this invention. 本発明の機能層含有フィルム基材の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the functional layer containing film base material of this invention.

以下、本発明のロール状フィルム基材の製造方法、パターン形成体の製造方法、ロール状フィルム基材および機能層含有フィルム基材について、詳細に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention, the manufacturing method of a pattern formation body, a roll-shaped film base material, and a functional layer containing film base material are demonstrated in detail.

A.ロール状フィルム基材の製造方法
まず、本発明のロール状フィルム基材の製造方法について説明する。本発明のロール状フィルム基材の製造方法は、2つの態様に大別することができる。以下、本発明のロール状フィルム基材の製造方法について、第1態様および第2態様に分けて説明する。
A. First, the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention is demonstrated. The manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention can be divided roughly into two aspects. Hereinafter, the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention is divided and demonstrated to a 1st aspect and a 2nd aspect.

1.第1態様
まず、本発明のロール状フィルム基材の製造方法の第1態様について説明する。第1態様のロール状フィルム基材の製造方法は、フィルム基材上に空隙部材を配置した空隙部材積層フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備するロール状フィルム基材準備工程と、上記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記ロール状フィルム基材を上記温湿度雰囲気下で保管する保管工程とを有することを特徴とする製造方法である。
1. 1st aspect First, the 1st aspect of the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention is demonstrated. The manufacturing method of the roll-shaped film base material of the 1st aspect winds the space | gap member laminated | stacked film base material which has arrange | positioned the space | gap member on a film base material, and roll-shaped film base material preparation process which prepares a roll-shaped film base material, And a storage step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature and humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. It is a manufacturing method.

本態様によれば、空隙部材が挟まれたロール状フィルム基材を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管することで、巻内および巻外で含水率の差を生じることなく均一な含水率を有するロール状フィルム基材を得ることができる。
通常、常温常湿下のロール状フィルム基材においては、巻外側に比べて、巻内(巻芯)側が吸脱水しにくいため、巻内側および巻外側の間で含水率に差が生じてしまう。これに対して、本態様のように、フィルム基材上に空隙部材を配置したものを巻回してロール状フィルム基材とすることで、ロール状フィルム基材の巻内側の通気性および透湿性を向上させることができる。この状態で所定の温湿度雰囲気下で保管することにより、巻内側も巻外側のように素早く所定の温湿度雰囲気下における含水率に到達させることができ、ロール状フィルム基材の巻内側と巻外側とで寸法ずれが生じない程度に巻内側および巻外側の含水率を等しくすることができる。
According to this aspect, by storing the roll-shaped film substrate with the gap member interposed therebetween until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, the difference in moisture content between the inside and outside of the winding is achieved. A roll-shaped film base material having a uniform water content can be obtained without causing the above.
Usually, in a roll-shaped film substrate at room temperature and humidity, the moisture content is different between the inner side and the outer side because the inner side (winding core) is less likely to absorb and dehydrate than the outer side. . On the other hand, as in the present embodiment, by winding a film member having a void member on a film substrate to form a roll film substrate, the air permeability and moisture permeability inside the roll film substrate are wound. Can be improved. By storing in a predetermined temperature / humidity atmosphere in this state, the inside of the winding can reach the moisture content in the predetermined temperature / humidity atmosphere as quickly as the outside of the winding. The moisture content of the inner side and the outer side of the winding can be made equal to such an extent that no dimensional deviation occurs between the outer side and the outer side.

本態様のロール状フィルム基材の製造方法について、図を参照しながら説明する。図1は、第1態様のロール状フィルム基材の製造方法の一例を示す概略断面図である。まず、図1(a)に示されるように、フィルム基材1上に空隙部材2を配置することで、空隙部材積層フィルム基材10を作製し、図1(b)に示されるように、空隙部材積層フィルム基材10を巻回して、ロール状フィルム基材20を準備する(ロール状フィルム基材準備工程)。次に、ロール状フィルム基材20を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管する(保管工程)。これにより、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達したロール状フィルム基材20を得る。
なお、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達したロール状フィルム基材20は、空隙部材2を積層したままでもよく、空隙部材2を取り外してもよい。具体的には、保管工程後にロール状フィルム基材20を巻き出して、空隙部材2をフィルム基材1から剥離し、再度フィルム基材1のみを巻き取ることにより、ロール状フィルム基材20としてもよい。
The manufacturing method of the roll-shaped film base material of this aspect is demonstrated referring a figure. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for producing a roll-shaped film substrate of the first embodiment. First, as shown in FIG. 1 (a), the gap member 2 is disposed on the film base 1 to produce the gap member laminated film base 10, and as shown in FIG. 1 (b), The gap member laminated film substrate 10 is wound to prepare the roll-shaped film substrate 20 (roll-shaped film substrate preparation step). Next, the roll-shaped film base material 20 is stored until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere (storage process). Thereby, the roll-shaped film base material 20 which reached the moisture content in predetermined | prescribed temperature-humidity atmosphere is obtained.
In addition, the roll-shaped film base material 20 which reached the moisture content in predetermined | prescribed temperature / humidity atmosphere may keep the gap member 2 laminated | stacked, and may remove the gap member 2. FIG. Specifically, the roll-shaped film base material 20 is unwound after the storage step, the gap member 2 is peeled off from the film base material 1, and only the film base material 1 is taken up again, whereby the roll-shaped film base material 20 is obtained. Also good.

このように、本態様のロール状フィルム基材の製造方法は、少なくともロール状フィルム基材準備工程および保管工程を有するものであり、必要に応じて他の任意の工程が用いられても良いものである。
以下、第1態様のロール状フィルム基材の製造方法について、工程ごとに説明する。
Thus, the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this aspect has a roll-shaped film base material preparation process and a storage process at least, and other arbitrary processes may be used as needed. It is.
Hereinafter, the manufacturing method of the roll-shaped film base material of a 1st aspect is demonstrated for every process.

(1)ロール状フィルム基材準備工程
まず、本態様におけるロール状フィルム基材準備工程について説明する。本態様におけるロール状フィルム基材準備工程は、フィルム基材上に空隙部材を配置した空隙部材積層フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備する工程である。
(1) Roll-shaped film base material preparation process First, the roll-shaped film base material preparation process in this aspect is demonstrated. The roll-shaped film base material preparation step in this embodiment is a step of preparing a roll-shaped film base material by winding a space member laminated film base material in which a space member is arranged on the film base material.

(a)空隙部材積層フィルム基材
本態様における空隙部材積層フィルム基材は、フィルム基材上に空隙部材を配置したものである。上記空隙部材積層フィルム基材を巻回することで、ロール状フィルム基材間に空隙を挟むことができ、この空隙によりロール状フィルム基材の巻内側の通気性および透湿性を向上させることができる。
(A) Gap member laminated film base material The gap member laminated film base material in this embodiment is obtained by arranging a gap member on a film base material. By winding the gap member laminated film substrate, a gap can be sandwiched between the roll film substrates, and the air permeability and moisture permeability inside the roll film substrate can be improved by the gaps. it can.

(i)空隙部材
本態様に用いられる空隙部材は、表面の凹凸によって空隙を有する部材である。上記空隙部材としては、可撓性を有し、通気性および透湿性が高く、かつ、離型性が高いものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、多孔質シートなどの透湿フィルムを好適に用いることができる。入手しやすく、通気性および透湿性に優れているからである。多孔質シートとしては、具体的には、ポリエチレン多孔質シート(日東電工製サンマップ)、ミクロボイド二軸延伸ポリプロピレン(ユポ・コーポレーション製ユポ)、不織布等を挙げることができる。
(I) Gap Member The gap member used in this embodiment is a member having a gap due to surface irregularities. The void member is not particularly limited as long as it has flexibility, high air permeability and moisture permeability, and high releasability. For example, moisture permeability such as a porous sheet can be used. A film can be suitably used. This is because it is easily available and has excellent breathability and moisture permeability. Specific examples of the porous sheet include polyethylene porous sheets (Sunmap manufactured by Nitto Denko), microvoided biaxially stretched polypropylene (YUPO manufactured by YUPO Corporation), and nonwoven fabrics.

中でも、本態様に用いられる空隙部材は、多孔質シートであることが好ましく、多孔質シートの表面粗さ(Ra)としては、1μm以上であることが好ましく、2μm以上であることがより好ましく、5μm以上であることがさらに好ましい。Raが上記範囲より小さいと、空隙部材が有する空隙が少なくなり、通気性および透湿性を高くすることができないからである。なお、本態様に用いられる多孔質シートのRaは、通常、10μm以下である。なお、ここでの「表面粗さ(Ra)」は、「算術平均表面粗さ」であり、JIS−B0601に準拠して測定される。   Among these, the void member used in this embodiment is preferably a porous sheet, and the surface roughness (Ra) of the porous sheet is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more, More preferably, it is 5 μm or more. This is because when Ra is smaller than the above range, the gap member has less gaps, and the air permeability and moisture permeability cannot be increased. In addition, Ra of the porous sheet used for this aspect is 10 micrometers or less normally. In addition, "surface roughness (Ra)" here is "arithmetic mean surface roughness", and is measured based on JIS-B0601.

本態様に用いられる空隙部材の厚さとしては、20μm〜200μmの範囲内であることが好ましい。空隙部材の厚さが上記範囲よりも薄すぎると、フィルムを巻回したときに空隙がつぶれ易くなり、上記範囲よりも厚すぎると、フィルムの巻回ができなくなるためである。   The thickness of the gap member used in this embodiment is preferably in the range of 20 μm to 200 μm. This is because if the thickness of the gap member is too thinner than the above range, the gap tends to be collapsed when the film is wound, and if it is too thick, the film cannot be wound.

本態様に用いられる空隙部材の幅としては、ロール状フィルム基材の幅に対して±100mmの範囲内であることが好ましく、±40mmの範囲内であることがより好ましい。空隙部材の幅が上記範囲よりも広すぎると、はみ出た部分が無駄になり、上記範囲よりも狭すぎると、ロール状フィルム基材が密着して通気性が損なわれるからである。   The width of the gap member used in this embodiment is preferably within a range of ± 100 mm, and more preferably within a range of ± 40 mm, with respect to the width of the roll-shaped film substrate. If the width of the gap member is too wider than the above range, the protruding portion is wasted, and if it is too narrow than the above range, the roll-shaped film base material is in close contact and air permeability is impaired.

本態様に用いられる空隙部材は、後述する保管工程においては、ロール状フィルム基材に挟まれたままであるが、ロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成する際には、ロール状フィルム基材から取り外されていても良く、積層された状態であっても良い。   The gap member used in this embodiment remains sandwiched between the roll-shaped film base materials in the storage step described later, but when forming a pattern on the film base material unwound from the roll-shaped film base material. May be removed from the roll-shaped film substrate or may be in a laminated state.

(ii)フィルム基材
本態様に用いられるフィルム基材は、巻回されてロール状フィルム基材となるものである。上記フィルム基材は、可撓性を有する樹脂基材であれば、特に限定されるものではなく、本態様のロール状フィルム基材の製造方法により得られるロール状フィルム基材の用途等に応じて、任意の樹脂材料からなる基材を用いることができる。
このようなフィルム基材の材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリイミド(PI)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、ポリエーテルイミド(PEI)、セルローストリアセテート(CTA)、環状ポリオレフィン(COP)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリサルフォン(PSF)、ポリアミドイミド(PAI)、ノルボルネン系樹脂、アリルエステル樹脂等の合成樹脂を挙げることができ、中でも、PEN、PETが好ましい。
(Ii) Film base material The film base material used for this aspect is wound and becomes a roll-shaped film base material. If the said film base material is a resin base material which has flexibility, it will not specifically limit, According to the use etc. of the roll-shaped film base material obtained by the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this aspect In addition, a base material made of any resin material can be used.
Examples of such a film base material include polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyimide (PI), polyetheretherketone (PEEK), polyethylene (PE), and polypropylene. (PP), polyphenylene sulfide (PPS), polyetherimide (PEI), cellulose triacetate (CTA), cyclic polyolefin (COP), polymethyl methacrylate (PMMA), polysulfone (PSF), polyamideimide (PAI), norbornene resin And synthetic resins such as allyl ester resins, among which PEN and PET are preferable.

また、本態様に用いられるフィルム基材の湿度膨張係数としては、2×10−5/%RH以下であることが好ましく、1×10−5/%RH以下であることがより好ましく、5×10−6/%RH以下であることがさらに好ましい。湿度変化による寸法変化量が少なく、取り扱いが容易となるからである。 As the humidity expansion coefficient of the film substrate used in this embodiment, is preferably 2 × 10 -5 /% RH or less, more preferably less RH 1 × 10 -5 /%, 5 × More preferably, it is 10 −6 /% RH or less. This is because the amount of dimensional change due to changes in humidity is small and handling is easy.

また、本態様に用いられるフィルム基材の線膨張係数としては、2×10−5/℃以下であることが好ましく、1×10−5/℃以下であることがより好ましく、5×10−6/℃以下であることがさらに好ましい。温度変化による寸法変化量が少なく、取り扱いが容易だからである。 As the linear expansion coefficient of the film substrate used in this embodiment, it is preferably 2 × 10 -5 / ℃ or less, more preferably at most 1 × 10 -5 / ℃, 5 × 10 - More preferably, it is 6 / ° C. or less. This is because the amount of dimensional change due to temperature change is small and handling is easy.

また、本態様に用いられるフィルム基材の厚さとしては、1μm〜1mmの範囲内であることが好ましく、10μm〜500μmの範囲内であることがより好ましく、50μm〜250μmの範囲内であることがさらに好ましい。フィルム基材の厚さが上記範囲よりも厚すぎると、フレキシブル性が損なわれ、ロール状フィルムの作製が困難になり、折れやすくなるからである。一方、上記範囲よりも薄すぎると、こしが無くなり、各工程における取り扱いが困難になるからである。   In addition, the thickness of the film substrate used in this embodiment is preferably in the range of 1 μm to 1 mm, more preferably in the range of 10 μm to 500 μm, and in the range of 50 μm to 250 μm. Is more preferable. This is because if the thickness of the film base is too thick than the above range, the flexibility is impaired, and it becomes difficult to produce a roll-shaped film and it is easy to break. On the other hand, when it is thinner than the above range, there is no strain and handling in each step becomes difficult.

また、本態様に用いられるフィルム基材の幅としては、本工程において巻回することによりロール状フィルム基材を準備することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、100mm〜1000mmの範囲内であることが好ましく、150mm〜600mmの範囲内であることがより好ましい。   Moreover, as a width | variety of the film base material used for this aspect, if a roll-shaped film base material can be prepared by winding in this process, it will not specifically limit, For example, 100 mm-1000 mm It is preferably within the range, and more preferably within the range of 150 mm to 600 mm.

なお、本態様に用いられるフィルム基材は、単一層からなる構成であっても良く、あるいは、複数の層が積層された構成を有するものであっても良い。   In addition, the structure which consists of a single layer may be sufficient as the film base material used for this aspect, or it may have the structure by which the several layer was laminated | stacked.

(b)巻回方法
本工程においては、上記空隙部材積層フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備する。空隙部材積層フィルム基材の巻回方法としては、空隙部材の空隙をつぶすことなく、低テンションで巻くことができれば、特に限定されるものではなく、一般的な公知の巻回機を用いて、空隙部材積層フィルム基材を巻回する方法等を挙げることができる。
(B) Winding method In this process, the said gap | interval member laminated | multilayer film base material is wound, and a roll-shaped film base material is prepared. As a winding method of the gap member laminated film base material, as long as it can be wound with low tension without crushing the gap of the gap member, it is not particularly limited, using a general known winding machine, The method etc. which wind a space | gap member laminated | multilayer film base material can be mentioned.

本工程における上記空隙部材積層フィルム基材の巻回数は、本態様により製造されるロール状フィルム基材の用途等に応じて、適宜選択されることが好ましい。   It is preferable that the number of windings of the gap member laminated film base material in this step is appropriately selected according to the use of the roll-shaped film base material manufactured according to this aspect.

(2)保管工程
次に、本態様における保管工程について説明する。本態様における保管工程は、上記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記ロール状フィルム基材を上記温湿度雰囲気下で保管する工程である。
(2) Storage process Next, the storage process in this aspect is demonstrated. The storage step in this embodiment is a step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature and humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere.

空隙部材が挟まれたロール状フィルム基材をこのように保管することで、巻内と巻外とで含水率の差を生じることなく、均一な含水率を有するロール状フィルム基材を得ることができ、ロール状フィルム基材の寸法を安定させることができる。   By storing the roll-shaped film base material in which the gap member is sandwiched in this manner, a roll-shaped film base material having a uniform water content is obtained without causing a difference in water content between the inside and outside of the winding. And the dimensions of the roll film substrate can be stabilized.

本工程において、ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達していることは、ロール状フィルム基材の含水率が測定可能であれば、例えば、マイクロ波オンライン水分計(マルカム製)、電気抵抗式水分計((株)山崎精機研究所製)等を用いて、含水率測定を行うことにより判断することができる。   In this step, the moisture content of the roll-shaped film substrate has reached the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. If the moisture content of the roll-shaped film substrate can be measured, for example, microwave online It can be determined by measuring the moisture content using a moisture meter (manufactured by Marukam), an electric resistance type moisture meter (manufactured by Yamazaki Seiki Laboratory Co., Ltd.) or the like.

本態様においては、本工程の温湿度雰囲気を、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達したロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成する際の温湿度雰囲気と等しくする必要がある。保管工程とパターン形成時との温度差および湿度差によるロール状フィルム基材の寸法伸縮が生じず、所定の温湿度雰囲気下における含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材の寸法を基準としてパターン形成を行うことにより、高い寸法精度でパターンを形成することができるからである。   In this embodiment, the temperature and humidity atmosphere of this step is a temperature and humidity atmosphere when forming a pattern on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate that has reached a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. It needs to be equal. Film base material unwound from a roll-like film base material having a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere without causing dimensional expansion / contraction of the roll-like film base material due to temperature difference and humidity difference between storage process and pattern formation This is because the pattern can be formed with high dimensional accuracy by forming the pattern with reference to the dimension.

本工程における温度としては、所望の温度下のロール状フィルム基材の寸法を計算により求めることができる範囲内であれば、特に限定されるものではないが、例えば、20℃〜30℃の範囲内であることが好ましく、後工程(例えば、対向基板とのアライメント貼合工程など)と等しい温度であることがより好ましい。パターン形成時と後工程との温度差によるロール状フィルム基材の寸法伸縮量を考慮してパターン形成する必要が省かれるからである。
また、本工程における湿度としては、所望の温湿度下のロール状フィルム基材の寸法を計算により求めることができる範囲内であれば、特に限定されるものではないが、例えば、30%RH〜60%RHの範囲内であることが好ましく、後工程(例えば、対向基板とのアライメント貼合工程など)と等しい湿度であることがより好ましい。パターン形成時と後工程との湿度差によるロール状フィルム基材の寸法伸縮量を考慮してパターン形成する必要が省かれるからである。
Although it will not specifically limit if it is in the range which can obtain | require the dimension of the roll-shaped film base under desired temperature by calculation as a temperature in this process, For example, the range of 20 degreeC-30 degreeC It is preferable that the temperature is equal to that in the subsequent step (for example, an alignment bonding step with the counter substrate). This is because it is not necessary to form the pattern in consideration of the amount of dimensional expansion and contraction of the roll-shaped film substrate due to the temperature difference between the pattern formation and the subsequent process.
Moreover, as humidity in this process, if it is in the range which can obtain | require the dimension of the roll-shaped film base material under desired temperature and humidity by calculation, it will not specifically limit, For example, 30% RH- It is preferable to be within the range of 60% RH, and it is more preferable that the humidity be equal to that in the subsequent process (for example, alignment bonding process with the counter substrate). This is because it is not necessary to form a pattern in consideration of the amount of dimensional expansion / contraction of the roll-shaped film substrate due to the humidity difference between the pattern formation and the subsequent process.

また、本態様においては、ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達することができれば、本工程の温湿度雰囲気を常に一定にしても良く、本工程を行う毎に本工程の温湿度雰囲気を変化させても良いが、パターン形成装置の観点から、常に一定にすることが好ましい。本工程の温湿度雰囲気を常に一定にし、ロール状フィルム基材の所定の温湿度雰囲気下における含水率を一定に保つことで、ロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材の寸法を一定にすることができ、パターン形成時のマスクの種類を少なくすることができるからである。   Moreover, in this aspect, if the moisture content of the roll-shaped film substrate can reach the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, the temperature and humidity atmosphere in this step may be always constant, and this step is performed. Although the temperature and humidity atmosphere in this step may be changed every time, it is preferable that the temperature and humidity atmosphere is always constant from the viewpoint of the pattern forming apparatus. The temperature and humidity atmosphere of this process is always constant, and the film substrate size unrolled from the roll film substrate is maintained by keeping the moisture content of the roll film substrate in a predetermined temperature and humidity atmosphere constant. This is because the number of types of masks during pattern formation can be reduced.

本工程における保管場所としては、密閉された空間であり、密閉空間内の温湿度雰囲気を管理することができれば、特に限定されるものではないが、例えば、温湿度制御が可能なクリーンルーム、デシケーターおよびチャンバー等の保管庫等を挙げることができる。また、上記保管場所内は、ロール状フィルム基材を劣化させない気体雰囲気であることが好ましい。   The storage location in this step is a sealed space, and is not particularly limited as long as the temperature and humidity atmosphere in the sealed space can be managed. For example, a clean room, a desiccator and Examples include storage such as a chamber. Moreover, it is preferable that the inside of the said storage place is a gas atmosphere which does not degrade a roll-shaped film base material.

また、本工程における保管時間としては、ロール状フィルム基材の含水率を所定の温湿度雰囲気下における含水率に到達させることができれば、特に限定されるものではなく、ロール状フィルム基材の種類、温湿度雰囲気および保管場所等によって、適宜選択されるものである。   In addition, the storage time in this step is not particularly limited as long as the moisture content of the roll-shaped film substrate can reach the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. It is appropriately selected depending on the temperature and humidity atmosphere and the storage location.

2.第2態様
次に、本発明のロール状フィルム基材の製造方法の第2態様について説明する。第2態様のロール状フィルム基材の製造方法は、フィルム基材上に空隙層を形成した空隙層含有フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備するロール状フィルム基材準備工程と、上記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記ロール状フィルム基材を上記温湿度雰囲気下で保管する保管工程とを有することを特徴とする製造方法である。
2. 2nd aspect Next, the 2nd aspect of the manufacturing method of the roll-shaped film base material of this invention is demonstrated. The manufacturing method of the roll-shaped film base material of a 2nd aspect winds the space | gap layer containing film base material which formed the space | gap layer on the film base material, and the roll-shaped film base material preparation process which prepares a roll-shaped film base material, And a storage step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature and humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. It is a manufacturing method.

本態様によれば、空隙層が挟まれたロール状フィルム基材を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管することで、巻内および巻外で含水率の差を生じることなく均一な含水率を有するロール状フィルム基材を得ることができる。
上述したように、通常、常温常湿下のロール状フィルム基材においては、巻外側に比べて、巻内(巻芯)側が吸脱水しにくいため、巻内側および巻外側の間で含水率に差が生じてしまう。これに対して、本態様のように、フィルム基材上に空隙層を形成したものを巻回してロール状フィルム基材とすることで、ロール状フィルム基材の巻内側の通気性および透湿性を向上させることができる。これにより、巻内側も巻外側のように素早く所定の温湿度雰囲気下における含水率に到達させることができ、ロール状フィルム基材の巻内側と巻外側とで寸法ずれが生じない程度に巻内側および巻外側の含水率を等しくすることができる。
According to this aspect, by storing the roll-shaped film substrate sandwiched with the void layer until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, the difference in moisture content in and outside the winding A roll-shaped film base material having a uniform water content can be obtained without causing the above.
As described above, normally, in a roll-shaped film substrate under normal temperature and humidity, since the inner side of the winding (core) is less likely to absorb and dehydrate than the outer side of the winding, the moisture content is increased between the inner side and the outer side of the winding. There will be a difference. On the other hand, as in this embodiment, by winding a film substrate with a void layer formed into a roll-shaped film substrate, the air permeability and moisture permeability inside the roll-shaped film substrate are wound. Can be improved. As a result, the inside of the winding can be made to reach the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere as quickly as the outside of the winding, and the inside of the winding can be made to the extent that no dimensional deviation occurs between the inside and the outside of the roll-shaped film substrate. And the moisture content of the winding outside can be made equal.

本態様のロール状フィルム基材の製造方法について、図を参照しながら説明する。図2は、第2態様のロール状フィルム基材の製造方法の一例を示す概略断面図である。まず、図2(a)に示されるように、フィルム基材1上に空隙層3を形成することで、空隙層含有フィルム基材11を作製し、図2(b)に示されるように、空隙層含有フィルム基材11を巻回して、ロール状フィルム基材20を準備する(ロール状フィルム基材準備工程)。次に、ロール状フィルム基材20を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管する(保管工程)。これにより、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達したロール状フィルム基材20を得る。   The manufacturing method of the roll-shaped film base material of this aspect is demonstrated referring a figure. FIG. 2: is a schematic sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the roll-shaped film base material of a 2nd aspect. First, as shown in FIG. 2 (a), by forming the void layer 3 on the film substrate 1, the void layer-containing film substrate 11 is prepared, and as shown in FIG. 2 (b), The gap layer-containing film substrate 11 is wound to prepare the roll-shaped film substrate 20 (roll-shaped film substrate preparation step). Next, the roll-shaped film base material 20 is stored until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere (storage process). Thereby, the roll-shaped film base material 20 which reached the moisture content in predetermined | prescribed temperature-humidity atmosphere is obtained.

本態様のロール状フィルム基材の製造方法は、少なくともロール状フィルム基材準備工程および保管工程を有するものであり、必要に応じて他の任意の工程が用いられても良いものである。
以下、第2態様のロール状フィルム基材の製造方法について、工程ごとに説明する。
The manufacturing method of the roll-shaped film base material of this aspect has a roll-shaped film base material preparation process and a storage process at least, and another arbitrary process may be used as needed.
Hereinafter, the manufacturing method of the roll-shaped film base material of a 2nd aspect is demonstrated for every process.

(1)ロール状フィルム基材準備工程
まず、本態様におけるロール状フィルム基材準備工程について説明する。本態様におけるロール状フィルム基材準備工程は、フィルム基材上に空隙層を形成した空隙層含有フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備する工程である。
(1) Roll-shaped film base material preparation process First, the roll-shaped film base material preparation process in this aspect is demonstrated. The roll-shaped film base material preparation step in this aspect is a step of winding a gap layer-containing film base material in which a gap layer is formed on the film base material to prepare a roll-shaped film base material.

(a)空隙層含有フィルム基材
本態様における空隙層含有フィルム基材は、フィルム基材上に空隙層を形成したものである。上記空隙層含有フィルム基材を巻回することで、ロール状フィルム基材間に空隙を挟むことができ、この空隙によりロール状フィルム基材の巻内側の通気性および透湿性を向上させることができる。
(A) Void layer-containing film substrate The void layer-containing film substrate in the present embodiment is one in which a void layer is formed on a film substrate. By winding the gap layer-containing film base material, gaps can be sandwiched between the roll-shaped film base materials, and the air permeability and moisture permeability inside the roll-shaped film base material can be improved by the gaps. it can.

(i)空隙層
本態様における空隙層は、フィルム基材上に形成され、空隙を有する層である。本態様における空隙層としては、ロール状フィルム基材の通気性および透湿性を高めるものであれば、特に限定されるものではない。
このような空隙層の材料としては、フィルム基材を劣化させるものでなければ、特に限定されるものではなく、例えば、スチレンやアクリルやシリカの粒子を混ぜ込んだアクリル樹脂やポリウレタン樹脂等を挙げることができる。
(I) Void layer The void layer in this embodiment is a layer formed on a film substrate and having voids. The void layer in this embodiment is not particularly limited as long as it improves the air permeability and moisture permeability of the roll-shaped film substrate.
The material for such a void layer is not particularly limited as long as it does not deteriorate the film substrate, and examples thereof include acrylic resins and polyurethane resins mixed with styrene, acrylic and silica particles. be able to.

また、上記空隙層の形成方法としては、例えば、空隙層の材料をフィルム基材上に塗布する方法、接着剤等により貼り合わせる方法等を挙げることができる。   Moreover, as a formation method of the said void layer, the method of apply | coating the material of a void layer on a film base material, the method of bonding together with an adhesive agent etc. can be mentioned, for example.

本態様において形成される空隙層の厚さとしては、5μm〜10mmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the void layer formed in this embodiment is preferably in the range of 5 μm to 10 mm.

本態様においては、上記空隙層が、表面に凹凸構造を有する機能層であることが好ましい。空隙層が表面に凹凸構造を有することで、巻回したときにロール状フィルム基材間に多くの空隙を挟むことができ、また空隙層が機能層であることにより、目的とするパターン形成体の基材として用いることにより、パターン形成体に容易に機能を付加することができるからである。   In this embodiment, the void layer is preferably a functional layer having a concavo-convex structure on the surface. Since the void layer has a concavo-convex structure on the surface, many voids can be sandwiched between the roll-shaped film substrates when wound, and the intended pattern forming body can be obtained when the void layer is a functional layer. It is because a function can be easily added to a pattern formation body by using as a base material.

さらに、本態様においては、上記機能層が、アンチグレア(AG)機能を有する層であることが好ましい。AG機能を有する層を含有するロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上にパターンが形成されたパターン形成体を画像表示素子に用いることで、ギラツキの発生およびコントラストの低下を抑制することができるからである。また、上記AG機能を有する層の表面粗さ(Ra)としては、50nm〜500nmの範囲内であることが好ましく、100nm〜200nmの範囲内であることがより好ましい。Raが上記範囲より小さいと、良好なAG機能を発揮する機能層とすることができず、また、十分な空隙層が少なくなり保管工程に時間がかかるからである。一方、Raが上記範囲より大きいと、解像度やコントラストが低下するからである。なお、ここでの「表面粗さ(Ra)」は、「算術平均表面粗さ」であり、JIS−B0601に準拠して測定される。   Furthermore, in this embodiment, the functional layer is preferably a layer having an antiglare (AG) function. Suppresses the occurrence of glare and the reduction of contrast by using a pattern forming body with a pattern formed on a film substrate that is unwound from a roll-shaped film substrate containing a layer having an AG function. Because it can be done. Further, the surface roughness (Ra) of the layer having the AG function is preferably in the range of 50 nm to 500 nm, and more preferably in the range of 100 nm to 200 nm. If Ra is smaller than the above range, a functional layer exhibiting a good AG function cannot be obtained, and a sufficient gap layer is reduced and the storage process takes time. On the other hand, if Ra is larger than the above range, the resolution and contrast decrease. In addition, "surface roughness (Ra)" here is "arithmetic mean surface roughness", and is measured based on JIS-B0601.

(ii)フィルム基材
本態様におけるフィルム基材については、上述した第1態様と同様であるので、ここでの説明は省略する。
(Ii) Film base material The film base material in this aspect is the same as that in the first aspect described above, and a description thereof will be omitted here.

(b)巻回方法
本工程においては、上記空隙層含有フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備する。空隙層含有フィルム基材の巻回方法としては、空隙層の空隙をつぶすことなく、低テンションで巻くことができれば、特に限定されるものではなく、一般的な公知の巻回機を用いて、空隙層含有フィルム基材を巻回する方法等を挙げることができる。
(B) Winding method In this process, the said gap | interval layer containing film base material is wound, and a roll-shaped film base material is prepared. As a method for winding the gap layer-containing film base material, as long as it can be wound with low tension without crushing the gap of the gap layer, it is not particularly limited, using a general known winding machine, The method etc. which wind a space | gap layer containing film base material can be mentioned.

本工程における上記空隙層含有フィルム基材の巻回数は、本工程により準備されるロール状フィルム基材の用途等に応じて、適宜選択されることが好ましい。   The number of windings of the void layer-containing film base material in this step is preferably selected as appropriate according to the use of the roll-shaped film base material prepared in this step.

(2)保管工程
次に、本態様における保管工程について説明する。本態様における保管工程は、上記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、上記ロール状フィルム基材を上記温湿度雰囲気下で保管する工程である。本態様における保管工程の詳細については、上述した第1態様と同様であるので、ここでの説明は省略する。
(2) Storage process Next, the storage process in this aspect is demonstrated. The storage step in this embodiment is a step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature and humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. The details of the storage process in this aspect are the same as those in the first aspect described above, and a description thereof is omitted here.

3.ロール状フィルム基材
本発明のロール状フィルム基材の製造方法により得られるロール状フィルム基材の用途については、後述する「C.ロール状フィルム基材」の項に記載するので、ここでの説明は省略する。
3. The roll-shaped film base material The use of the roll-shaped film base material obtained by the method for producing a roll-shaped film base material of the present invention will be described later in the section “C. Roll-shaped film base material”. Description is omitted.

B.パターン形成体の製造方法
次に、本発明のパターン形成体の製造方法について説明する。本発明のパターン形成体の製造方法は、2つの態様に大別することができる。以下、本発明のパターン形成体の製造方法について、第1態様および第2態様に分けて説明する。
B. Next, the manufacturing method of the pattern formation body of this invention is demonstrated. The manufacturing method of the pattern formation body of this invention can be divided roughly into two aspects. Hereinafter, the manufacturing method of the pattern formation body of this invention is divided and demonstrated to a 1st aspect and a 2nd aspect.

1.第1態様
まず、本発明のパターン形成体の製造方法の第1態様について説明する。第1態様のパターン形成体の製造方法は、上記「A.ロール状フィルム基材の製造方法」の「1.第1態様」の項に記載したロール状フィルム基材の製造方法により得られたロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上に、パターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とする製造方法である。
1. First Aspect First, a first aspect of the method for producing a pattern forming body of the present invention will be described. The manufacturing method of the pattern formation body of the 1st aspect was obtained by the manufacturing method of the roll-shaped film base material described in the term of "1. 1st aspect" of the above-mentioned "A. Manufacturing method of a roll-shaped film base material". It is a manufacturing method characterized by having the pattern formation process which forms a pattern on the film base material unwound from a roll-shaped film base material.

本態様によれば、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に、パターンを形成することにより、巻内と巻外とで寸法ずれのない高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができる。   According to this aspect, by forming a pattern on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate having a uniform water content regardless of whether it is in-winding or unwinding, It is possible to obtain a pattern forming body on which a high-definition pattern having no dimensional deviation is formed.

本態様のパターン形成体の製造方法について、図を参照しながら説明する。図3は、第1態様のパターン形成体の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図3(a)に示されるように、フィルム基材1上に空隙部材2を配置することで、空隙部材積層フィルム基材10を作製し、図3(b)に示されるように、空隙部材積層フィルム基材10を巻回して、ロール状フィルム基材20を準備する。次に、ロール状フィルム基材20を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管する。続いて、図3(c)に示されるように、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達したロール状フィルム基材20から巻き出されたフィルム基材1上にパターン21を形成し(パターン形成工程)、パターン形成体30を得る。   The manufacturing method of the pattern formation body of this aspect is demonstrated, referring a figure. FIG. 3 is a process diagram showing an example of a method for producing the pattern-formed body of the first aspect. First, as shown in FIG. 3 (a), the gap member 2 is arranged on the film base 1 to produce the gap member laminated film base 10, and as shown in FIG. 3 (b), The gap member laminated film base material 10 is wound to prepare a roll-shaped film base material 20. Next, the roll-shaped film base material 20 is stored until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. Subsequently, as shown in FIG. 3C, a pattern 21 is formed on the film substrate 1 unwound from the roll-shaped film substrate 20 that has reached the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere (pattern Forming step), the pattern forming body 30 is obtained.

このように、本態様のパターン形成体の製造方法は、少なくともパターン形成工程を有するものであり、必要に応じて他の任意の工程が用いられても良いものである。
以下、第1態様のパターン形成体の製造方法について、工程ごとに説明する。
Thus, the manufacturing method of the pattern formation body of this aspect has a pattern formation process at least, and another arbitrary process may be used as needed.
Hereinafter, the manufacturing method of the pattern formation body of a 1st aspect is demonstrated for every process.

(1)パターン形成工程
まず、本態様におけるパターン形成工程について説明する。本態様におけるパターン形成工程は、上述したロール状フィルム基材の製造方法により得られたロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上に、パターンを形成する工程である。なお、本工程に用いられるロール状フィルム基材は、空隙部材を有していてもよく、有していなくてもよい。
(1) Pattern formation process First, the pattern formation process in this aspect is demonstrated. The pattern formation process in this aspect is a process which forms a pattern on the film base material unwound from the roll-shaped film base material obtained by the manufacturing method of the roll-shaped film base material mentioned above. In addition, the roll-shaped film base material used for this process may have a space | gap member, and does not need to have it.

本工程において形成されるパターンは、所望の機能性部として形成されるものであり、後述するパターン形成体の用途等に応じて、適宜選択されるものである。機能性部の具体例としては、カラーフィルタにおける着色パターン、回路基板における導電/絶縁パターン等を挙げることができる。   The pattern formed in this step is formed as a desired functional part, and is appropriately selected according to the use of the pattern forming body described later. Specific examples of the functional part include a coloring pattern in a color filter and a conductive / insulating pattern in a circuit board.

また、本工程における具体的なパターン形成方法としては、所望のパターンが精度高く形成されたパターン形成体を得ることができれば、特に限定されるものではなく、例えば、フォトリソグラフィー法およびインクジェット法等、一般的に公知の方法を用いることができるため、ここでの説明は省略する。   In addition, the specific pattern forming method in this step is not particularly limited as long as a pattern forming body in which a desired pattern is formed with high accuracy can be obtained. For example, a photolithography method, an inkjet method, etc. Since generally known methods can be used, description thereof is omitted here.

(2)剥離工程
本態様においては、本態様のパターン形成体の製造方法に用いられるロール状フィルム基材が空隙部材を有している場合、上記パターン形成工程前または上記パターン形成工程後に、フィルム基材から空隙部材を剥離する剥離工程を有していてもよい。空隙部材によりパターン形成体の機能が妨げられる場合、フィルム基材から空隙部材を剥離する必要がある。また、空隙部材によりパターン形成体の機能が妨げられない場合においても、フィルム基材から空隙部材を剥離することで、パターン形成体の薄膜化を図ることができる。空隙部材の剥離方法としては、フィルム基材を傷つけることなく空隙部材を剥離することができる方法であれば、特に限定されるものではなく、空隙部材は破壊されてもよく、破壊されなくてもよい。
(2) Peeling process In this aspect, when the roll-shaped film base material used for the manufacturing method of the pattern formation body of this aspect has a space | gap member, it is a film before the said pattern formation process or after the said pattern formation process. You may have the peeling process which peels a space | gap member from a base material. When the function of the pattern forming body is hindered by the gap member, it is necessary to peel the gap member from the film base material. Even when the function of the pattern forming body is not hindered by the gap member, the pattern forming body can be made thinner by peeling the gap member from the film substrate. The method for peeling the gap member is not particularly limited as long as the gap member can be peeled without damaging the film substrate, and the gap member may be destroyed or not destroyed. Good.

(3)その他の工程
本態様のパターン形成体の製造方法は、必須の工程である上記パターン形成工程の後に、パターンが形成されたロール状フィルム基材を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管する保管工程を有することができる。パターンを多層重ねる工程ごとに、上記保管工程をパターンが形成されたロール状フィルム基材に施すことで、巻内および巻外に関係なく寸法の再現性が高く、重ね合わせ精度の高い積層パターン形成体を得ることができる。なお、上記保管工程の詳細については、上記「A.ロール状フィルム基材の製造方法」の項に記載した保管工程と同様であるので、ここでの説明は省略する。
(3) Other process The manufacturing method of the pattern formation body of this aspect is the temperature-humidity atmosphere where the moisture content is a predetermined | prescribed water content of the roll-shaped film base material in which the pattern was formed after the said pattern formation process which is an essential process. It can have a storage step of storing until the moisture content below is reached. By applying the above storage process to the roll-shaped film substrate on which the pattern is formed, for each process of stacking the patterns in multiple layers, it is possible to form a layered pattern with high dimensional reproducibility and high overlay accuracy regardless of whether it is inside or outside the winding. You can get a body. The details of the storage step are the same as the storage step described in the above section “A. Method for producing roll-shaped film substrate”, and thus the description thereof is omitted here.

本態様においては、図4(a)に示されるように、パターン形成工程を一度だけ行っても良く、図4(b)および図4(c)に示されるように、パターン形成工程および保管工程を繰り返し行っても良い。パターンを重ね合わせるごとに、パターン形成工程後にパターン形成体を巻き取り、この巻き取られたパターン形成体に対して保管工程を行うことで、巻内および巻外に関係なくロール状フィルム基材の寸法を制御することができ、パターン形成工程を経ることにより、重ね合わせ精度の高いパターン形成体を得ることができる。   In this embodiment, as shown in FIG. 4 (a), the pattern forming process may be performed only once, and as shown in FIGS. 4 (b) and 4 (c), the pattern forming process and the storing process are performed. May be repeated. Every time the pattern is overlapped, the pattern forming body is wound up after the pattern forming process, and a storage process is performed on the wound pattern forming body, so that the roll-shaped film base material can be used regardless of the inside or outside of the winding. The dimensions can be controlled, and a pattern forming body with high overlay accuracy can be obtained through the pattern forming step.

(4)パターン形成体
本態様のパターン形成体の製造方法により得られるパターン形成体は、空隙部材が挟まれたロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンが形成されてなるものである。本態様によれば、巻内および巻外での寸法ずれのないロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に、高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができる。また、パターンを多層重ねる工程ごとに、上記保管工程をロール状フィルム基材に施すことで、巻内および巻外に関係なく寸法の再現性が高く、重ね合わせ精度の高い積層パターン形成体を得ることができる。
(4) Pattern formation body The pattern formation body obtained by the manufacturing method of the pattern formation body of this aspect forms a pattern on the film base material unwound from the roll-shaped film base material in which the space | gap member was pinched | interposed. Is. According to this aspect, it is possible to obtain a pattern forming body in which a high-definition pattern is formed on a film substrate that has been unwound from a roll-shaped film substrate that has no dimensional deviation in and outside the winding. In addition, by applying the storage step to the roll-shaped film substrate for each step of stacking patterns in multiple layers, a layered pattern formed body having high reproducibility of dimensions regardless of the inside and outside of the winding and high overlay accuracy is obtained. be able to.

本態様のパターン形成体の製造方法により得られるパターン形成体の用途としては、例えば、カラーフィルタ、TFTアレイ、プリント基板等を挙げることができる。
上記パターン形成体の構成としては、少なくとも、ロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材と、上記フィルム基材上に形成された所望のパターンとを有するものであれば、特に限定されるものではなく、目的とする画像表示素子の種類等に応じて、任意の構成とすることができる。
Examples of the use of the pattern formed body obtained by the method for producing a pattern formed body of this embodiment include a color filter, a TFT array, and a printed board.
As a structure of the said pattern formation body, if it has at least the film base material unwound from a roll-shaped film base material and the desired pattern formed on the said film base material, it will be specifically limited. However, it can be of any configuration depending on the type of the target image display element.

2.第2態様
次に、本発明のパターン形成体の製造方法の第2態様について説明する。第2態様のパターン形成体の製造方法は、上記「A.ロール状フィルム基材の製造方法」の「2.第2態様」の項に記載のロール状フィルム基材の製造方法により得られたロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上に、パターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とする製造方法である。
2. Second Aspect Next, a second aspect of the method for producing a pattern forming body of the present invention will be described. The manufacturing method of the pattern formation body of the 2nd aspect was obtained by the manufacturing method of the roll-shaped film base material of the term "2. 2nd aspect" of the above-mentioned "A. Manufacturing method of a roll-shaped film base material". It is a manufacturing method characterized by having the pattern formation process which forms a pattern on the film base material unwound from a roll-shaped film base material.

本態様によれば、巻内および巻外に関係なく均一な含水率を有するロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に、パターンを形成することにより、巻内と巻外とで寸法ずれのない高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができる。   According to this aspect, by forming a pattern on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate having a uniform water content regardless of whether it is in-winding or unwinding, It is possible to obtain a pattern forming body on which a high-definition pattern having no dimensional deviation is formed.

本態様のパターン形成体の製造方法について、図を参照しながら説明する。図5は、第2態様のパターン形成体の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図5(a)に示されるように、フィルム基材1上に空隙層3を形成することで、空隙層含有フィルム基材11を作製し、図5(b)に示されるように、空隙層含有フィルム基材11を巻回して、ロール状フィルム基材20を準備する。次に、ロール状フィルム基材20を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管する。続いて、図5(c)に示されるように、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達したロール状フィルム基材20から巻き出されたフィルム基材1上にパターン21を形成し(パターン形成工程)、パターン形成体30を得る。   The manufacturing method of the pattern formation body of this aspect is demonstrated, referring a figure. FIG. 5 is a process diagram showing an example of a method for producing the pattern forming body of the second aspect. First, as shown in FIG. 5 (a), a void layer-containing film substrate 11 is produced by forming the void layer 3 on the film substrate 1, and as shown in FIG. 5 (b), The gap layer-containing film substrate 11 is wound to prepare a roll-shaped film substrate 20. Next, the roll-shaped film base material 20 is stored until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. Subsequently, as shown in FIG. 5C, a pattern 21 is formed on the film substrate 1 unwound from the roll-shaped film substrate 20 that has reached the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere (pattern Forming step), the pattern forming body 30 is obtained.

このように、本態様のパターン形成体の製造方法は、少なくともパターン形成工程を有するものであり、必要に応じて他の任意の工程が用いられても良いものである。
なお、本態様においては、フィルム基材上に空隙層を形成した空隙層含有フィルム基材が巻回されてなるロール状フィルム基材を用いているため、上述した第1態様とは異なり、剥離工程を有しない。また、パターン形成工程およびその他の工程については、上述した第1態様と同様であるので、ここでの記載は省略する。以下、第2態様のパターン形成体の製造方法により得られるパターン形成体について説明する。
Thus, the manufacturing method of the pattern formation body of this aspect has a pattern formation process at least, and another arbitrary process may be used as needed.
In addition, in this aspect, since the roll-shaped film base material by which the space | gap layer containing film base material which formed the space | gap layer on the film base material is wound is used, it peels unlike the 1st aspect mentioned above. It has no process. Moreover, since the pattern formation process and other processes are the same as those in the first aspect described above, description thereof is omitted here. Hereinafter, the pattern forming body obtained by the manufacturing method of the pattern forming body of the second aspect will be described.

(1)パターン形成体
本態様のパターン形成体の製造方法により得られるパターン形成体は、空隙層が挟まれたロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンが形成されてなるものである。本態様によれば、第1態様と同様に、巻内および巻外での寸法ずれがないロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上に、高精細なパターンが形成されたパターン形成体を得ることができる。中でも、本態様においては、空隙層を機能層とすることで、所望の機能を有するパターン形成体を得ることができる。また、パターンを多層重ねる工程ごとに、上記保管工程をロール状フィルム基材に施すことで、巻内および巻外に関係なく寸法の再現性が高く、重ね合わせ精度の高い積層パターン形成体を得ることができる。
(1) Pattern formation body The pattern formation body obtained by the manufacturing method of the pattern formation body of this aspect forms a pattern on the film base material unwound from the roll-shaped film base material in which the space | gap layer was pinched | interposed. Is. According to this aspect, similarly to the first aspect, pattern formation in which a high-definition pattern is formed on a film base material that is unwound from a roll-shaped film base material that has no dimensional deviation inside and outside the winding. You can get a body. Especially, in this aspect, the pattern formation body which has a desired function can be obtained by making a void layer into a functional layer. In addition, by applying the storage step to the roll-shaped film substrate for each step of stacking patterns in multiple layers, a layered pattern formed body having high reproducibility of dimensions regardless of the inside and outside of the winding and high overlay accuracy is obtained. be able to.

本態様のパターン形成体の製造方法により得られるパターン形成体の用途および構成については、上述した第1態様と同様であるので、ここでの説明は省略する。   The use and configuration of the pattern forming body obtained by the method for manufacturing the pattern forming body of the present aspect are the same as those in the first aspect described above, and thus the description thereof is omitted here.

C.ロール状フィルム基材
次に、本発明のロール状フィルム基材について説明する。本発明のロール状フィルム基材は、2つの態様に大別することができる。以下、本発明のロール状フィルム基材について、第1態様および第2態様に分けて説明する。
C. Next, the roll-shaped film substrate of the present invention will be described. The roll-shaped film substrate of the present invention can be roughly divided into two embodiments. Hereinafter, the roll-shaped film base material of the present invention will be described by being divided into a first aspect and a second aspect.

1.第1態様
まず、本発明のロール状フィルム基材の第1態様について説明する。第1態様のロール状フィルム基材は、フィルム基材上に空隙部材を配置した空隙部材積層フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするものである。
1. 1st aspect First, the 1st aspect of the roll-shaped film base material of this invention is demonstrated. The roll-shaped film substrate of the first aspect is characterized in that a gap member laminated film base material in which a gap member is disposed on the film base is wound.

本態様によれば、フィルム基材上に空隙部材を配置したものが巻回されてなるロール状フィルム基材であるため、巻内側の通気性および透湿性を向上させることができ、このロール状フィルム基材の含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管するだけで、巻内と巻外とで含水率の差を生じないロール状フィルム基材とすることができる。さらに、このようなロール状フィルム基材が巻き出されてなるフィルム基材上に機能性部のパターンを形成することで、寸法ずれがなく高精細なパターン形成体を得ることができる。   According to this aspect, since the roll-shaped film base material in which the gap member is arranged on the film base material is wound, the air permeability and moisture permeability on the inner side of the winding can be improved. Only by storing until the moisture content of the film substrate reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, a roll-shaped film substrate that does not cause a difference in moisture content between the inside and outside of the winding can be obtained. Furthermore, by forming the pattern of the functional part on the film base material on which such a roll-shaped film base material is unwound, a high-definition pattern forming body without dimensional deviation can be obtained.

第1態様のロール状フィルム基材について、図を参照しながら説明する。本態様のロール状フィルム基材の一例として、図1(b)に示されるロール状フィルム基材を挙げることができる。図1(b)において、ロール状フィルム基材20は、フィルム基材1上に空隙部材2を配置した空隙部材積層フィルム基材10が巻回されてなるものである。
なお、本態様のロール状フィルム基材の構成については、上記「A.ロール状フィルム基材の製造方法」の「1.第1態様」の項に記載された内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
The roll-shaped film base material of the 1st aspect is demonstrated referring a figure. As an example of the roll-shaped film base material of this aspect, the roll-shaped film base material shown by FIG.1 (b) can be mentioned. In FIG.1 (b), the roll-shaped film base material 20 is the thing formed by winding the space | gap member laminated | stacked film base material 10 which has arrange | positioned the space | gap member 2 on the film base material 1. FIG.
In addition, about the structure of the roll-shaped film base material of this aspect, since it is the same as that of the content described in the item of "1. 1st aspect" of the above-mentioned "A. Manufacturing method of a roll-shaped film base material", here The description in is omitted.

本態様のロール状フィルム基材の用途としては、例えば、カラーフィルタ形成用基板、配線パターン形成用基板等に用いることができる。   As a use of the roll-shaped film base material of this aspect, it can be used for a substrate for color filter formation, a substrate for wiring pattern formation, and the like.

2.第2態様
次に、本発明のロール状フィルム基材の第2態様について説明する。第2態様のロール状フィルム基材は、フィルム基材上に空隙層を形成した空隙層含有フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするものである。
2. 2nd aspect Next, the 2nd aspect of the roll-shaped film base material of this invention is demonstrated. The roll-shaped film substrate of the second aspect is characterized in that a void layer-containing film substrate in which a void layer is formed on the film substrate is wound.

本態様によれば、フィルム基材上に空隙層を形成したものが巻回されてなるロール状フィルム基材であるため、巻内側の通気性および透湿性を向上させることができ、このロール状フィルム基材の含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管するだけで、巻内と巻外とで含水率の差を生じないロール状フィルム基材とすることができる。さらに、このようなロール状フィルム基材が巻き出されてなるフィルム基材上に機能性部のパターンを形成することで、寸法ずれがなく高精細なパターン形成体を得ることができる。   According to this aspect, since a roll-shaped film substrate formed by winding a gap layer on a film substrate, the air permeability and moisture permeability on the inner side of the winding can be improved. Only by storing until the moisture content of the film substrate reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, a roll-shaped film substrate that does not cause a difference in moisture content between the inside and outside of the winding can be obtained. Furthermore, by forming the pattern of the functional part on the film base material on which such a roll-shaped film base material is unwound, a high-definition pattern forming body without dimensional deviation can be obtained.

第2態様のロール状フィルム基材について、図を参照しながら説明する。本態様のロール状フィルム基材の一例として、図2(b)に示されるロール状フィルム基材を挙げることができる。図2(b)において、ロール状フィルム基材20は、フィルム基材1上に空隙層3を形成した空隙層含有フィルム基材11が巻回されてなるものである。
なお、本態様のロール状フィルム基材の構成については、上記「A.ロール状フィルム基材の製造方法」の「2.第2態様」の項に記載された内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
The roll-shaped film base material of the 2nd aspect is demonstrated referring a figure. As an example of the roll-shaped film base material of this aspect, the roll-shaped film base material shown by FIG.2 (b) can be mentioned. In FIG. 2 (b), the roll-shaped film substrate 20 is obtained by winding a void layer-containing film substrate 11 in which a void layer 3 is formed on the film substrate 1.
In addition, about the structure of the roll-shaped film base material of this aspect, since it is the same as the content described in the term of "2. 2nd aspect" of the above-mentioned "A. Manufacturing method of roll-shaped film base material", here The description in is omitted.

本態様のロール状フィルム基材の用途としては、上述した第1態様と同様であるが、本態様においては、空隙層を機能層とすることにより、巻き出してフィルム基材とした際に機能を有するロール状フィルム基材とすることができ、例えば、AG機能付きカラーフィルタ形成用基板等として用いることが可能である。   The use of the roll-shaped film substrate of this embodiment is the same as that of the first embodiment described above. However, in this embodiment, when the gap layer is used as a functional layer, it functions when unrolled to form a film substrate. For example, it can be used as a substrate for forming a color filter with an AG function.

D.機能層含有フィルム基材
次に、本発明の機能層含有フィルム基材について説明する。本発明の機能層含有フィルム基材は、巻回したときにロール状フィルム基材間に通気性を付与し、かつ、上記ロール状フィルム基材に機能を付加する機能層が、フィルム基材の一方の面に形成されてなることを特徴とするものである。
D. Next, the functional layer-containing film substrate of the present invention will be described. When the functional layer-containing film base material of the present invention is wound, the functional layer imparts air permeability between the roll-shaped film base materials and adds a function to the roll-shaped film base material. It is formed on one surface.

本発明によれば、上記機能層がフィルム基材の一方の面に形成されているため、巻回したときに、ロール状フィルム基材の巻内側の通気性および透湿性を向上させることができる。さらに、本発明の機能層含有フィルム基材が巻回されてなるロール状フィルム基材を、その含水率が所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで保管することにより、巻内側と巻外側とで含水率の差を生じることなく均一な寸法を有し、かつ、巻き出してフィルム基材とした際に所望の機能を有するロール状フィルム基材とすることができる。   According to the present invention, since the functional layer is formed on one surface of the film substrate, the air permeability and moisture permeability inside the roll-shaped film substrate can be improved when wound. . Furthermore, by storing the roll-shaped film substrate formed by winding the functional layer-containing film substrate of the present invention until the moisture content reaches the moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere, the inside of the roll and the outside of the roll Thus, a roll-shaped film base material having a uniform size without causing a difference in moisture content and having a desired function when unwound to obtain a film base material can be obtained.

このような機能層含有フィルム基材について、図を参照しながら説明する。図6は、本発明の機能層含有フィルム基材の一例を示す概略断面図である。図6に示されるように、機能層含有フィルム基材12は、フィルム基材1の一方の面に機能層4が形成されてなるものである。本発明においては、機能層4が、巻回したときにロール状フィルム基材間に通気性を付与する層であり、かつ、上記ロール状フィルム基材に機能を付加する層であることを大きな特徴とする。
以下、本発明の機能層含有フィルム基材について、構成ごとに説明する。
Such a functional layer-containing film base material will be described with reference to the drawings. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of the functional layer-containing film substrate of the present invention. As shown in FIG. 6, the functional layer-containing film substrate 12 is obtained by forming the functional layer 4 on one surface of the film substrate 1. In the present invention, the functional layer 4 is a layer that imparts air permeability between the roll-shaped film substrates when wound, and a layer that adds a function to the roll-shaped film substrate. Features.
Hereinafter, the functional layer-containing film substrate of the present invention will be described for each configuration.

1.機能層
まず、本発明における機能層について説明する。本発明における機能層は、巻回したときにロール状フィルム基材間に通気性を付与し、かつ、上記ロール状フィルム基材に機能を付加するものである。このような機能層については、上記「A.ロール状フィルム基材の製造方法」の「2.第2態様」の項に記載した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
1. Functional Layer First, the functional layer in the present invention will be described. The functional layer in the present invention imparts air permeability between the roll-shaped film substrates when wound, and adds a function to the roll-shaped film substrate. Such a functional layer can be the same as the contents described in the section “2. Second embodiment” of “A. Method for producing roll-shaped film base material”, and thus the description thereof is omitted here. To do.

2.フィルム基材
本発明におけるフィルム基材については、上記「A.ロール状フィルム基材の製造方法」の項に記載した内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
2. Film Base The film base in the present invention is the same as the content described in the above-mentioned section “A. Method for producing roll-shaped film base”, and thus the description thereof is omitted here.

3.機能層含有フィルム基材
本発明においては、機能性パターンが、上記フィルム基材の他方の面に形成されていてもよい。上記フィルム基材の上記機能層が形成されていない面に機能性パターンを形成することで、上記機能層の機能が付加されたパターン形成体とすることができる。具体的には、例えば、本発明の機能層含有フィルム基材における機能層がAG機能を有し、上記機能層含有フィルム基材の上記機能層が形成されていない側の面に着色層等のカラーフィルタの部材を形成することで、AG機能を有するカラーフィルタとすることができる。
本発明の機能層含有フィルム基材の用途としては、例えば、カラーフィルタ形成用基板、配線パターン形成用基板等に用いることができる。
3. Functional layer containing film base material In this invention, the functional pattern may be formed in the other surface of the said film base material. By forming a functional pattern on the surface of the film base material on which the functional layer is not formed, a pattern forming body to which the function of the functional layer is added can be obtained. Specifically, for example, the functional layer in the functional layer-containing film base material of the present invention has an AG function, and a colored layer or the like is formed on the surface of the functional layer-containing film base material on which the functional layer is not formed. By forming the color filter member, a color filter having an AG function can be obtained.
As a use of the functional layer-containing film substrate of the present invention, for example, it can be used for a color filter forming substrate, a wiring pattern forming substrate, and the like.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and exhibits the same function and effect. Are included in the technical scope.

以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。   The following examples illustrate the present invention more specifically.

[実施例]
まず、フィルム基材として、ガラス転移点が155℃であり、ガラス転移点以下における線膨張係数および湿度膨張係数が、それぞれ1.3×10−5/℃および1.1×10−5/%RHであり、300mm幅×30m長×0.2mm厚サイズのPENフィルムと、空隙部材として、表面粗さ(Ra)が2.0μmであり、300mm幅×30m長×0.2mm厚サイズの多孔質シート(日東電工製サンマップ)とを準備した。次に、上記PENフィルム上に上記多孔質シートを配置して空隙部材積層フィルム基材を形成し、この空隙部材積層フィルム基材を巻回することで、空隙部材が挟まれたロール状フィルム基材を得た。
[Example]
First, as a film substrate, the glass transition point is 155 ° C., and the linear expansion coefficient and the humidity expansion coefficient below the glass transition point are 1.3 × 10 −5 / ° C. and 1.1 × 10 −5 /%, respectively. It is RH, 300 mm wide x 30 m long x 0.2 mm thick PEN film, and as a gap member, the surface roughness (Ra) is 2.0 μm, and 300 mm wide x 30 m long x 0.2 mm thick porous A quality sheet (sunmap made by Nitto Denko) was prepared. Next, the porous sheet is disposed on the PEN film to form a gap member laminated film base material, and the gap film laminated film base material is wound to form a roll-shaped film base sandwiched with the gap member. The material was obtained.

次に、得られたロール状フィルム基材を、23℃、45%RHの雰囲気下で1週間保管した。   Next, the obtained roll-shaped film substrate was stored for one week in an atmosphere of 23 ° C. and 45% RH.

続いて、このロール状フィルム基材を水系で洗浄した。その後、ロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上に、レジスト材(感光性材料)をグラビア印刷方式により1μmの厚さで塗布し、このレジスト材を100℃で2分間乾燥させた。   Subsequently, the roll film substrate was washed with an aqueous system. Thereafter, a resist material (photosensitive material) is applied on the film substrate unrolled from the roll-shaped film substrate to a thickness of 1 μm by a gravure printing method, and the resist material is dried at 100 ° C. for 2 minutes. It was.

次に、所望のパターンに従い、上記フィルム基材上に塗布した上記レジスト材を23℃、45%RHの雰囲気下で露光した。   Next, the resist material applied on the film base material was exposed in an atmosphere of 23 ° C. and 45% RH according to a desired pattern.

次に、上記フィルム基材上における上記レジスト材の現像を行った。これにより、フィルム基材上にパターンが形成されたパターン形成体を得た。   Next, the resist material was developed on the film base material. Thereby, the pattern formation body in which the pattern was formed on the film base material was obtained.

[比較例]
空隙部材を用いずに、フィルム基材のみを巻回することでロール状フィルム基材を得たこと以外は、実施例と同様にして、パターン形成体を得た。
[Comparative example]
A pattern-formed body was obtained in the same manner as in Example except that only the film base material was wound without using the gap member to obtain a rolled film base material.

[評価]
実施例および比較例で得られたパターン形成体に、空隙部材として日東電工製サンマップを挟んでそれぞれ巻き取り、23℃、45%RHの雰囲気下で一週間保管後、形成されたパターンの寸法を測定した。
[Evaluation]
The pattern formed bodies obtained in the examples and comparative examples were respectively wound around a sun map made by Nitto Denko as a gap member, stored for one week in an atmosphere of 23 ° C. and 45% RH, and the dimensions of the formed pattern Was measured.

実施例で得られたパターン形成体においては、ロール状フィルム基材の巻内側と巻外側とでパターンの寸法バラつきは、±5μm/100mm以内であった。一方、比較例で得られたパターン形成体においては、ロール状フィルム基材の巻内側でのパターンの寸法が、巻外側でのパターンの寸法に比べて35μm/100mm程度伸長していた。これは、実施例では、ロール状フィルム基材の巻内側と巻外側とで含水率に差が生じなかったのに対して、比較例では、巻内側が含水率の低い状態でパターニングされたため、巻内側のロール状フィルム基材が吸湿することによって、パターンの寸法伸長が生じたと考えられる。   In the pattern formed body obtained in the example, the dimensional variation in the pattern between the inner side and the outer side of the roll-shaped film substrate was within ± 5 μm / 100 mm. On the other hand, in the pattern forming body obtained in the comparative example, the dimension of the pattern on the inner side of the roll-shaped film substrate was extended by about 35 μm / 100 mm as compared with the dimension of the pattern on the outer side of the winding. This is because, in the examples, there was no difference in moisture content between the inner side and the outer side of the roll-shaped film substrate, whereas in the comparative example, the inner side was patterned with a low moisture content, It is considered that the dimension elongation of the pattern occurred due to moisture absorption by the roll-shaped film substrate inside the winding.

1 … フィルム基材
2 … 空隙部材
3 … 空隙層
4 … 機能層
10 … 空隙部材積層フィルム基材
11 … 空隙層含有フィルム基材
12 … 機能層含有フィルム基材
20 … ロール状フィルム基材
21 … パターン
30 … パターン形成体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Film base material 2 ... Gap member 3 ... Gap layer 4 ... Functional layer 10 ... Gap member lamination film base material 11 ... Gap layer content film base material 12 ... Functional layer content film base material 20 ... Roll-shaped film base material 21 ... Pattern 30 ... Pattern forming body

Claims (14)

フィルム基材上に空隙部材を配置した空隙部材積層フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備するロール状フィルム基材準備工程と、
前記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、前記ロール状フィルム基材を前記温湿度雰囲気下で保管する保管工程と
を有することを特徴とするロール状フィルム基材の製造方法。
A roll-shaped film substrate preparation step of winding a void-member laminated film substrate in which a void member is arranged on a film substrate and preparing a roll-shaped film substrate;
And a storage step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature and humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. Of manufacturing a film-like film substrate.
前記空隙部材が、表面粗さ(Ra)が1μm以上の多孔質シートであることを特徴とする請求項1に記載のロール状フィルム基材の製造方法。   The method for producing a roll-shaped film substrate according to claim 1, wherein the gap member is a porous sheet having a surface roughness (Ra) of 1 μm or more. 前記保管工程の温湿度雰囲気が、前記所定の温湿度雰囲気下における含水率に達した前記ロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成する際の温湿度雰囲気と等しいことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のロール状フィルム基材の製造方法。   The temperature and humidity atmosphere of the storage step is equal to the temperature and humidity atmosphere when forming a pattern on the film substrate unwound from the roll-shaped film substrate that has reached the moisture content in the predetermined temperature and humidity atmosphere. The manufacturing method of the roll-shaped film base material of Claim 1 or Claim 2 characterized by these. 請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のロール状フィルム基材の製造方法により得られたロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上に、パターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。   A pattern is formed on a film substrate that is unwound from a roll-shaped film substrate obtained by the method for producing a roll-shaped film substrate according to any one of claims 1 to 3. A method for producing a pattern forming body, comprising a pattern forming step. 前記パターン形成工程前または前記パターン形成工程後に、前記フィルム基材から空隙部材を剥離する剥離工程を有することを特徴とする請求項4に記載のパターン形成体の製造方法。   The method for producing a pattern forming body according to claim 4, further comprising a peeling step of peeling the void member from the film base material before or after the pattern forming step. フィルム基材上に空隙層を形成した空隙層含有フィルム基材を巻回し、ロール状フィルム基材を準備するロール状フィルム基材準備工程と、
前記ロール状フィルム基材の含水率が、所定の温湿度雰囲気下における含水率に達するまで、前記ロール状フィルム基材を前記温湿度雰囲気下で保管する保管工程と
を有することを特徴とするロール状フィルム基材の製造方法。
A roll-shaped film substrate preparation step of winding a void-layer-containing film substrate in which a void layer is formed on a film substrate and preparing a roll-shaped film substrate;
And a storage step of storing the roll-shaped film substrate in the temperature and humidity atmosphere until the moisture content of the roll-shaped film substrate reaches a moisture content in a predetermined temperature and humidity atmosphere. Of manufacturing a film-like film substrate.
前記空隙層が、表面に凹凸構造を有する機能層であることを特徴とする請求項6に記載のロール状フィルム基材の製造方法。   The method for producing a roll-shaped film substrate according to claim 6, wherein the void layer is a functional layer having an uneven structure on the surface. 前記機能層が、アンチグレア(AG)機能を有し、かつ表面粗さ(Ra)が50nm〜500nmの範囲内であることを特徴とする請求項7に記載のロール状フィルム基材の製造方法。   The said functional layer has an anti-glare (AG) function, and surface roughness (Ra) exists in the range of 50 nm-500 nm, The manufacturing method of the roll-shaped film base material of Claim 7 characterized by the above-mentioned. 前記保管工程の温湿度雰囲気が、前記所定の温湿度雰囲気下における含水率に達した前記ロール状フィルム基材から巻き出されたフィルム基材上にパターンを形成する際の温湿度雰囲気と等しいことを特徴とする請求項6から請求項8までのいずれかの請求項に記載のロール状フィルム基材の製造方法。   The temperature and humidity atmosphere of the storage step is equal to the temperature and humidity atmosphere when forming a pattern on the film substrate unwound from the roll-shaped film substrate that has reached the moisture content in the predetermined temperature and humidity atmosphere. The manufacturing method of the roll-shaped film base material in any one of Claim 6 to 8 characterized by these. 請求項6から請求項9までのいずれかの請求項に記載のロール状フィルム基材の製造方法により得られたロール状フィルム基材から巻き出されてなるフィルム基材上に、パターンを形成するパターン形成工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法。   A pattern is formed on a film substrate unwound from a roll-shaped film substrate obtained by the method for producing a roll-shaped film substrate according to any one of claims 6 to 9. A method for producing a pattern forming body, comprising a pattern forming step. フィルム基材上に空隙部材を配置した空隙部材積層フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状フィルム基材。   A roll-shaped film base material comprising a gap member laminated film base material in which a gap member is disposed on a film base material. フィルム基材上に空隙層を形成した空隙層含有フィルム基材が巻回されてなることを特徴とするロール状フィルム基材。   A roll-shaped film base material comprising a gap layer-containing film base material in which a void layer is formed on a film base material. 巻回したときにロール状フィルム基材間に通気性を付与し、かつ、前記ロール状フィルム基材に機能を付加する機能層が、フィルム基材の一方の面に形成されてなることを特徴とする機能層含有フィルム基材。   A functional layer that imparts air permeability between the roll-shaped film base materials when wound and adds a function to the roll-shaped film base material is formed on one surface of the film base material A functional layer-containing film substrate. 機能性パターンが、前記フィルム基材の他方の面に形成されてなることを特徴とする請求項13に記載の機能層含有フィルム基材。   The functional layer-containing film base material according to claim 13, wherein a functional pattern is formed on the other surface of the film base material.
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