JP2011177615A - 脱硫設備の石膏脱水装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】排ガスG中の硫黄酸化物を吸収塔1内にて吸収液A中の石灰石に吸収させる脱硫設備105に設置されており、硫黄酸化物を吸収して吸収塔1から供給される石膏スラリーSSを脱水して石膏ケーキSCとするベルトフィルタ22と、ベルトフィルタ22を介して石膏ケーキSCの水分を吸引する真空吸引機構23とを備えた石膏脱水装置2において、ベルトフィルタ22により脱水される石膏ケーキSCの水分濃度を測定する水分測定手段H1と、ベルトフィルタ22により脱水される石膏ケーキSCを温水または蒸気により加温する加温手段25と、水分測定手段H1から入力された石膏ケーキSCの水分濃度が所定量を超えた場合、加温手段25による加温状態を制御する制御手段26とを備える。
【選択図】図2
Description
本実施の形態について、図面を参照して説明する。図1は、実施の形態に係る脱硫設備が適用される排ガス処理システムの概略図である。
本実施の形態について、図面を参照して説明する。図4は、本実施の形態の脱硫設備の石膏脱水装置を示す概略図である。なお、以下に説明する実施の形態2において、上述した実施の形態1と同等の構成には同一の符号を付してその説明を省略する。
本実施の形態について、図面を参照して説明する。図6は、本実施の形態の脱硫設備の石膏脱水装置を示す概略図である。なお、以下に説明する実施の形態3において、上述した実施の形態1と同等の構成には同一の符号を付してその説明を省略する。
本実施の形態について、図面を参照して説明する。図8は、本実施の形態の脱硫設備の石膏脱水装置を示す概略図である。なお、以下に説明する実施の形態4において、上述した実施の形態1〜3と同等の構成には同一の符号を付してその説明を省略する。
2 石膏脱水装置
21 抜出部
21c バルブ(搬送量可変手段)
22 ベルトフィルタ
22c 駆動部(速度可変手段)
23 真空吸引機構
24 ホッパ
25 加温手段
25e 流量調整バルブ
25f 開閉バルブ
26 制御手段
105 脱硫設備
G 排ガス
A 吸収液
SS 石膏スラリー
SC 石膏ケーキ
S 石膏
H1 水分測定手段
P1 吸引圧力測定手段
C1 不純物塩濃度測定手段
α ろ過比抵抗測定手段
T2 表面温度測定手段
ΔSO2 脱硫量測定手段
Claims (21)
- 排ガス中の硫黄酸化物を吸収塔内にて吸収液中の石灰石に吸収させる脱硫設備に設置されており、前記硫黄酸化物を吸収して前記吸収塔から供給される石膏スラリーを脱水して石膏ケーキとするベルトフィルタと、前記ベルトフィルタを介して前記石膏ケーキの水分を吸引する真空吸引機構とを備えた石膏脱水装置において、
前記ベルトフィルタにより脱水される前記石膏ケーキの水分濃度を測定する水分測定手段と、
前記ベルトフィルタにより脱水される前記石膏ケーキを温水または蒸気により加温する加温手段と、
前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超えた場合、前記加温手段による加温状態を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記真空吸引機構による吸引圧力を測定する吸引圧力測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記吸引圧力測定手段からの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態を制御することを特徴とする請求項1に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記吸収塔内の不純物としての塩濃度を測定する不純物塩濃度測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記不純物塩濃度測定手段からの入力が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態を制御することを特徴とする請求項1に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記石膏ケーキのろ過比抵抗を測定するろ過比抵抗測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記ろ過比抵抗測定手段からの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態を制御することを特徴とする請求項1に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記真空吸引機構による吸引圧力を測定する吸引圧力測定手段と、
前記吸収塔内の不純物としての塩濃度を測定する不純物塩濃度測定手段と、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記吸引圧力測定手段と前記不純物塩濃度測定手段との少なくとも1つからの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態を制御することを特徴とする請求項1に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記真空吸引機構による吸引圧力を測定する吸引圧力測定手段と、
前記吸収塔内の不純物としての塩濃度を測定する不純物塩濃度測定手段と、
前記石膏ケーキのろ過比抵抗を測定するろ過比抵抗測定手段と、
をさらに備え、
前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記吸引圧力測定手段と前記不純物塩濃度測定手段と前記ろ過比抵抗測定手段との少なくとも1つからの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態を制御することを特徴とする請求項1に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記石膏ケーキの表面温度を測定する表面温度測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記表面温度測定手段から入力された表面温度が所定値以下でない場合、前記加温手段による加温を減らす制御をすることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 排ガス中の硫黄酸化物を吸収塔内にて吸収液中の石灰石に吸収させる脱硫設備に設置されており、前記硫黄酸化物を吸収して前記吸収塔から供給される石膏スラリーを脱水して石膏ケーキとするベルトフィルタと、前記ベルトフィルタを介して前記石膏ケーキの水分を吸引する真空吸引機構とを備えた石膏脱水装置において、
前記ベルトフィルタにより脱水される前記石膏ケーキの水分濃度を測定する水分測定手段と、
前記ベルトフィルタによるベルト進行速度を可変する速度可変手段と、
前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超えた場合、前記速度可変手段によるベルト進行速度を制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記真空吸引機構による吸引圧力を測定する吸引圧力測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記吸引圧力測定手段からの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記速度可変手段によるベルト進行速度を制御することを特徴とする請求項8に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記吸収塔内の不純物としての塩濃度を測定する不純物塩濃度測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記不純物塩濃度測定手段からの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記速度可変手段によるベルト進行速度を制御することを特徴とする請求項8に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記石膏ケーキのろ過比抵抗を測定するろ過比抵抗測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記ろ過比抵抗測定手段からの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記速度可変手段によるベルト進行速度を制御することを特徴とする請求項8に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記真空吸引機構による吸引圧力を測定する吸引圧力測定手段と、
前記吸収塔内の不純物としての塩濃度を測定する不純物塩濃度測定手段と、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記吸引圧力測定手段と前記不純物塩濃度測定手段の少なくとも1つからの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記速度可変手段によるベルト進行速度を制御することを特徴とする請求項8に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記真空吸引機構による吸引圧力を測定する吸引圧力測定手段と、
前記吸収塔内の不純物としての塩濃度を測定する不純物塩濃度測定手段と、
前記石膏ケーキのろ過比抵抗を測定するろ過比抵抗測定手段と、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記吸引圧力測定手段と前記不純物塩濃度測定手段と前記ろ過比抵抗測定手段との少なくとも1つからの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記速度可変手段によるベルト進行速度を制御することを特徴とする請求項8に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 排ガス中の硫黄酸化物を吸収塔内にて吸収液中の石灰石に吸収させる脱硫設備に設置されており、前記硫黄酸化物を吸収して前記吸収塔から供給される石膏スラリーを脱水して石膏ケーキとするベルトフィルタと、前記ベルトフィルタを介して前記石膏ケーキの水分を吸引する真空吸引機構とを備えた石膏脱水装置において、
前記ベルトフィルタにより脱水される前記石膏ケーキの水分濃度を測定する水分測定手段と、
前記ベルトフィルタにより脱水される前記石膏ケーキを温水または蒸気により加温する加温手段と、
前記ベルトフィルタによるベルト進行速度を可変する速度可変手段と、
前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超えた場合、前記加温手段による加温状態と前記速度可変手段によるベルト進行速度とを共に制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記真空吸引機構による吸引圧力を測定する吸引圧力測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記吸引圧力測定手段からの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態と前記速度可変手段によるベルト進行速度とを共に制御することを特徴とする請求項14に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記吸収塔内の不純物としての塩濃度を測定する不純物塩濃度測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記不純物塩濃度測定手段からの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態と前記速度可変手段によるベルト進行速度とを共に制御することを特徴とする請求項14に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記石膏ケーキのろ過比抵抗を測定するろ過比抵抗測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記ろ過比抵抗測定手段からの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態と前記速度可変手段によるベルト進行速度とを共に制御することを特徴とする請求項14に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記真空吸引機構による吸引圧力を測定する吸引圧力測定手段と、
前記吸収塔内の不純物としての塩濃度を測定する不純物塩濃度測定手段と、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記吸引圧力測定手段と前記不純物塩濃度測定手段との少なくとも1つからの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態と前記速度可変手段によるベルト進行速度とを共に制御することを特徴とする請求項14に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記真空吸引機構による吸引圧力を測定する吸引圧力測定手段と、
前記吸収塔内の不純物としての塩濃度を測定する不純物塩濃度測定手段と、
前記石膏ケーキのろ過比抵抗を測定するろ過比抵抗測定手段と、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超え、かつ前記吸引圧力測定手段と前記不純物塩濃度測定手段と前記ろ過比抵抗測定手段との少なくとも1つからの入力値が所定の設定値を逸脱した場合、前記加温手段による加温状態と前記速度可変手段によるベルト進行速度とを共に制御することを特徴とする請求項14に記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記石膏ケーキの表面温度を測定する表面温度測定手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記表面温度測定手段から入力された表面温度が所定値以下でない場合、前記加温手段による加温を減らす制御をすることを特徴とする請求項14〜19のいずれか一つに記載の脱硫設備の石膏脱水装置。 - 前記吸収塔における前記硫黄酸化物の吸収量を測定する脱硫量測定手段と、
前記ベルトフィルタにより脱水される前記石膏ケーキの搬送量を可変する搬送量可変手段と、
前記ベルトフィルタによるベルト進行速度を可変する速度可変手段と、
をさらに備え、
前記制御手段は、前記水分測定手段から入力された前記石膏ケーキの水分濃度が所定量を超えても、前記吸引圧力測定手段と前記不純物塩濃度測定手段と前記ろ過比抵抗測定手段との各入力値が所定の設定値を逸脱しない場合には、前記脱硫量測定手段から入力された吸収量が所定量を超えた場合に、前記搬送量可変手段による搬送量の増加と前記速度可変手段によるベルト進行速度とを共に制御することを特徴とする請求項6、13または19のいずれか一つに記載の脱硫設備の石膏脱水装置。
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