JP2006110426A - 石膏脱水装置 - Google Patents

Abstract

【課題】含水率の低減された石膏を回収できるようにする。
【解決手段】ローラ１７間に循環移動可能に掛け回したベルト状フィルタ１８の搬送面の
下側に脱水室７を設ける。ベルト状フィルタ１８の搬送方向上流側端部の上方に石膏スラ
リー供給部２０を設け、中間部上方にケーキ洗浄装置８を設け、下流側寄り位置の上側に
脱水ゾーン１５を設ける。脱水ゾーン１５は搬送方向に配列した複数本の赤外線ヒータ１
６と、赤外線ヒータ１６の下方となる石膏ケーキ５ｂの表面部に送風するためのファン２
４を備える。石膏スラリー供給部２０よりベルト状フィルタ１８上に供給される石膏スラ
リー５中の母液２１を脱水室７へ吸引することで石膏ケーキ５ｂを形成させ、含まれる塩
をケーキ洗浄装置８にて除去し、その後、脱水ゾーン１５にて赤外線ヒータ１６より赤外
線２２を照射して、石膏ケーキ５ｂ全体の水分を直接加熱して蒸散させることで、含水率
を全体的に低下させる。
【選択図】図１

Description

本発明は、排煙脱硫設備にて生成される石膏スラリーを脱水し、含水率を低減させた石
膏分を回収するために用いる石膏脱水装置に関するものである。

硫黄分を含んだ化石燃料を燃焼させるボイラプラントやその他の燃焼炉から排出される
排ガス、あるいは、硫黄分を含んだ廃棄物を焼却処理する焼却炉から排出される排ガスに
は、酸性雨原因物質と考えられている硫黄酸化物が含まれている。そのため、上記燃焼炉
や焼却炉より排出される排ガスは、大気に放出する前に排煙脱硫設備に導いて該排ガス中
に含まれる硫黄酸化物を除去するようにしてある。

この種の排煙脱硫設備としては、上記排ガスに、スラリー状の石灰石や消石灰を接触さ
せて、排ガス中の二酸化硫黄を石灰石や消石灰のスラリーに吸収させ、硫酸カルシウム（
石膏）のスラリーの形で硫黄酸化物を回収する、いわゆる石灰・石膏法を用いた湿式の排
煙脱硫設備が広く用いられている。かかる石灰・石膏法による排煙脱硫設備にて生成され
る石膏スラリーは、８０％程度の水分を含んだ状態となっている。そのため、上記排煙脱
硫設備より回収される石膏スラリーは、石膏脱水装置に送って水分（母液）を分離した後
、石膏分は石膏ボード等の建築材料として利用されるようにしてある。

上記石膏脱水装置としては、従来、遠心分離機を主体としたものが使用されていたが、
近年では、図３にその一例の概略を示す如きベルトフィルタタイプの石膏脱水装置も提案
されている。

上記ベルトフィルタタイプの石膏脱水装置は、以下のような構成としてある。すなわち
、回転駆動されるドラム１間に、多数の孔部が穿設されて通気性を有するゴム製のベルト
２を無端状に掛け回して、上記ドラム１の回転に伴って上記ベルト２が循環移動するよう
にしてある。上記ベルト２の上側には、多数のローラ３間に無端状に掛け回されたベルト
状の濾布（ベルト状フィルタ）４が重なるように配置してあり、これにより、上記ベルト
２の循環移動に追従して上記濾布４が循環移動されるようにしてある。

上記ベルト２の搬送方向上流側端部の上方位置には、排煙脱硫設備で生じる石膏スラリ
ー５を、上記ベルト２上に重ねられて一緒に走行する濾布４上へ一定の厚みで流下させる
石膏スラリー供給部としての供給槽６が設けてある。更に、上記ベルト２の送り側部２ａ
の下側には、真空引きするための脱水室７が設けてある。これにより、上記供給槽６より
供給されて濾布４上へ載せられた石膏スラリー５中の母液を濾布４及びベルト２の孔部を
通して上記脱水室７へ吸引して、濾布４上に石膏スラリー５のケーキが形成されるように
してある。

なお、上記排煙脱硫設備における排ガスの脱硫処理に伴って発生する石膏スラリー５中
には、排ガス中の成分の混入により各種の塩が混入することがあり、この場合、上記石膏
脱水装置にて処理した後の石膏分を石膏ボード等の建築材料として利用できるようにする
ためには、上記石膏スラリー５中に混入している塩を除去しておく必要がある。そのため
に、上記ベルト２の搬送方向中間部の上方位置には、ケーキ洗浄スプレーの如きケーキ洗
浄装置８を設けて、上述したように母液が脱水室７へ吸引されることで濾布４上に形成さ
れる石膏スラリー５のケーキを洗浄して、該ケーキ中の塩分を除去することができるよう
にしてある。

更に、上記ケーキ洗浄装置８よりも搬送方向下流側となるベルト２の上側には、該ケー
キ洗浄装置８にて洗浄された後の石膏スラリー５のケーキより更に脱水させるための装置
として、上記濾布４上に載せられた石膏スラリー５のケーキに対してスチーム１１を噴射
するスチーム噴射ノズル１０を備えたスチーム洗浄・ドライ装置９が設けてある。これに
より、上記ケーキ洗浄装置８にて洗浄された後に濾布４上を搬送される石膏スラリー５の
ケーキが上記スチーム洗浄・ドライ装置９へ達すると、該ケーキに対しスチーム噴射ノズ
ル１０より所定量のスチーム１１を噴射して、上記石膏スラリー５のケーキに含まれる水
分を加熱して脱水させることができるようにしてある（たとえば、特許文献１参照）。

なお、図３における符号１２は上記スチーム洗浄・ドライ装置９により加熱されて脱水
された後に形成される石膏５ａを回収するためのベルトコンベヤ、１３は上記供給槽６へ
投入される排煙脱硫設備からの石膏スラリー５に、予め排水処理設備の排水スラリー１４
を混合するための混合槽である。

ところで、三次元網状骨格を有する気孔率の高い多孔質金属板を得る方法として、焼結
可能な原料粉末、水溶性樹脂結合剤及び界面活性剤を含む発泡性スラリーを成形、乾燥し
た後、焼成することにより多孔質焼結板を製造する手法が知られており、かかる多孔質焼
結板の製造過程において、成形された上記発泡性スラリーを高湿度雰囲気下にて発泡させ
てから乾燥させる際に、遠赤外線ヒータを用いて乾燥作業を行わせるようにすることが従
来提案されている（たとえば、特許文献２参照）。

特開平１０−１２８０５５号公報 特開平１０−２６７３５５号公報

ところが、図３に示した如き従来のベルトフィルタタイプの石膏脱水装置では、ケーキ
洗浄装置８にて塩を洗浄した後の石膏スラリー５のケーキ中に含まれる水分を、スチーム
噴射ノズル１０より噴射するスチーム１１により加熱し、これにより脱水を促すようにし
てあるが、得られる石膏５ａでは含水率に部分的なむらが生じてしまい、このために全体
的な含水率をあまり引き下げることができないという問題が生じていた。

そこで、本発明者は、上記の如きベルトフィルタタイプの石膏脱水装置にて形成される
石膏５ａ中の水分の分布を調べた。その結果、石膏スラリー５のケーキが濾布４上に載せ
られて搬送されるときに、該ケーキの表面部となる部分では含水率は比較的低くなってお
り乾燥が効率よく進行されているが、上記ケーキの厚み方向の中間部から裏面部（濾布４
に接触する部分）側へ行くにしたがって残留している水分量が多くなっていることが判明
した。

この原因としては、スチーム１１の噴射による石膏スラリー５のケーキの直接加熱では
、該ケーキは、先ず、スチーム１１に曝される表面部が加熱され、その後、上記加熱され
た表面部の熱が順次ケーキの内部を熱伝導により伝えられることで、上記石膏スラリー５
のケーキにおける厚み方向の中間部や裏面部が加熱されるため、外部に露出された表面部
に比して、中間部や裏面部は加熱され難く、このために、該中間部や裏面部の水分量を効
率よく減少させることができないためであると考えられた。

かかる考えに鑑みて、本発明者は、石膏スラリーのケーキ全体の含水率を効率よく低減
できるようにするための工夫、研究を重ねた結果本発明をなした。

なお、特許文献２に記載されたものは、焼結可能な原料粉末、水溶性樹脂結合剤及び界
面活性剤を含む発泡性スラリーの成形、発泡、乾燥装置であると共に、該発泡性スラリー
を発泡させた後に乾燥させる際には、遠赤外線ヒータと場合によってはプレートヒータを
併用することも記載されているものであって、上記発泡処理後の発泡性スラリーの表面側
、中間部、裏面側等の乾燥をどのように進行させるかについての記載はない。したがって
、上述したような排煙脱硫設備より発生する石膏スラリー５をベルトフィルタタイプの石
膏脱水装置にて脱水処理する際に従来問題となっていた生成される上記石膏スラリー５の
ケーキにおける表面部、中間部、裏面部にかけての脱水率の変化を解消して、全体的に効
率よく脱水させるための手法が開示されるものではない。

したがって、本発明の目的とするところは、石膏スラリーのケーキ中より全体的に効率
よく脱水して、むらなく全体的に含水率の低下した石膏を回収できる石膏脱水装置を提供
しようとするものである。

本発明は、上記課題を解決するために、請求項１に係る発明に対応して、循環移動でき
るよう備えてあるベルト状フィルタ上に供給される石膏スラリーを、該ベルト状フィルタ
の移動で搬送する間に、該石膏スラリー中の母液の吸引による上記石膏スラリーのケーキ
の形成、該ケーキの洗浄、該石膏スラリーのケーキの脱水を経て石膏分を回収するように
してある石膏脱水装置において、上記ベルト状フィルタの搬送方向下流側のケーキ脱水部
となるベルト状フィルタの上方位置に、赤外線ヒータを備えた脱水ゾーンを設けてなる構
成とする。

又、上記請求項１に係る発明における脱水ゾーンに、赤外線ヒータの下方に位置する石
膏スラリーのケーキの表面部に向けて送風するためのファンを設けるようにした構成とす
る。

上記請求項１又は２に係る発明における脱水ゾーンを、複数の赤外線ヒータを備えてな
る構成とし、且つベルト状フィルタの移動速度に応じて上記複数の赤外線ヒータのうち電
力供給を行なう赤外線ヒータの数を制御する機能を有する制御器を備えるようにした構成
とする。

本発明の石膏脱水装置によれば、以下の如き優れた効果を発揮する。
（１）循環移動できるよう備えてあるベルト状フィルタ上に供給される石膏スラリーを、
該ベルト状フィルタの移動で搬送する間に、該石膏スラリー中の母液の吸引による上記石
膏スラリーのケーキの形成、該ケーキの洗浄、該石膏スラリーのケーキの脱水を経て石膏
分を回収するようにしてある石膏脱水装置において、上記ベルト状フィルタの搬送方向下
流側のケーキ脱水部となるベルト状フィルタの上方位置に、赤外線ヒータを備えた脱水ゾ
ーンを設けてなる構成としてあるので、ベルト状フィルタの上側に供給されて載せられた
石膏スラリーより母液が吸引されて形成され、その後、ケーキ洗浄されて塩の除去が行わ
れた石膏スラリーのケーキに対し、脱水ゾーンにて赤外線ヒータからの赤外線を照射して
、該石膏スラリーのケーキ全体に含まれる水分に直接赤外線のエネルギーを付与して加熱
することができる。これにより、上記ベルト状フィルタの上側に載せられている石膏スラ
リーのケーキの表面部、中間部、裏面部のいかなる部分からも水分を蒸散させることがで
きて、全体的にむらなく含水率の低下した石膏を回収することができる。
（２）脱水ゾーンに、赤外線ヒータの下方に位置する石膏スラリーのケーキの表面部に向
けて送風するためのファンを設けるようにした構成とすることにより、脱水ゾーンにおけ
る赤外線の照射により石膏スラリーのケーキより水分を蒸散させるときに、該ケーキの表
面付近に蒸気が滞留して水蒸気圧の高い雰囲気が形成されることを防止でき、これにより
、新たな水分の蒸散が抑制される虞を未然に防止することができる。
（３）脱水ゾーンを、複数の赤外線ヒータを備えてなる構成とし、且つベルト状フィルタ
の移動速度に応じて上記複数の赤外線ヒータのうち電力供給を行なう赤外線ヒータの数を
制御する機能を有する制御器を備えるようにした構成とすることにより、脱水処理すべき
石膏スラリーの量が変動しても、この石膏スラリーの処理量の変動に応じて脱水ゾーンに
て使用する赤外線ヒータの数を適宜変化させて出力する赤外線のエネルギー量を容易に調
整することができる。これにより、上記脱水ゾーンの赤外線ヒータにおける消費電力を適
切に制御できて省エネルギー化を図ることができると共に、上記石膏スラリーの処理量の
変動に対する応答性を高めることが可能になる。

以下、本発明を実施するための最良の形態を図面を参照して説明する。

図１は本発明の石膏脱水装置の実施の一形態を示すもので、その基本的構造は、ベルト
フィルタタイプの石膏脱水装置において、ケーキ洗浄装置よりも下流側に、赤外線ヒータ
１６を備えた脱水ゾーン１５を設けてなる構成とする。

具体的には以下のような構成としてある。すなわち、複数のローラ１７の間に、ベルト
状のフィルタ（濾布）１８を無端状に掛け回し、且つ上記いずれかのローラ１７、たとえ
ば、搬送方向下流側端部に位置するローラ１７を、インバータモータの如き回転駆動装置
１９にて回転駆動することにより、上記ベルト状フィルタ１８が図中矢印方向へ循環移動
して、該ベルト状フィルタ１８の搬送面上に載せられる被搬送物を図中右向きに搬送でき
るようにする。

上記ベルト状フィルタ１８の搬送方向上流側端部の上方位置には、排煙脱硫設備にて生
成された石膏スラリー５をベルト状フィルタ１８の搬送面上に均一な厚みで供給できるよ
うにしてある石膏スラリー供給部２０を設ける。

上記ベルト状フィルタ１８の搬送側の搬送面の下側には、図３に示した脱水室７と同様
に真空引きする脱水室７が搬送方向に沿って延びるよう設けてある。これにより、上記石
膏スラリー供給部２０より走行するベルト状フィルタ１８上に供給される石膏スラリー５
中の母液２１を、搬送方向所要間隔の多数個所（図示せず）にて上記ベルト状フィルタ１
８を通して脱水室７へ吸引できるようにしてある。

又、上記ベルト状フィルタ１８の搬送方向中間部の上方位置には、図３に示したと同様
に、上記石膏スラリー供給部２０よりベルト状フィルタ１８上に供給された石膏スラリー
５より母液２１が脱水室７へ吸引されることでベルト状フィルタ１８上に形成される石膏
スラリーのケーキ（以下、石膏ケーキという）５ｂを洗浄するためのケーキ洗浄装置８が
設けてある。これにより、上記石膏ケーキ５ｂより塩を除去できるようにしてなるベルト
フィルタタイプの石膏脱水装置が形成してある。

更に、本発明の石膏脱水装置では、上述したように、上記構成に加えて、ケーキ洗浄装
置８よりも搬送方向下流側位置におけるベルト状フィルタ１８の上側に、赤外線ヒータ１
６を備えた脱水ゾーン１５を設けるようにしてある。

上記脱水ゾーン１５は、ベルト状フィルタ１８における搬送方向下流寄り領域の上方位
置に、上記ベルト状フィルタ１８の幅方向に延びる赤外線ヒータ１６を、搬送方向に所要
間隔で複数本（図では５本）配列して備えてなる構成としてある。上記各赤外線ヒータ１
６としては、水の熱吸収特性に適した波長域の赤外線２２の放射量が大きいものを用いる
ようにしてある。又、上記赤外線ヒータ１６の上方には赤外線反射板２３が設けてある。
これにより、上記ケーキ洗浄装置８による洗浄後に上記ベルト状フィルタ１８上にて搬送
される石膏ケーキ５ｂに対し、上記各赤外線ヒータ１６より放射される赤外線２２を照射
して、該赤外線２２の有するエネルギーを、石膏ケーキ５ｂ中に含まれる水の分子に対し
て効率よく付与して水分を加熱できるようにしてある。

更に、上記脱水ゾーン１５には、上記赤外線ヒータ１６の下方に位置するベルト状フィ
ルタ１８上の石膏ケーキ５ｂに向けて送風するためのファン２４を設けるようにしてある
。これにより、上記ファン２４によって上記赤外線ヒータ１６下方の石膏ケーキ５ｂの表
面部へ送風することで、脱水ゾーン１５にて上記赤外線ヒータ１６より照射される赤外線
２２のエネルギーを吸収して加熱される石膏ケーキ５ｂ中の水分が蒸散する際、石膏ケー
キ５ｂの表面近傍に蒸気が滞留して該石膏ケーキ５ｂの表面付近の雰囲気中における水蒸
気圧が上昇し、これにより石膏ケーキ５ｂからの新たな水分の蒸散が抑制される虞を未然
に防止できるようにしてある。

本発明の石膏脱水装置の下流側には、図示してないが、図３に示したと同様の石膏回収
用のベルトコンベアを設けて上記脱水ゾーン１５にて脱水された後の含水率の低下した（
乾燥された）石膏５ａの回収を図ることができるようにしてある。

上記本発明の石膏脱水装置を使用する場合は、回転駆動装置１９の駆動力によりベルト
状フィルタ１８を循環移動させ、且つ脱水室７を真空引きしておく。この状態において、
石膏スラリー供給部２０よりベルト状フィルタ１８上に石膏スラリー５を均一な厚みで供
給すると、該供給された石膏スラリー５は、ベルト状フィルタ１８上に載せられて搬送さ
れる過程で、図３に示したベルトフィルタタイプの石膏脱水装置の場合と同様に、含まれ
る母液２１が脱水室７へ吸引されて石膏ケーキ５ｂとされた後、ケーキ洗浄装置８にて含
まれる塩が除去される。

しかる後、上記ケーキ洗浄装置８を通過した後の石膏ケーキ５ｂが脱水ゾーン１５に達
すると、該石膏ケーキ５ｂに対しては、赤外線ヒータ１６より放射される赤外線２２が照
射される。この際、上記赤外線２２は電磁波であるため、石膏ケーキ５ｂに対して照射さ
れた赤外線２２は該石膏ケーキ５ｂの内部まで浸透する。これにより、上記石膏ケーキ５
ｂ中に含まれる水分は、その存在する位置が石膏ケーキ５ｂにおける表面部、中間部、裏
面部のいずれであっても上記赤外線２２のエネルギーを吸収することによって直接的に加
熱される。この加熱により上記石膏ケーキ５ｂ中の表面部、中間部、裏面部のいずれの部
分の水分も蒸発されて、該石膏ケーキ５ｂの外部へ蒸散されるようになるため、上記石膏
ケーキ５ｂは表面部、中間部、裏面部のいずれにおいても付着する水分量が低下させられ
て、乾燥させられる。

更に、上記石膏ケーキ５ｂの表面側より蒸散される蒸気は、ファン２４による送風によ
り、該石膏ケーキ５ｂの表面近傍より順次除去され、又、石膏ケーキ５ｂの裏面側より蒸
散される蒸気は、脱水室７へ吸引されて順次除去されるため、蒸散する蒸気が石膏ケーキ
５ｂの近傍に滞留する虞はなく、したがって、該石膏ケーキ５ｂの周囲の水蒸気圧が上昇
して新たな蒸気の放出が抑制される虞は未然に解消される。なお、上記赤外線２２による
石膏ケーキ５ｂ中の水分の加熱は、該水分が赤外線２２の保有するエネルギーを吸収する
ことによって生じるものであって、雰囲気を介した伝熱作用ではないため、上記の如きフ
ァン２４からの送風により阻害されることはない。

その後、上記脱水ゾーン１５を通過することで付着する水分量が低下させられて（乾燥
されて）形成される石膏５ａは、本発明の石膏脱水装置の搬送方向下流側端部より石膏回
収用のベルトコンベヤに送られて回収されるようになる。

このように、本発明の石膏脱水装置によれば、ベルト状フィルタ１８上にて石膏スラリ
ー５より母液２１を吸引することで形成される石膏ケーキ５ｂ中の水分を、赤外線２２に
より直接加熱して蒸散させるようにしてあるため、石膏ケーキ５ｂ中の水分を全体的に効
率よく低下させることができて、全体的に平均して含水率が低下された石膏５ａを得るこ
とができる。

次に、図２は本発明の実施の他の形態として、図１に示した石膏脱水装置の応用例を示
すもので、たとえば、燃焼炉や焼却炉の運転の変動に伴い排煙脱硫装置にて処理すべき排
煙の量が変化して、該排煙脱硫装置より発生する石膏スラリー５の量が変動する場合に、
該石膏スラリー５の処理量の変動に応じて本発明の石膏脱水装置の脱水ゾーン１５におい
て石膏ケーキ５ｂに対して放射する赤外線２２のエネルギー量を適宜調整できるようにし
たもので、以下のような構成としてある。

すなわち、図１に示したと同様の構成において、回転駆動装置１９に回転速度計２５を
取り付け、更に、該回転速度計２５より入力される上記回転駆動装置１９の回転数に応じ
て、脱水ゾーン１５に設けてある複数本の赤外線ヒータ１６のうち通電（電力供給）を行
なう赤外線ヒータ１６の本数を変化させるための制御器２６を備えた構成とする。

詳述すると、上記制御器２６は、先ず、上記回転速度計２５より入力される回転駆動装
置１９の回転数を基に、ベルト状フィルタ１８の循環移動速度を算出する。次に、算出さ
れた移動速度で移動するベルト状フィルタ１８上に載せられて該ベルト状フィルタ１８と
一体に移動する石膏ケーキ５ｂが脱水ゾーン１５を通過するときに、石膏ケーキ５ｂ中の
水分量を所望する値まで低下させるために該石膏ケーキ５ｂに対して放射すべき赤外線２
２のエネルギー量を求める。次いで、この求められたエネルギー量に見合うエネルギー量
の赤外線２２を放射するために必要な赤外線ヒータ１６の本数を算出して該算出された本
数の赤外線ヒータ１６に対してのみ電力供給を行なう機能を有するものとしてある。

その他の構成は図１に示したものと同様であり、同一のものには同一符号が付してある
。

本実施の形態によれば、排煙脱硫装置にて発生する石膏スラリー５の量が変動し、本発
明の石膏脱水装置にて脱水処理すべき石膏スラリー５の量が変動しても、この石膏スラリ
ー５の処理量の変動に応じて脱水ゾーン１５にて通電する赤外線ヒータ１６の本数を適宜
変化させて、出力する赤外線２２のエネルギー量を容易に調整することができる。

したがって、上記脱水ゾーン１５の赤外線ヒータ１６における消費電力を、石膏スラリ
ー５の処理量に合わせて適切に制御できて、省エネルギー化を図ることができると共に、
上記石膏スラリー５の処理量の変動に対する応答性を高めることが可能になる。

すなわち、図３に示した如き従来の石膏脱水装置では、石膏スラリー５の処理量が変動
し、スチーム洗浄・ドライ装置９にて、加熱すべき石膏スラリー５のケーキの量の変動に
対応させて該ケーキに対して加える熱量を変化させようとする場合には、スチーム噴射ノ
ズル１０より噴射させるスチーム１１の量を変化させる必要が生じるため、該スチーム１
１の供給ライン上の流量調整バルブの開度を制御するといった機械的な操作が必要になる
のであるが、上記本発明の石膏脱水装置では、石膏ケーキ５ｂに対して照射する赤外線２
２のエネルギー量の制御は電気的な信号のみによって行なうことが可能であるため、制御
をより容易に行なうことができて応答性の向上化を図ることが可能になる。

なお、本発明は上記実施の形態のみに限定されるものではなく、脱水ゾーン１５に設け
る赤外線ヒータ１６の数は、脱水ゾーン１５にて処理すべき石膏ケーキ５ｂの量、脱水ゾ
ーン１５へ搬送される石膏ケーキ５ｂ中に残存する水分量や脱水処理後の石膏５ａに望ま
れる含水率、使用する赤外線ヒータ１６の１本当りの出力等に応じて適宜変更してよい。
又、赤外線ヒータ１６の配置間隔、高さ位置等は自在に設定してよい。更に、ベルト状フ
ィルタ１８上に載せられて脱水ゾーン１５へ搬送される石膏ケーキ５ｂに対して全体的に
ほぼ均等に赤外線２２を照射することができれば、赤外線ヒータ１６はいかなる形状のも
のを用いるようにしてもよい。

ベルト状フィルタ１８を無端状に掛け回して循環移動させるためのローラ１７の配置は
、図示した以外の配置としてもよい。ファン２４は設けることが好ましいが、省略しても
よい。ケーキ洗浄装置８は、石膏ケーキ５ｂに含まれる塩を洗浄できれば、任意の形式の
ものを採用してよい。

図１の実施の形態では、赤外線２２をベルト状フィルタ１８の上側に載せられて搬送さ
れる石膏ケーキ５ｂに対し全体に亘って照射できれば、赤外線ヒータ１６を上記ベルト状
フィルタ１８による石膏ケーキ５ｂの搬送方向に沿わせて配置するようにしてもよい。

図２の実施の形態では、回転駆動装置１９に設けた回転速度計２５の検出信号を基に、
制御器２６にてベルト状フィルタ１８の循環移動速度を算出させるものとして示したが、
上記回転駆動装置１９を取り付けたローラ１７以外のローラ１７に取り付けた回転速度計
の検出信号を基にしたり、ベルト状フィルタ１８の移動速度を直接検出できるようにして
ある光学センサのようなセンサ等からの信号を基にベルト状フィルタ１８の循環移動速度
を求めるようにしてもよい。

スラリーより母液を吸引除去して含水率を低減させることが望まれるものであれば、石
膏スラリー５以外のスラリーの脱水にも適用できる。その他本発明の要旨を逸脱しない範
囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。

本発明の石膏脱水装置の実施の一形態を示す概略側面図である。 本発明の実施の他の形態を示す概略側面図である。 従来提案されているベルトフィルタタイプの石膏脱水装置の一例を示す概略側面図である。

符号の説明

５ 石膏スラリー
５ａ 石膏
５ｂ 石膏ケーキ（石膏スラリーのケーキ）
１５ 脱水ゾーン
１６ 赤外線ヒータ
１８ ベルト状フィルタ
２１ 母液
２４ ファン
２６ 制御器

Claims (3)

1. 循環移動できるよう備えてあるベルト状フィルタ上に供給される石膏スラリーを、該ベ
   ルト状フィルタの移動で搬送する間に、該石膏スラリー中の母液の吸引による上記石膏ス
   ラリーのケーキの形成、該ケーキの洗浄、該石膏スラリーのケーキの脱水を経て石膏分を
   回収するようにしてある石膏脱水装置において、上記ベルト状フィルタの搬送方向下流側
   のケーキ脱水部となるベルト状フィルタの上方位置に、赤外線ヒータを備えた脱水ゾーン
   を設けてなる構成を有することを特徴とする石膏脱水装置。
2. 脱水ゾーンに、赤外線ヒータの下方に位置する石膏スラリーのケーキの表面部に向けて
   送風するためのファンを設けるようにした請求項１記載の石膏脱水装置。
3. 脱水ゾーンを、複数の赤外線ヒータを備えてなる構成とし、且つベルト状フィルタの移
   動速度に応じて上記複数の赤外線ヒータのうち電力供給を行なう赤外線ヒータの数を制御
   する機能を有する制御器を備えるようにした請求項１又は２記載の石膏脱水装置。

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