TWI758936B - 石膏漿脫水系統 - Google Patents

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日商三菱動力股份有限公司
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Abstract

一種石膏漿脫水系統，係用來將在排煙脫硫裝置產生的石膏漿脫水，具備：搬送裝置，其具有搬送帶，該搬送帶是用來將石膏漿載置於過濾布上的狀態下進行搬送；蒸氣噴出裝置，其具有蒸氣噴出部，該蒸氣噴出部可噴出乾燥用蒸氣，對搬送帶配置於上方；蒸氣噴出部用罩，其用來覆蓋蒸氣噴出部，並且與過濾布的上表面之間形成用來噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出空間；蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，其一端側連通於形成在蒸氣噴出部用罩的開口；及第1吸引裝置，其設置成連接於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的另一端側。

Description

石膏漿脫水系統
本發明係關於用來將在排煙脫硫裝置產生的石膏漿脫水之石膏漿脫水系統。
例如在從鍋爐等的燃燒機器排出的廢氣中，含有硫氧化物(SOx)等的大氣污染物質，所以，在釋出至大氣前，在排煙脫硫裝置，從廢氣中去除硫氧化物。
作為排煙脫硫裝置，使用石灰石膏法的濕式排煙脫硫裝置為眾所皆知。在濕式排煙脫硫裝置，使廢氣與石灰石漿(吸收液)接觸，使吸收液吸收廢氣中的硫氧化物(例如亞硫酸氣體)，從廢氣中去除硫氧化物。被吸收液吸收的硫氧化物會與吸收液中的鈣產生反應而形成為亞硫酸鈣，亞硫酸鈣被供給至吸收液中的空氣氧化而成為石膏。在濕式排煙脫硫裝置，會產生石膏漿(含有石膏之吸收液)。
在專利文獻1，揭示在石膏分離機，將從濕式排煙脫硫裝置脫離的石膏漿進行固液分離而回收石膏。更詳細而言，在專利文獻1，揭示帶式石膏分離機，其將過濾布可自由行進地支承於張設在鼓筒間之帶上，從帶的下方吸引被供給至過濾布上的石膏漿而將過濾液與石膏分離；對過濾布上的石膏漿噴射蒸氣之蒸氣噴射噴嘴及覆蓋蒸氣噴射噴嘴的蒸氣罩。藉由從蒸氣噴射噴嘴噴射的蒸汽，將過濾布上的石膏漿所含有的水分加熱去除。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特開平10-128055號公報
[發明所欲解決之問題]
以往，未採取回收從蒸氣噴射噴嘴噴射後的蒸氣之措施，故，會有自蒸氣噴射噴嘴噴射的蒸氣從蒸氣罩與過濾布之間的間隙漏出而充滿室內之虞。若蒸氣充滿室內的話，會有例如光電式等的感測器檢測到蒸氣而引起錯誤作動之虞。
有鑑於前述情事，本發明的至少一實施形態之目的係在於提供可抑制蒸氣充滿設有石膏漿的脫水設備之室內的石膏漿脫水系統。 [解決問題之技術手段]
本發明之石膏漿脫水系統， 係用來將在排煙脫硫裝置所產生的石膏漿脫水之石膏漿脫水系統，其具備： 搬送裝置，其係具有將前述石膏漿載置於過濾布上之狀態進行搬送的搬送帶； 蒸氣噴出裝置，其係具有可噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出部，該蒸氣噴出部是對前述搬送帶配置於上方； 蒸氣噴出部用罩，其係覆蓋前述蒸氣噴出部，並且在與前述搬送帶的上表面之間形成用來噴出乾燥用蒸氣之蒸氣噴出空間； 蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成在前述蒸氣噴出部用罩之開口；及 吸引裝置，其係設置成連接於前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的另一端側。 [發明效果]
若依據本發明的至少一實施形態，能夠提供可抑制蒸氣充滿設有石膏漿的脫水設備之室內的石膏漿脫水系統。
以下，參照圖面等，說明關於本發明的幾個實施形態。其中，作為實施形態所記載或圖面所示的構成零件之尺寸、材質、形狀及其相對配置等，並非用來限制本發明的範圍，僅為單純的說明例。 例如[朝某一方向]、[沿著某一方向]、[平行]、[正交]、[同心]、或者，[同軸]等的表示相對或絕對的配置之表現，不僅包含嚴密地顯示這樣的配置，亦包含公差、或以可獲得相同功能的程度之角度、距離等相對地位移的狀態者。 例如[相同]、[相等]及[均質]等顯示情事相同的狀態之表現，不僅包含嚴密相等的狀態，亦包含存在有公差、或可獲得相同功能的程度之差的狀態者。 例如四角形、圓筒狀等顯示形狀的表現，不僅是包含在幾何學上嚴密地呈現的四角形、圓筒狀，亦包含在可獲得相同效果的範圍內，含有凹凸部、倒角部等的形狀者。 另外，[具備]、[包含]、[具有]一個構成要件之表現，並非為將其他的構成要件排除之排他的表現。 再者，有針對相同的結構賦予相同的圖號，並省略其說明之情況。
(廢氣洗淨系統) 圖1係示意地顯示具備本發明的一實施形態之石膏漿脫水系統的廢氣洗淨系統之全體結構的示意構成圖。 如圖1所示，實施形態之石膏漿脫水系統1被搭載於廢氣洗淨系統10。廢氣洗淨系統10係如圖1所示，具備：例如從引擎、鍋爐等的燃燒設備11排出之廢氣進行脫硫的濕式排煙脫硫裝置20；及用來將在排煙脫硫裝置20產生的石膏漿進行脫水的前述石膏漿脫水系統1。
排煙脫硫裝置20，係使從燃燒設備11排出的廢氣與吸收液接觸，使吸收液吸收廢氣中的硫氧化物(例如亞硫酸氣體)，藉此，從廢氣中去除硫氧化物。在使用石灰石膏法之排煙脫硫裝置20，例如，將用來使石灰石溶解(分散)之石灰石漿等含有鹼成分之漿液作為吸收液，產生石膏漿(含有石膏之吸收液)。再者，漿體嚴格來說，並非液體，但，在本說明書中，為了說明上的方便，作為液體進行說明。
排煙脫硫裝置20係包含吸收塔20A，該吸收塔是用來將導入其內部的廢氣進行脫硫。吸收塔20A係包含：吸收塔本體22，其在內部劃定有供自燃燒設備11排出的廢氣導入之內部空間21；廢氣導入口23，其用來將廢氣導入至內部空間21；及廢氣排出口24，其用來從內部空間21排出廢氣。廢氣導入口23及廢氣排出口24分別與吸收塔本體22連通。
內部空間21係包含：使廢氣與吸收液進行氣液接觸之氣液接觸部21A；及位於較氣液接觸部21A更下方，並且將在氣液接觸部21A吸收了廢氣中的硫氧化物(例如亞硫酸氣體)之吸收液儲存的液體儲存部21B。
自燃燒設備11排出的廢氣經由廢氣導入口23導入至內部空間21。被導入至內部空間21的廢氣，當一邊在內部空間21上升而流動，一邊通過氣液接觸部21A時，被吸收液洗淨，廢氣中的硫氧化物等被去除。在氣液接觸部21A被洗淨後的廢氣，作為淨化完成的廢氣亦即淨化氣體，經由氣體排出口24排出至吸收塔20A的外部。排出到吸收塔20A的外部之淨化氣體，從設在較廢氣排出口24更靠近淨化氣體(廢氣)的流動方向之下游側的未圖示的煙囪釋放至大氣中。亦可如圖1所示，將從淨化氣體(廢氣)去除水分之霧氣清除機25設在較氣液接觸部21A更靠近淨化氣體(廢氣)的流動方向之下游側。
在圖示的實施形態，吸收塔20A還包含配置於氣液接觸部21A的噴霧裝置26。噴霧裝置26係用來對通過氣液接觸部21A之廢氣進行吸收液(石灰石漿)的噴霧。被噴霧裝置26進行噴霧之吸收液，與廢氣接觸而將廢氣中所含有的硫氧化物(例如亞硫酸氣體)吸收去除。
噴霧裝置26係包含：沿著與廢氣的流動方向交叉的方向亦即水平方向延伸的噴霧管261；及設在噴霧管261的複數個噴霧噴嘴262。噴霧噴嘴262係如圖1所示，具有朝廢氣的流動方向之下游側，亦即，朝垂直方向之上方，將吸收液進行噴霧之噴霧口263。再者，在其他的實施形態，亦可為噴霧噴嘴262係具有朝垂直方向之下方，將吸收液進行噴霧之噴霧口。
在液體儲存部21B，對被導入至內部空間21的廢氣，從噴霧噴嘴262的噴霧口263進行噴霧，將廢氣中所含的硫氧化物吸收去除後之吸收液落下而被儲存。在儲存於液體儲存部21B之吸收液，有含有因從廢氣吸收了硫氧化物所產生之亞硫酸鹽、因亞硫酸鹽氧化而產生的石膏(硫酸鈣)的情況。
在吸收塔本體22，開口有吸收液排出口221及噴嘴插通口222，該吸收液排出口221是用來將儲存於液體儲存部21B的洗淨液排出至外部，該噴嘴插通口222是用來供給對儲存於液體儲存部21B的吸收液供給氧化用氣體(例如空氣)之噴嘴271插通。吸收液排出口221及噴嘴插通口222分別與液體儲存部21B連通。又，在吸收塔本體22，開口有吸收液供給口223及吸收液回送口224，該吸收液供給口223是用來導入石灰石漿，該吸收液回送口224是用來將排出至外部的吸收液回送至液體儲存部21B。吸收液供給口223及吸收液回送口224分別與較液體儲存部21B更上方之內部空間21連通。
吸收塔20A還包含氧化用氣體供給裝置27，其用來對儲存於液體儲存部21B之吸收液供給氧化用氣體(例如空氣)。在圖示的實施形態，氧化用氣體供給裝置27包含：連通於噴嘴插通口222之噴嘴271；及透過配管，將氧化用氣體供給至噴嘴271之泵浦272。藉由泵浦272所供給之氧化用氣體從噴嘴前端的吐出口273供給至儲存在液體儲存部21B之吸收液。藉此，可使儲存在液體儲存部21B的吸收液中之亞硫酸鹽氧化而產生石膏。
吸收塔20A還包含：對吸收塔20A的液體儲存部21B供給吸收液之吸收液供給線12；將從液體儲存部21B排出的吸收液輸送至噴霧裝置26之吸收液循環管線13；將從液體儲存部21B排出的吸收液輸送至石膏漿脫水系統1之吸收液排出管線14。吸收塔20A使吸收液循環於噴霧裝置26、液體儲存部21B及吸收液循環管線13。由於儲存在液體儲存部21B的吸收液，反覆使用於吸收塔20A之廢氣的洗淨，故，石膏會逐漸蓄積。藉由將石膏漿(含有石膏之吸收液)經由吸收液排出管線14輸送至石膏漿脫水系統1，從吸收液的循環系統(噴霧裝置26、液體儲存部21B、吸收液循環管線13)排出石膏。又，為了使藉由吸收液之廢氣中的硫氧化物之吸收去除(pH較高者，效率較佳)、和吸收液中的亞硫酸鹽之氧化(pH較低者，效率較佳)並存，以吸收液的pH成為5~6之範圍的方式，適當進行經由吸收液供給管線12之吸收液的供給。
在圖示的實施形態，吸收液供給管線12包含：配置於吸收塔20A的外部，並且劃定有用來儲存吸收液的內部空間122之吸收液儲存槽121；一端側連接於吸收液儲存槽121，另一端側連接於吸收液供給口223之吸收液供給配管123；及設在吸收液供給配管123，並且從吸收液供給配管123的一端側朝另一端側輸送吸收液之供給泵浦124。藉由驅動供給泵浦124，將吸收液從內部空間122排出而供給至吸收塔20A的液體儲存部21B。
在圖示的實施形態，吸收液循環管線13包含：一端側連接於吸收液排出口221，另一端側連接於噴霧管261之吸收液循環配管131；及設在吸收液循環配管131，並且從吸收液循環配管131的一端側朝另一端側輸送吸收液之循環泵浦132。吸收液排出管線14包含吸收液排出配管141，其一端側連接於第1分歧部133，另一端側連接於石膏漿脫水系統1(具體而言，圖2、圖3所示的石膏漿供給裝置4)，該第1分歧部位於吸收液循環配管131的較循環泵浦132更靠近吸收液流動方向的下游側(噴霧裝置26側)。在此情況，吸收液循環管線13及吸收液排出管線14共用循環泵浦132。藉由驅動循環泵浦132，將吸收液從液體儲存部21B排出，再壓送至噴霧裝置26、石膏漿脫水系統1等。再者，在其他的實施形態，亦可為吸收液排出管線14在與吸收液循環管線13之間不具有共有部。
在圖示的實施形態，吸收液排出管線14還包含設在吸收液排出配管141的另一端側之調整閥142。調整閥142係具有用來將吸收液的流通路徑亦即吸收液排出配管141進行開閉的可動機構，可調整流經吸收液排出配管141而供給至石膏漿脫水系統1之吸收液(石膏漿)的流量。
吸收塔20A還包含：用來將吸收液從吸收液排出管線14返回至吸收塔20A的液體儲存部21B之吸收液回送管線15。吸收液回送管線15係包含吸收液回送配管151，該吸收液回送配管的一端側連接於位在較吸收液排出配管141的調整閥142更靠近吸收液流動方向的上游側(第1分歧部133側)之第2分岐部143，另一端側連接於吸收液回送口224。流動在吸收液排出配管141之吸收液的至少一部分被循環泵浦132壓送，經由吸收液回送配管151而返回至吸收塔20A。即使在吸收液朝石膏漿脫水系統1之供給量少的情況，在吸收液排出配管141流動較朝石膏漿脫水系統1之必要供給量更多量的吸收液，讓多餘的吸收液經由吸收液回送配管151返回至吸收塔20A，藉此，將吸收液排出配管141之吸收液的流速保持在預定速度以上，能夠抑制吸收液(石膏漿)中的固形分(例如石膏等)在吸收液排出配管141內沉降。
(石膏漿脫水系統) 圖2及圖3分別係示意地顯示本發明的一實施形態之石膏漿脫水系統的全體結構之示意構成圖。 幾個實施形態之石膏漿脫水系統1，係將經由吸收液排出配管141從吸收塔20A輸送來的石膏漿(含有石膏之吸收液)進行脫水，分離成石膏與過濾液。
石膏漿脫水系統1係例如圖2、圖3所示，具備：具有將石膏漿載置於過濾布31上的狀態下進行搬送的搬送帶32之搬送裝置3；具有可將石膏漿供給至搬送帶32的過濾布31上的石膏漿供給部41之石膏漿供給裝置4；為了在將石膏漿一邊進行脫水一邊進行搬送的過程中，洗淨形成於過濾布31上的石膏餅，具有朝石膏餅可噴出餅洗淨液的餅洗淨液噴出部51之餅洗淨裝置5；及具有朝石膏餅可噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出部61之蒸氣噴出裝置6。石膏漿供給部41、餅洗淨液噴出部51及蒸氣噴出部61分別對搬送帶32配置於上方。餅洗淨液噴出部51係位於較石膏漿供給部41更靠近沿著搬送帶32的搬送方向之方向的下游側(圖2、圖3中的右側)，蒸氣噴出部61係位於較餅洗淨液噴出部51更靠近沿著搬送帶32的搬送方向之方向的下游側。
在圖示的實施形態，搬送裝置3還具有：可自由旋轉地被支承的兩個滾筒33(33A、33B)；連接於前述兩個滾筒中的其中一方的滾筒33(例如33A)，將該滾筒33(33A)旋轉驅動之馬達34；及複數個導引滾子35。搬送帶32係由無端帶狀的橡膠製構件(彈性體)構成，可自由行進地繞掛於沿著水平方向互相分離配置之兩個滾筒33。由於搬送帶32係張設於兩個滾筒33，故，藉由以馬達34旋轉驅動前述其中一方的滾筒33(33A)，使得另一方的滾筒33(33B)旋轉，並且搬送帶32沿著搬送帶32的搬送方向環繞移動。
過濾布31係設成無端帶狀，可自由行進地掛繞掛於複數個導引滾子35，並且其長度方向的一部分重疊於搬送帶32的上表面321。過濾布之重疊於搬送帶32的上表面321之部分(以下稱為被支承部311)係藉由搬送帶32，與搬送帶32皆為沿著前述搬送方向可自由行進地被支承。因此，若滾筒33(33A)被旋轉驅動而使得搬送帶32進行環繞移動的話，則，過濾布31的被支承部311與搬送帶32之從下側支承被支承部311的支承部322一起沿著前述搬送方向行進。在一實施形態，過濾布31係包含藉由編織形成為纖維狀的樹脂材料(例如聚酯、聚丙烯等)所形成的織布。又，在其他一實施形態，過濾布31係包含藉由形成為纖維狀的樹脂材料(例如聚酯、聚丙烯等)進行交織所形成的不織布。
石膏漿供給裝置4係將從吸收塔20A經由吸收液排出管線14輸送來的石膏漿，自該供給部41供給至搬送帶32的過濾布31上。在圖示的實施形態，石膏漿供給裝置4係具有：石膏漿供給部41(例如噴射噴嘴)；及其一端側連接於吸收液排出配管141的另一端側，其另一端側連接於石膏漿供給部41之配管42。在此情況，石膏漿係藉由前述循環泵浦132壓送，通過配管42而從石膏漿供給部41供給至搬送帶32的過濾布31上。嚴密來說，[過濾布31上]係指過濾布31的被支承部311之上表面(外表面)312上。
石膏漿係當載置於搬送帶32的過濾布31上，藉由搬送帶32，與過濾布31一同搬送時進行脫水處理。將搬送裝置3中之石膏漿進行脫水的區域作為脫水部36。在脫水部36，過濾布31的被支承部311支承於搬送帶32的被支承部311。石膏漿供給部41、餅洗淨液噴出部51及蒸氣噴出部61分別配置於脫水部36的區域內。
過濾布31具有通氣性，在搬送帶32，形成有用來供過濾液通過的複數個孔。被載置於搬送帶32的過濾布31上之石膏漿，係在前述脫水部36，藉由過濾液通過過濾布31、搬送帶32等進行脫水。
在圖示的實施形態，搬送裝置3還具有脫水裝置37，其從下方吸引被載置於過濾布31上的石膏漿而將過濾液進行脫水。脫水裝置37包含：設在搬送帶32的支承部322的下方，內部的壓力保持為負壓(較大氣壓低的壓力)之脫水室371；真空泵浦372；一端部連接於脫水室371，另一端部連接於真空泵浦372之減壓配管373；及設在減壓配管373之真空槽374。藉由驅動真空泵浦372，使脫水室371減壓而形成為負壓，被載置於過濾布31上的石膏漿中的水分從下方被強制吸引，石膏漿進行脫水。
被真空泵浦372吸引而從脫水室371輸送至真空槽374的水分(過濾液)係通過一端側連接於真空槽374的下端部且另一端側朝下方延伸之過濾液排出配管375內，流下到液體儲存槽38。
在圖示的實施形態，石膏漿脫水系統1還具備：配置於吸收塔20A的外部，並且劃定有用來包含過濾液的液體的內部空間381之液體儲存槽38；將儲存於液體儲存槽38的液體輸送至排水處理設備16之液體排出管線39；及將儲存於液體儲存槽38的液體作為補給水輸送至吸收液儲存槽121之液體供給管線54。在吸收液儲存槽121，透過未圖示的管線供給補給水與石灰石，在吸收液儲存槽121調整吸收液(石灰石漿)。
在圖2、圖3所示的實施形態，液體排出管線39包含：一端側連接於液體儲存槽38，另一端側連接於排水處理設備16之液體排出配管391；及設在液體排出配管391之泵浦392。藉由驅動泵浦392，將儲存在液體儲存槽38之液體經由液體排出配管391輸送至排水處理設備16。被輸送至排水處理設備16的液體，在排水處理設備16進行處理後排出至系統外。
在圖2、圖3所示的實施形態，液體供給管線54包含：一端側連接於液體儲存槽38，另一端側連接於吸收液儲存槽121之液體供給配管541；及設在液體供給配管541之泵浦542。藉由驅動泵浦542，將儲存在液體儲存槽38之液體作為補給水，經由液體供給配管541輸送至吸收液儲存槽121。在吸收液儲存槽121，透過未圖示的管線供給石灰石，在吸收液儲存槽121調整吸收液(石灰石漿)。被調整的吸收液，經由吸收液供給管線12輸送至吸收塔20A。
載置於過濾布31上並進行搬送的石膏漿，隨著被搬送帶32搬送並進行脫水，形成為石膏餅。在圖示的實施形態，餅洗淨裝置5具有：餅洗淨液噴出部51(例如噴射噴嘴)；餅洗淨液體供給配管52，其一端部連接於餅洗淨液噴出部51，另一端部連接於未圖示的洗淨液槽；及設在餅洗淨液體供給配管52之泵浦53。藉由驅動泵浦53，將洗淨液從洗淨液槽輸送至餅洗淨液噴出部51，再從餅洗淨液噴出部51朝位於下方的過濾布上的石膏漿(石膏餅)噴出。藉由以洗淨液洗淨石膏漿(石膏餅)，去除雜質。作為餅洗淨液，可舉出例如工業用水等。
在圖示的實施形態，對蒸氣噴出裝置6的蒸氣噴出部61(例如噴射噴嘴)，從連結於未圖示的鍋爐之蒸氣配管62供給乾燥用蒸氣，再從蒸氣噴出部61朝位於下方的過濾布上的石膏漿噴出。過濾布31上的石膏漿係藉由乾燥用蒸氣，將石膏漿所含有的水分加熱去除。
在圖示的實施形態，將過濾布31上的石膏漿在脫水部36進行脫水所獲得的石膏，係在較搬送帶32的搬送方向之脫水部36(例如蒸氣噴出部61)更下游側，從過濾布31上去除。將搬送裝置3之從過濾布31上去除石膏的區域作為石膏排出部43。
石膏漿脫水系統1係例如圖2、圖3所示，在搬送帶32的搬送方向之石膏排出部43更下游側，還具備具有可對過濾布31噴出過濾布洗淨液的過濾布洗淨液噴出部45(例如噴射噴嘴)之過濾布洗淨裝置44。在圖示的實施形態，過濾布洗淨裝置44具有：配置於較兩個滾筒33更下方的過濾布洗淨液噴出部45；過濾布洗淨液供給配管46，其一端部連接於過濾布洗淨液噴出部45，另一端部連接於未圖示的洗淨液槽；及設在過濾布洗淨液供給配管46之泵浦47。藉由驅動泵浦47，將洗淨液從洗淨液槽輸送至過濾布洗淨液噴出部45，再從過濾布洗淨液噴出部45朝過濾布31噴出。藉由以洗淨液洗淨過濾布31，去除雜質。作為過濾布洗淨液，可舉出例如工業用水等。再者，過濾布洗淨液係朝過濾布31的外表面或內表面中的至少一方噴出。
石膏漿脫水系統1係例如圖2、圖3所示，還具備：設在過濾布洗淨液噴出部45的下方之過濾布洗淨液承接部48(例如托盤)；及過濾布洗淨液排出配管49，其一端側連接於過濾布洗淨液承接部48，另一端側朝下方延伸。從過濾布洗淨液噴出部45噴出的過濾布洗淨液落下至過濾布洗淨液承接部48上。落下至過濾布洗淨液承接部48上的過濾布洗淨液通過過濾布洗淨液液排出配管49內，流至液體儲存槽38。
一些實施形態之石膏漿脫水系統1，係例如圖2、圖3所示，具備：搬送裝置3，其具有搬送帶32，該搬送帶是用來將石膏漿載置於過濾布31上的狀態下進行搬送；蒸氣噴出裝置6，其具有蒸氣噴出部61，該蒸氣噴出部可噴出乾燥用蒸氣，對搬送帶32配置於上方；蒸氣噴出部用罩7，其用來覆蓋蒸氣噴出部61，並且與過濾布31的上表面312之間形成用來噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出空間71；蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73，其一端側731連通於形成在蒸氣噴出部用罩7的開口72；及吸引裝置74(第1吸引裝置)，其設置成連接於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73的另一端側732。
蒸氣噴出空間71係為在垂直方向，形成於蒸氣噴出部用罩7與過濾布31的上表面312之間的空間。吸引裝置74係用來產生從蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73的一端側731朝另一端側732輸送氣體之吸引力。在圖示的實施形態，吸引裝置74係包含輸送氣體的送風用風扇(蒸氣噴出部側的送風用風扇)。
若依據前述結構，從蒸氣噴出裝置6的蒸氣噴出部61噴出而滯留於蒸氣噴出空間71之乾燥用蒸氣係藉由吸引裝置74所產生的吸引力，從形成於蒸氣噴出部用罩7之開口72吸入至蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73內。被吸入到蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73內的乾燥用蒸氣，再藉由前述吸引力朝蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73的另一端側732輸送。如此，藉由以蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73及吸引裝置74，將滯留於蒸氣噴出空間71之乾燥用蒸氣回收，可抑制滯留於蒸氣噴出空間71的乾燥用蒸氣從蒸氣噴出部用罩7與過濾布31之間的間隙漏出到蒸氣噴出空間71的外部而充滿於設有石膏漿的脫水設備(例如搬送裝置3等)之室內的情況。
在圖示的實施形態，蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73的另一端側732係連通於與配置有搬送裝置3的室內空間101不同之室外空間102。在圖2、圖3所示的實施形態，在將室內空間101、和與室內空間101相鄰配置的室外空間102之間進行區劃的側壁103，形成有可供蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73插通的第1配管插通孔104。蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73係插通第1配管插通孔104，前述一端側731位於室內空間101，且前述另一端側732位於室外空間102。在此情況，因可將吸引裝置74回收的蒸氣釋放至室外空間102，所以，可抑制蒸氣充滿在室內空間101。
在一些實施形態，例如圖2所示，石膏漿脫水系統1係具備：具有可將石膏漿供給至搬送帶32的過濾布31上的石膏漿供給部41之石膏漿供給裝置4；覆蓋石膏漿供給部41，並且在與過濾布31的上表面312之間，形成有供從石膏漿所產生的蒸氣滯留的蒸氣滯留空間81之石膏漿供給部用罩8；一端側831連通於形成在石膏漿供給部用罩8的開口82之石膏漿供給部側的蒸氣排出配管83A(83)；及設成連貼於石膏漿供給部側蒸氣排出配管83A的另一端側832之吸引裝置84(第2吸引裝置)。
蒸氣滯留空間81係為在垂直方向，形成於石膏漿供給部用罩8與過濾布31的上表面312之間的空間。吸引裝置84係用來產生從蒸氣排出配管83A的一端側831朝另一端側832輸送氣體之吸引力。在圖示的實施形態，吸引裝置84係包含輸送氣體的送風用風扇。
通常，藉由石膏漿供給裝置4的石膏漿供給部41供給至搬送帶32的過濾布31上之石膏漿，有其溫度高，本身產生氣體的情況。若依據前述結構，從過濾布31上的石膏漿產生而滯留於蒸氣滯留空間81之蒸氣，藉由吸引裝置84所產生的吸引力，從形成於石膏漿供給部用罩8之開口82吸入至蒸氣排出配管83A內。被吸入到蒸氣排出配管83A內的蒸氣，再藉由前述吸引力朝蒸氣排出配管83A的另一端側832輸送。如此，藉由以蒸氣排出配管83A及吸引裝置84，將滯留於蒸氣滯留空間81之蒸氣回收，可抑制滯留於蒸氣滯留空間81的蒸氣從石膏漿供給部用罩8與過濾布31之間的間隙漏出到蒸氣滯留空間81的外部而充滿於設有石膏漿的脫水設備之室內的情況。
再者，本實施形態之發明可獨立實施。例如，在一實施形態，石膏漿脫水系統1可具備蒸氣排出配管83A、吸引裝置84等，但不具備蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73、吸引裝置74等。在一實施形態，石膏漿脫水系統1可具備蒸氣排出配管73、吸引裝置74等，但不具備石膏漿供給部側蒸氣排出配管83A、吸引裝置84等。又，在一實施形態，石膏漿脫水系統1可具備蒸氣排出配管73、吸引裝置74等，但不具備石膏漿供給部用罩8、蒸氣排出配管83A、吸引裝置84等。
在圖示的實施形態，蒸氣排出配管83A的另一端側832係連通於室外空間102。在圖2所示的實施形態，在側壁103，形成有可供蒸氣排出配管83A插通的第2配管插通孔105。石膏漿供給部側蒸氣排出配管83A係插通第2配管插通孔105，一端側831位於室內空間101，且另一端側832位於室外空間102。在此情況，因可將吸引裝置84回收的蒸氣釋放至室外空間102，所以，可抑制蒸氣充滿在室內空間101。
在一些實施形態，例如，如圖3所示，石膏漿脫水系統1具備：搬送裝置3、石膏漿供給裝置4、蒸氣噴出裝置6、蒸氣噴出部用罩7、蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73、吸引裝置74及石膏漿供給部用罩8。又，石膏漿脫水系統1還具備石膏漿供給部側蒸氣排出配管83B(83)，其一端側831連通於形成在石膏漿供給部用罩8的開口82，並且另一端側832在較吸引裝置74更上游側，連接於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73。
若依據前述結構，因石膏漿供給部側蒸氣排出配管83B的另一端側832在較吸引裝置74更上游側，連接於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73，所以，使設在蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73的吸引裝置74之吸引力，不僅作用於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73內、蒸氣噴出空間71等，亦可作用於石膏漿供給部側蒸氣排出配管83B內、蒸氣滯留空間81。藉由以石膏漿供給部側蒸氣排出配管83B、蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73及吸引裝置74，將滯留於蒸氣滯留空間81之蒸氣回收，可抑制滯留於蒸氣滯留空間81的蒸氣從石膏漿供給部用罩8與過濾布31之間的間隙漏出而充滿於設有石膏漿的脫水設備之室內的情況。若依據前述結構，因藉由吸引裝置74，能夠將滯留於蒸氣噴出空間71的乾燥用蒸氣及滯留於蒸氣滯留空間81的蒸氣進行回收，所以，在前述實施形態，可省略設在石膏漿供給部側蒸氣排出配管83之吸引裝置84，可抑制蒸氣回收設備的昂貴化。
在圖示的實施形態，石膏漿供給部側蒸氣排出配管83B的另一端側832，係在室內空間101，連接於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73。在此情況，比起在室外空間102，連接於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管73的情況，石膏漿供給部側蒸氣排出配管83B的配管長度較短。藉由縮短石膏漿供給部側蒸氣排出配管83B，不會有損吸引裝置74產生的吸引力，可使吸引力作用於石膏漿供給部側蒸氣滯留空間81，因此，藉由吸引裝置74，可將滯留於石膏漿供給部側蒸氣滯留空間81的蒸氣和滯留於蒸氣噴出部側蒸氣噴出空間71的蒸氣一同有效率地吸引。
(蒸氣噴出部用罩) 圖4係示意地顯示本發明的一實施形態之石膏漿脫水系統的蒸氣噴出部用罩附近之沿著搬送帶的搬送方向之剖面的示意剖面圖。圖5係示意地顯示從上方觀看圖4所示的石膏漿脫水系統之蒸氣噴出部用罩附近的狀態之示意平面圖。在圖4、圖5，對石膏漿(包含石膏餅)賦予符號GS加以顯示。 在一些實施形態，前述蒸氣噴出部用罩7係例如圖4、圖5所示，包含：沿著搬送帶32的寬度方向(圖5中的上下方向)具有長度方向之前板部75；位於較前板部75更靠近沿著搬送帶32的搬送方向(圖4、圖5中之朝向右側的方向)之方向的上游側(圖4、圖5中的左側)，並且沿著前述寬度方向具有長度方向之後板部76；及將前板部75的上端部751與後板部76的上端部761相連之頂板部77。
在圖示的實施形態，如圖5所示，前板部75、後板部76及頂板部77分別係長度方向的長度較搬送帶32的寬度方向的長度長，在較搬送帶32的上表面321更上方，配置成橫斷搬送帶32，藉由未圖示的支承台支承。如圖4所示，前板部75及後板部76分別形成為沿著垂直方向具有寬度方向之金屬製的板狀。頂板部77形成為沿著搬送方向具有寬度方向之金屬製的板狀。藉由前板部75、後板部76及頂板部77各自的內表面，劃定朝上方凹陷的凹陷空間71A。
在圖示的實施形態，蒸氣配管62插通於形成在頂板部77的插通孔771，蒸氣噴出部61配置於凹陷空間71A內。又，在頂板部77形成有開口72，蒸氣排出配管73的一端側731係在以包圍開口72的方式抵接於頂板部77的上表面772的狀態下，藉由例如熔接之接合等，固定於頂板部77。
若依據前述結構，蒸氣噴出部用罩7係以藉由前板部75、後板部76及頂板部77劃定的凹陷空間71A作為蒸氣噴出空間71的一部分，使乾燥用蒸氣滯留於凹陷空間71A，因此，能夠抑制滯留於蒸氣噴出空間71之蒸氣漏出至蒸氣噴出空間71的外部。
在一些實施形態，蒸氣噴出部用罩7係例如圖4所示，還包含安裝於前板部75，較前板部75的下端部752更朝下方垂下的裙邊橡膠78A。
在圖示的實施形態，蒸氣噴出部用罩7係例如圖4所示，還包含安裝於後板部76，較後板部76的下端部762更朝下方垂下的裙邊橡膠78B。裙邊橡膠78A及78B分別為具有可撓性之橡膠製構件(彈性體)，形成為沿著搬送帶32的寬度方向之長度方向的長度較搬送帶32的寬度方向的長度長之一片的薄片狀。裙邊橡膠78A及78B係藉由例如緊固螺栓等的緊固構件79，分別固定於前板部75、後板部76。
若依據前述結構，藉由較前板部75的下端部752更朝下方垂下的裙邊橡膠78A，將蒸氣噴出部用罩7與過濾布31之間的間隙(具體而言為固定在前板部75的裙邊橡膠78A的下端與過濾布31之間的間隙)縮窄，能夠使從蒸氣噴出空間71朝外部漏出的蒸氣量減少。又，因裙邊橡膠78A安裝於前板部75，所以，在蒸氣噴出空間71內，可抑制面對過濾布31的氣體沿著搬送帶32的搬送方向流動而從蒸氣噴出空間71漏出至外部。
又，藉由較後板部76的下端部762更朝下方垂下的裙邊橡膠78B，將蒸氣噴出部用罩7與過濾布31之間的間隙(具體而言為固定在後板部76的裙邊橡膠78B的下端與過濾布31之間的間隙)縮窄，能夠使從蒸氣噴出空間71朝外部漏出的蒸氣量減少。
在一些實施形態，蒸氣噴出部用罩7係例如圖4、圖5所示，供蒸氣排出配管73的一端側731連通之開口72形成於頂板部77。
若依據前述結構，因蒸氣排出配管73的一端側731連通之開口72形成於頂板部77，所以，滯留於蒸氣噴出空間71的蒸氣，藉由吸引裝置74所產生的吸引力，從形成於頂板部77的開口72吸入至蒸氣排出配管73內。藉由吸引裝置74的吸引力，在蒸氣噴出空間71，形成朝向上方的氣體之流動，所以，可減少從形成於下方的蒸氣噴出部用罩7與過濾布31之間的間隙(蒸氣噴出部的下游側之間隙)朝蒸氣噴出空間71的外部漏出的蒸氣之量。
在一些實施形態，蒸氣噴出部用罩7還包含：圖5中的兩點鏈線所示，將前板部75及後板部76各自的長度方向的一方側(圖5中的上側)之端部彼此連結的金屬製的板狀側板部70A(70)；及將前板部75及後板部76各自的長度方向的另一方側(圖5中的下側)之端部彼此連結的金屬製的板狀側板部70B(70)。在此情況，藉由側板部70A及側板部70B，覆蓋凹陷空間71A的長度方向(沿著搬送帶32的寬度方向之方向)的兩端，因此，可減少從凹陷空間71A漏出至外部的蒸氣之量。
(石膏漿供給部用罩) 圖6係示意地顯示本發明的一實施形態之石膏漿脫水系統的石膏漿供給部用罩附近之沿著搬送帶的搬送方向之剖面的示意剖面圖。圖7係示意地顯示從上方觀看圖6所示的石膏漿脫水系統之石膏漿供給部用罩附近的狀態之示意平面圖。在圖6、圖7，對石膏漿賦予符號GS加以顯示。
在一些實施形態，石膏漿供給部用罩8係例如圖6、圖7所示，包含：沿著搬送帶32的寬度方向(圖7中的上下方向)具有長度方向之前板部85；位於較前板部85更靠近沿著搬送帶32的搬送方向(圖6、圖7中之朝向右側的方向)之方向的上游側(圖6、圖7中的左側)，並且沿著前述寬度方向具有長度方向之後板部86；及將前板部85的上端部851與後板部86的上端部861相連之頂板部87。
在圖示的實施形態，如圖7所示，前板部85、後板部86及頂板部87分別係長度方向的長度較搬送帶32的寬度方向的長度長，在較搬送帶32的上表面321更上方，配置成橫斷搬送帶32，藉由未圖示的支承台支承。如圖6所示，前板部85及後板部86分別形成為沿著垂直方向具有寬度方向之金屬製的板狀。頂板部87形成為沿著搬送方向具有寬度方向之金屬製的板狀。藉由前板部85、後板部86及頂板部87各自的內表面，劃定朝上方凹陷的凹陷空間81A。
在圖示的實施形態，配管42插通於形成在頂板部87的插通孔871，石膏漿供給部41配置於凹陷空間81A內。又，在頂板部87形成有開口82，蒸氣排出配管83(83A、83B)的一端側831係在以包圍開口82的方式抵接於頂板部87的上表面872的狀態下，藉由例如熔接之接合等，固定於頂板部87。
若依據前述結構，石膏漿供給部用罩8係以藉由前板部85、後板部86及頂板部87劃定的凹陷空間81A作為蒸氣滯留空間81的一部分，能使從石膏漿產生的蒸氣滯留於凹陷空間81A，因此，能夠抑制滯留於蒸氣滯留空間81之蒸氣漏出至蒸氣滯留空間81的外部。
在一些實施形態，石膏漿供給部用罩8係例如圖6所示，還包含安裝於前板部85，較前板部85的下端部852更朝下方垂下的裙邊橡膠88A。
在圖示的實施形態，石膏漿供給部用罩8係例如圖6所示，還包含安裝於後板部86，較後板部86的下端部862更朝下方垂下的裙邊橡膠88B。裙邊橡膠88A及88B分別為具有可撓性之橡膠製構件(彈性體)，形成為沿著搬送帶32的寬度方向之長度方向的長度較搬送帶32的寬度方向的長度長之一片的薄片狀。裙邊橡膠88A及88B係藉由例如緊固螺栓等的緊固構件89，分別固定於前板部85、後板部86。
若依據前述結構，藉由較前板部85的下端部852更朝下方垂下的裙邊橡膠88A，將石膏漿供給部用罩8與過濾布31之間的間隙(具體而言為固定在前板部85的裙邊橡膠88A的下端與過濾布31之間的間隙)縮窄，能夠使從蒸氣滯留空間81朝外部漏出的蒸氣量減少。又，因裙邊橡膠88A安裝於前板部85，所以，在蒸氣滯留空間81內，可抑制面對過濾布31的氣體沿著搬送帶32的搬送方向流動而從蒸氣滯留空間81漏出至外部。
又，藉由較後板部86的下端部862更朝下方垂下的裙邊橡膠88B，將石膏漿供給部用罩8與過濾布31之間的間隙(具體而言為固定在後板部86的裙邊橡膠88B的下端與過濾布31之間的間隙)縮窄，能夠使從蒸氣滯留空間81朝外部漏出的蒸氣量減少。
如前述般，在一些實施形態，石膏漿供給部用罩8係例如圖6、圖7所示，供蒸氣排出配管83(83A或83B)的一端側連通之開口82形成於頂板部87。
若依據前述結構，因蒸氣排出配管83的一端側連通之開口82形成於頂板部87，所以，滯留於蒸氣滯留空間81的蒸氣，藉由吸引裝置(吸引裝置74或吸引裝置84)所產生的吸引力，從形成於頂板部87的開口82吸入至蒸氣排出配管83內。藉由前述吸引裝置的吸引力，在蒸氣滯留空間81，形成朝向上方的氣體之流動，所以，可減少從形成於下方的石膏漿供給部用罩8與過濾布31之間的間隙，朝蒸氣噴出空間81的外部漏出的蒸氣之量。
在一些實施形態，石膏漿供給部用罩8還包含：圖7中的兩點鏈線所示，將前板部85及後板部86各自的長度方向的一方側(圖7中的上側)之端部彼此連結的金屬製的板狀側板部80A(80)；及將前板部85及後板部86各自的長度方向的另一方側(圖7中的下側)之端部彼此連結的金屬製的板狀側板部80B(80)。在此情況，藉由側板部80A及側板部80B，覆蓋凹陷空間81A的長度方向(沿著搬送帶32的寬度方向之方向)的兩端，因此，可減少從凹陷空間81A漏出至外部的蒸氣之量。
本發明不限於前述實施形態，亦包含在前述實施形態施加變形之形態、將該等形態適宜組合之形態等。
在前述一些實施形態所記載的內容，例如可如下述所揭示。
(1)本發明的至少一實施形態之石膏漿脫水系統(1)，係 用來將在排煙脫硫裝置(20)產生的石膏漿脫水之石膏漿脫水系統(1)，其特徵為具備： 搬送裝置(3)，其係具有將前述石膏漿載置於過濾布(31)上之狀態進行搬送的搬送帶(32)； 蒸氣噴出裝置(6)，其係具有可噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出部(61)，該蒸氣噴出部(61)是對前述搬送帶(32)配置於上方； 蒸氣噴出部用罩(7)，其係覆蓋前述蒸氣噴出部(61)，並且在與前述過濾布(31)的上表面(312)之間形成用來噴出乾燥用蒸氣之蒸氣噴出空間(71)； 蒸氣排出配管(73)，其係一端側連通於形成在前述罩(7)之開口(72)；及 吸引裝置(74)，其係設置成連接於前述蒸氣排出配管(73)的另一端側。
若依據前述(1)的結構，從蒸氣噴出裝置的蒸氣噴出部噴出而滯留於蒸氣噴出空間之乾燥用蒸氣係藉由吸引裝置(74)所產生的吸引力，從形成於蒸氣噴出部用罩之開口吸入至蒸氣噴出部側蒸氣排出配管(73)內。被吸入到蒸氣排出配管(73)內的乾燥用蒸氣，再藉由前述吸引力朝蒸氣排出配管(73)的另一端側輸送。如此，藉由以蒸氣排出配管(73)及吸引裝置(74)，將滯留於蒸氣噴出空間之乾燥用蒸氣回收，可抑制滯留於蒸氣噴出空間的乾燥用蒸氣從蒸氣噴出部用罩與過濾布之間的間隙漏出到蒸氣噴出空間的外部而充滿於設有石膏漿的脫水設備(例如搬送裝置3等)之室內的情況。
(2)在一些實施形態，前述(1)所述的石膏漿脫水系統(1)還具備： 石膏漿供給裝置(4)，其具有可將石膏漿供給至搬送帶(32)的過濾布(31)上之石膏漿供給部(41)； 石膏漿供給部用罩(8)，其覆蓋石膏漿供給部(41)，並且在與過濾布(31)的上表面(312)之間形成有用來供自石膏漿產生的蒸氣滯留的蒸氣滯留空間(81)； 蒸氣排出配管(83A)，其係一端側連通於形成在石膏漿供給部用罩(8)之開口(82)；及 吸引裝置(84)，其係設置成連接於蒸氣排出配管(83A)的另一端側。
通常，藉由石膏漿供給裝置的石膏漿供給部供給至搬送帶的過濾布上之石膏漿，有其溫度高，本身產生氣體的情況。若依據前述(2)的結構，從過濾布上的石膏漿產生而滯留於蒸氣滯留空間之蒸氣，藉由吸引裝置(84)所產生的吸引力，從形成於石膏漿供給部用罩之開口吸入至蒸氣排出配管(83A)內。被吸入到蒸氣排出配管(83A)內的蒸氣，再藉由前述吸引裝置(84)所產生的吸引力朝蒸氣排出配管(83A)的另一端側輸送。如此，藉由以蒸氣排出配管(83A)及吸引裝置(84)，將滯留於蒸氣滯留空間之蒸氣回收，可抑制滯留於蒸氣滯留空間的蒸氣從石膏漿供給部用罩與過濾布之間的間隙漏出到蒸氣滯留空間的外部而充滿於設有石膏漿的脫水設備之室內的情況。
(3)在一些實施形態，前述(1)所述的石膏漿脫水系統(1)還具備： 石膏漿供給裝置(4)，其具有可將石膏漿供給至搬送帶(32)的過濾布(31)上之石膏漿供給部(41)； 石膏漿供給部用罩(8)，其覆蓋石膏漿供給部(41)，並且在與過濾布(31)的上表面(312)之間形成有用來供自石膏漿產生的蒸氣滯留的蒸氣滯留空間(81)； 石膏漿供給部側蒸氣排出配管(83B)，其一端側連通於形成在石膏漿供給部用罩(8)的開口(82)，並且另一端側在較設在蒸氣噴出部側蒸氣排出配管(73)的吸引裝置(74)更上游側，連接於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管(73)。
若依據前述(3)的結構，因石膏漿供給部側蒸氣排出配管(83B)之另一端側是在較設置於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的吸引裝置(74)更上游側，連接於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管(73)，所以，不僅可將設在蒸氣噴出部側蒸氣排出配管之吸引裝置(74)的吸引力作用於蒸氣噴出部側蒸氣排出配管(73)內、蒸氣噴出空間(71)等，亦可作用於石膏漿供給部側蒸氣排出配管(83B)內、蒸氣滯留空間等。藉由以石膏漿供給部側蒸氣排出配管(83B)、蒸氣噴出部側蒸氣排出配管(73)及設在蒸氣噴出部側蒸氣排出配管之吸引裝置(74)，將滯留於蒸氣滯留空間之蒸氣回收，可抑制滯留於蒸氣滯留空間的蒸氣從石膏漿供給部用罩與過濾布之間的間隙漏出而充滿於設有石膏漿的脫水設備之室內的情況。若依據前述結構，因藉由設在蒸氣噴出部側蒸氣排出配管之吸引裝置(74)，能夠將滯留於蒸氣噴出部用罩之蒸氣噴出空間的乾燥用蒸氣及滯留於石膏漿供給部用罩內之蒸氣滯留空間的蒸氣進行回收，所以，可不需要在石膏漿供給部側蒸氣排出配管設置吸引裝置，可抑制蒸氣回收設備的昂貴化。
(4)在一些實施形態，前述(2)或(3)所述的石膏漿脫水系統(1)，其中， 石膏漿供給部用罩(8)包含： 前板部(85)，其沿著搬送帶(32)的寬度方向具有長度方向； 後板部(86)，其係較前板部(85)位於更靠近沿著搬送帶(32)的搬送方向之方向的上游側，並且沿著前述寬度方向具有長度方向；及 頂板部(87)，其將前板部(85)的上端部(851)與後板部(86)的上端部(861)相連。
若依據前述(4)的結構，石膏漿供給部用罩係以藉由前板部(85)、後板部(86)及頂板部(87)劃定的凹陷空間(81A)作為蒸氣滯留空間(81)的一部分，能使從石膏漿產生的蒸氣滯留於前述凹陷空間，因此，能夠抑制滯留於蒸氣滯留空間之蒸氣漏出至蒸氣滯留空間的外部。
(5)在一些實施形態，前述(4)所述的石膏漿脫水系統(1)，其中， 石膏漿供給部用罩(8)還包含： 裙邊橡膠(88A)，其安裝於前板部(85)，較前板部(85)的下端部(852)更朝下方垂下。
若依據前述(5)的結構，藉由較前板部(85)的下端部更朝下方垂下的裙邊橡膠(88A)，將石膏漿供給部用罩與過濾布(31)之間的間隙縮窄，能夠將經由間隙漏出至蒸氣滯留空間的外部之蒸氣的量減少。又，因裙邊橡膠(88A)安裝於前板部(85)，所以，在蒸氣滯留空間內，可抑制面對過濾布的蒸氣沿著搬送帶的搬送方向流動而漏出至蒸氣滯留空間的外部。
(6)在一些實施形態，前述(4)或(5)所述的石膏漿脫水系統(1)，其中， 石膏漿供給部側蒸氣排出配管(83、83A或83B)的一端側連通之開口(82)係形成於頂板部(87)。
若依據前述(6)的結構，因石膏漿供給部側蒸氣排出配管的一端側連通之開口係形成於頂板部(87)，所以，滯留於蒸氣滯留空間(81)的蒸氣，藉由吸引裝置(吸引裝置74或吸引裝置84)所產生的吸引力，從形成於頂板部(87)的開口吸入至石膏漿供給部側蒸氣排出配管內。藉由前述吸引裝置的吸引力，在蒸氣滯留空間，形成朝向上方的氣體之流動，所以，可減少從形成於下方的石膏漿供給部用罩與過濾布(31)之間的間隙，漏出至蒸氣滯留空間的外部的蒸氣之量。
(7)在一些實施形態，前述(1)至(6)中任一個所述的石膏漿脫水系統(1)，其中， 蒸氣噴出部用罩(7)包含： 前板部(75)，其沿著搬送帶的寬度方向具有長度方向； 後板部(76)，其係較前板部(75)位於更靠近沿著搬送帶(32)的搬送方向之方向的上游側，並且沿著前述寬度方向具有長度方向；及 頂板部(77)，其將前板部(75)的上端部(751)與後板部(76)的上端部(762)相連。
若依據前述(7)的結構，蒸氣噴出部用罩係以藉由前板部(75)、後板部(76)及頂板部(77)劃定的凹陷空間(71A)作為蒸氣噴出空間(71)的一部分，能使乾燥用蒸氣滯留於前述凹陷空間，因此，能夠抑制滯留於蒸氣噴出空間之蒸氣漏出至蒸氣噴出空間的外部。
(8)在一些實施形態，前述(7)所述的石膏漿脫水系統(1)，其中， 蒸氣噴出部用罩(7)還包含： 裙邊橡膠(78A)，其安裝於前板部(75)，較前板部(75)的下端部(752)更朝下方垂下。
若依據前述(8)的結構，藉由較前板部(75)的下端部更朝下方垂下的裙邊橡膠(78A)，將蒸氣噴出部用罩與過濾布(31)之間的間隙縮窄，能夠將經由前述間隙漏出至蒸氣噴出空間(71)的外部之蒸氣的量減少。又，因裙邊橡膠(78A)安裝於前板部(75)，所以，在蒸氣滯留空間內，可抑制面對過濾布的蒸氣沿著搬送帶(32)的搬送方向流動而漏出至蒸氣噴出空間的外部。
(9)在一些實施形態，前述(7)或(8)所述的石膏漿脫水系統(1)，其中， 蒸氣噴出部側蒸氣排出配管(73)的一端側所連通之開口(72)係形成於頂板部(77)。
若依據前述(9)的結構，因蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的一端側連通之開口是形成於頂板部(77)，所以，滯留於蒸氣噴出空間(71)的蒸氣，藉由吸引裝置(74)所產生的吸引力，從形成於頂板部(77)的開口吸入至蒸氣噴出部側蒸氣排出配管內。藉由吸引裝置的吸引力，在蒸氣噴出空間，形成朝向上方的氣體之流動，所以，可減少從形成於下方的蒸氣噴出部用罩與過濾布(31)之間的間隙漏出至蒸氣噴出空間的外部的蒸氣之量。
1:石膏漿脫水系統 3:搬送裝置 31:過濾布 311:被支承部 312:上表面 32:搬送帶 321:上表面 322:支承部 33,33A,33B:滾筒 34:馬達 35:導引滾子 36:脫水部 37:脫水裝置 371:脫水室 372:真空泵浦 373:減壓配管 374:真空槽 375:過濾液排出配管 38:液體儲存槽 381:內部空間 39:液體排出管線 391:液體排出配管 392:泵浦 4:石膏漿供給裝置 41:石膏漿供給部 42:配管 43:石膏排出部 44:過濾布洗淨裝置 45:過濾布洗淨液噴出部 46:過濾布洗淨液供給配管 47:泵浦 48:過濾布洗淨液承接部 49:過濾布洗淨液排出配管 5:餅洗淨裝置 51:餅洗淨液噴出部 52:餅洗淨液供給配管 53:泵浦 54:液體供給管線 541:液體供給配管 542:泵浦 6:蒸氣噴出裝置 61:蒸氣噴出部 62:蒸氣配管 7:蒸氣噴出部用罩 71:蒸氣噴出空間 71A:凹陷空間 72:開口 73:蒸氣噴出部側蒸氣排出配管 731:一端側 732:另一端側 74:(第1)吸引裝置 75:前板部 751:上端部 752:下端部 76:後板部 761:上端部 762:下端部 77:頂板部 771:插通孔 772:上表面 78A,78B:裙邊橡膠 79:緊固構件 8:石膏漿供給部用罩 81:蒸氣滯留空間 81A:凹陷空間 82:開口 83,83A,83B:石膏漿供給部側蒸氣排出配管 831:一端側 832:另一端側 84:(第2)吸引裝置 85:前板部 851:上端部 852:下端部 86:後板部 861:上端部 862:下端部 87:頂板部 871:插通孔 872:上表面 88A,88B:裙邊橡膠 89:緊固構件 10:廢氣洗淨系統 101:室內空間 102:室外空間 103:側壁 104:第1配管插通孔 105:第2配管插通孔 11:燃燒設備 12:吸收液供給管線 121:吸收液儲存槽 122:內部空間 123:吸收液供給配管 124:供給泵浦 13:吸收液循環管線 131:吸收液循環配管 132:循環泵浦 133:第1分歧部 14:吸收液排出管線 141:配管 142:調整閥 143:第2分歧部 15:吸收液回送管線 151:吸收液回送配管 16:廢氣處理設備 20:排煙脫硫裝置 20A:吸收塔 21:內部空間 21A:氣液接觸部 21B:液體儲存部 22:吸收塔本體 221:吸收液排出口 222:噴嘴插通口 223:吸收液供給口 224:吸收液回送口 23:廢氣導入口 24:廢氣排出口 25:霧氣清除機 26:噴霧裝置 261:噴霧管 262:噴霧噴嘴 263:噴霧口 27:氧化用氣體供給裝置 271:噴嘴 272:泵浦 273:吐出口 GS:石膏漿
[圖1]係示意地顯示具備本發明的一實施形態之石膏漿脫水系統的廢氣洗淨系統之全體結構的示意構成圖。 [圖2]係示意地顯示具備本發明的一實施形態之石膏漿脫水系統的全體結構之示意構成圖。 [圖3]係示意地顯示具備本發明的一實施形態之石膏漿脫水系統的全體結構之示意構成圖。 [圖4]係示意地顯示本發明的一實施形態之石膏漿脫水系統的蒸氣噴出部用罩附近之沿著搬送帶的搬送方向之剖面的示意剖面圖。 [圖5]係示意地顯示從上方觀看圖4所示的石膏漿脫水系統之蒸氣噴出部用罩附近的狀態之示意平面圖。 [圖6]係示意地顯示本發明的一實施形態之石膏漿脫水系統的石膏漿供給部用罩附近之沿著搬送帶的搬送方向之剖面的示意剖面圖。 [圖7]係示意地顯示從上方觀看圖6所示的石膏漿脫水系統之石膏漿供給部用罩附近的狀態之示意平面圖。
1:石膏漿脫水系統
3:搬送裝置
4:石膏漿供給裝置
5:餅洗淨裝置
6:蒸氣噴出裝置
7:蒸氣噴出部用罩
8:石膏漿供給部用罩
12:吸收液供給管線
16:廢氣處理設備
31:過濾布
32:搬送帶
33,33A,33B:滾筒
34:馬達
35:導引滾子
36:脫水部
37:脫水裝置
38:液體儲存槽
39:液體排出管線
41:石膏漿供給部
42:配管
43:石膏排出部
44:過濾布洗淨裝置
45:過濾布洗淨液噴出部
46:過濾布洗淨液供給配管
47:泵浦
48:過濾布洗淨液承接部
49:過濾布洗淨液排出配管
51:餅洗淨液噴出部
52:餅洗淨液供給配管
53:泵浦
54:液體供給管線
61:蒸氣噴出部
62:蒸氣配管
71:蒸氣噴出空間
72:開口
73:蒸氣噴出部側蒸氣排出配管
74:(第1)吸引裝置
81:蒸氣滯留空間
82:開口
83,83A:石膏漿供給部側蒸氣排出配管
84:(第2)吸引裝置
101:室內空間
102:室外空間
103:側壁
104:第1配管插通孔
105:第2配管插通孔
121:吸收液儲存槽
122:內部空間
141:配管
142:調整閥
311:被支承部
312:上表面
321:上表面
322:支承部
371:脫水室
372:真空泵浦
373:減壓配管
374:真空槽
375:過濾液排出配管
381:內部空間
391:液體排出配管
392:泵浦
541:液體供給配管
542:泵浦
731:一端側
732:另一端側
831:一端側
832:另一端側

Claims (6)

  1. 一種石膏漿脫水系統，係用來將在排煙脫硫裝置產生的石膏漿脫水之石膏漿脫水系統，其特徵為具備：搬送裝置，其係具有將前述石膏漿載置於過濾布上之狀態進行搬送的搬送帶；蒸氣噴出裝置，其係具有可噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出部，該蒸氣噴出部是對前述搬送帶配置於上方；蒸氣噴出部用罩，其係覆蓋前述蒸氣噴出部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成用來噴出乾燥用蒸氣之蒸氣噴出空間；蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成在前述蒸氣噴出部用罩之開口；第1吸引裝置，其係設置成連接於前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的另一端側；石膏漿供給裝置，其係具有可將前述石膏漿供給至前述搬送帶的前述過濾布上之石膏漿供給部；石膏漿供給部用罩，其係覆蓋前述石膏漿供給部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成有用來供自前述石膏漿產生的蒸氣滯留的蒸氣滯留空間；石膏漿供給部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成在前述石膏漿供給部用罩之開口；及第2吸引裝置，其係設置成連接於前述石膏漿供給部側蒸氣排出配管的另一端側， 前述石膏漿供給部用罩包含：前板部，其係沿著前述搬送帶的寬度方向具有長度方向；後板部，其係較前述前板部位於更靠近沿著前述搬送帶的搬送方向之方向的上游側，並且沿著前述寬度方向具有長度方向；頂板部，其係將前述前板部的上端部與前述後板部的上端部相連結；及裙邊橡膠，其係安裝於前述前板部，較前述前板部的下端部更朝下方垂下。
  2. 一種石膏漿脫水系統，係用來將在排煙脫硫裝置產生的石膏漿脫水之石膏漿脫水系統，其特徵為具備：搬送裝置，其係具有將前述石膏漿載置於過濾布上之狀態進行搬送的搬送帶；蒸氣噴出裝置，其係具有可噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出部，該蒸氣噴出部是對前述搬送帶配置於上方；蒸氣噴出部用罩，其係覆蓋前述蒸氣噴出部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成用來噴出乾燥用蒸氣之蒸氣噴出空間；蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成在前述蒸氣噴出部用罩之開口；第1吸引裝置，其係設置成連接於前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的另一端側； 石膏漿供給裝置，其係具有可將前述石膏漿供給至前述搬送帶的前述過濾布上之石膏漿供給部；石膏漿供給部用罩，其係覆蓋前述石膏漿供給部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成有用來供自前述石膏漿產生的蒸氣滯留的蒸氣滯留空間；及石膏漿供給部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成在前述石膏漿供給部用罩的開口，並且另一端側在較設在前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的前述第1吸引裝置更上游側，連接於前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，前述石膏漿供給部用罩包含：前板部，其係沿著前述搬送帶的寬度方向具有長度方向；後板部，其係較前述前板部位於更靠近沿著前述搬送帶的搬送方向之方向的上游側，並且沿著前述寬度方向具有長度方向；頂板部，其係將前述前板部的上端部與前述後板部的上端部相連結；及裙邊橡膠，其係安裝於前述前板部，較前述前板部的下端部更朝下方垂下。
  3. 一種石膏漿脫水系統，係用來將在排煙脫硫裝置產生的石膏漿脫水之石膏漿脫水系統，其特徵為具備：搬送裝置，其係具有將前述石膏漿載置於過濾布上之狀態進行搬送的搬送帶； 蒸氣噴出裝置，其係具有可噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出部，該蒸氣噴出部是對前述搬送帶配置於上方；蒸氣噴出部用罩，其係覆蓋前述蒸氣噴出部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成用來噴出乾燥用蒸氣之蒸氣噴出空間；蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成在前述蒸氣噴出部用罩之開口；第1吸引裝置，其係設置成連接於前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的另一端側；石膏漿供給裝置，其係具有可將前述石膏漿供給至前述搬送帶的前述過濾布上之石膏漿供給部；石膏漿供給部用罩，其係覆蓋前述石膏漿供給部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成有用來供自前述石膏漿產生的蒸氣滯留的蒸氣滯留空間；石膏漿供給部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成在前述石膏漿供給部用罩之開口；及第2吸引裝置，其係設置成連接於前述石膏漿供給部側蒸氣排出配管的另一端側，前述石膏漿供給部用罩包含：前板部，其係沿著前述搬送帶的寬度方向具有長度方向；後板部，其係較前述前板部位於更靠近沿著前述搬送帶的搬送方向之方向的上游側，並且沿著前述寬度方向具有長度方向；及 頂板部，其係將前述前板部的上端部與前述後板部的上端部相連結，前述石膏漿供給部側蒸氣排出配管之前述一端側所連通的前述開口，係形成於前述頂板部。
  4. 一種石膏漿脫水系統，係用來將在排煙脫硫裝置產生的石膏漿脫水之石膏漿脫水系統，其特徵為具備：搬送裝置，其係具有將前述石膏漿載置於過濾布上之狀態進行搬送的搬送帶；蒸氣噴出裝置，其係具有可噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出部，該蒸氣噴出部是對前述搬送帶配置於上方；蒸氣噴出部用罩，其係覆蓋前述蒸氣噴出部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成用來噴出乾燥用蒸氣之蒸氣噴出空間；蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成在前述蒸氣噴出部用罩之開口；第1吸引裝置，其係設置成連接於前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的另一端側；及石膏漿供給裝置，其係具有可將前述石膏漿供給至前述搬送帶的前述過濾布上之石膏漿供給部；石膏漿供給部用罩，其係覆蓋前述石膏漿供給部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成有用來供自前述石膏漿產生的蒸氣滯留的蒸氣滯留空間；石膏漿供給部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形 成在前述石膏漿供給部用罩的開口，並且另一端側在較設在前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的前述第1吸引裝置更上游側，連接於前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，前述石膏漿供給部用罩包含：前板部，其係沿著前述搬送帶的寬度方向具有長度方向；後板部，其係較前述前板部位於更靠近沿著前述搬送帶的搬送方向之方向的上游側，並且沿著前述寬度方向具有長度方向；及頂板部，其係將前述前板部的上端部與前述後板部的上端部相連結，前述石膏漿供給部側蒸氣排出配管之前述一端側所連通的前述開口，係形成於前述頂板部。
  5. 一種石膏漿脫水系統，係用來將在排煙脫硫裝置產生的石膏漿脫水之石膏漿脫水系統，其特徵為具備：搬送裝置，其係具有將前述石膏漿載置於過濾布上之狀態進行搬送的搬送帶；蒸氣噴出裝置，其係具有可噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出部，該蒸氣噴出部是對前述搬送帶配置於上方；蒸氣噴出部用罩，其係覆蓋前述蒸氣噴出部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成用來噴出乾燥用蒸氣之蒸氣噴出空間；蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成 在前述蒸氣噴出部用罩之開口；第1吸引裝置，其係設置成連接於前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的另一端側，前述蒸氣噴出部用罩包含：前板部，其係沿著前述搬送帶的寬度方向具有長度方向；後板部，其係較前述蒸氣噴出部用罩的前述前板部位於更靠近沿著前述搬送帶的搬送方向之方向的上游側，並且沿著前述寬度方向具有長度方向；頂板部，其係將前述蒸氣噴出部用罩的前述前板部的上端部與前述蒸氣噴出部用罩的前述後板部的上端部相連結；及裙邊橡膠，其係安裝於前述蒸氣噴出部用罩的前述前板部，較前述蒸氣噴出部用罩的前述前板部的下端部更朝下方垂下。
  6. 一種石膏漿脫水系統，係用來將在排煙脫硫裝置產生的石膏漿脫水之石膏漿脫水系統，其特徵為具備：搬送裝置，其係具有將前述石膏漿載置於過濾布上之狀態進行搬送的搬送帶；蒸氣噴出裝置，其係具有可噴出乾燥用蒸氣的蒸氣噴出部，該蒸氣噴出部是對前述搬送帶配置於上方；蒸氣噴出部用罩，其係覆蓋前述蒸氣噴出部，並且在與前述過濾布的上表面之間形成用來噴出乾燥用蒸氣之蒸 氣噴出空間；蒸氣噴出部側蒸氣排出配管，其係一端側連通於形成在前述蒸氣噴出部用罩之開口；第1吸引裝置，其係設置成連接於前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管的另一端側，前述蒸氣噴出部用罩包含：前板部，其係沿著前述搬送帶的寬度方向具有長度方向；後板部，其係較前述蒸氣噴出部用罩的前述前板部位於更靠近沿著前述搬送帶的搬送方向之方向的上游側，並且沿著前述寬度方向具有長度方向；及頂板部，其係將前述蒸氣噴出部用罩的前述前板部的上端部與前述蒸氣噴出部用罩的前述後板部的上端部相連結，前述蒸氣噴出部側蒸氣排出配管之前述一端側所連通的前述開口，係形成於前述蒸氣噴出部用罩的前述頂板部。
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