JP2011176116A - レーザ媒質及びレーザ加工装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レーザ媒質3に入射された被増幅光1aがトップハット形状のエネルギ分布に成形されたレーザビーム3aとして出射されるように、前記レーザ媒質3の母材中に添加する希土類イオンのドープ濃度を、前記レーザ媒質3の光軸3bの方向と交差する断面31の中心部32よりも周縁部33に近づく程より高くなるよう分布させた構成のレーザ媒質3である。この均質化されたレーザビーム3aを被加工物に照射して加工を施すレーザ加工装置を使用する。
【効果】 レーザヘッドと被加工物の間の距離が変化した場合でも被加工物の照射面で均一なエネルギ分布が得られる。
【選択図】 図1
Description
レーザ媒質に入射された被増幅光がトップハット形状のエネルギ分布に成形されたレーザビームとして出射されるように、前記レーザ媒質の母材中に添加する希土類イオンのドープ濃度を前記レーザ媒質の光軸方向と交差する断面の中心部よりも周縁部に近づく程より高くなるよう分布させたことを最も主要な特徴点としている。
上記構成の本発明のレーザ媒質を備えたレーザ増幅器と、前記レーザ媒質に入射させる被増幅光を出射するレーザ発振器とを備え、前記レーザ媒質の周囲に前記レーザ媒質に励起光を導入する励起源を設けたものである。
前記レーザ発振器から出射された被増幅光を反射して前記レーザ媒質に入射させるミラーと、前記レーザ媒質が前記励起光によって励起されたときに前記レーザ媒質から出射されるトップハット形状のエネルギ分布に成形されたレーザビームを集光し、被加工物に照射する集光レンズとを、さらに備えた構成とすることができる。
1a 被増幅光
2 レーザ増幅器
3 レーザ媒質
3a 成形されたレーザビーム
3b 光軸
31 交差する断面
32 中心部
33 周縁部
4 励起源
5 ミラー
6 集光レンズ
7 被加工物
Claims (3)
- レーザ媒質に入射された被増幅光がトップハット形状のエネルギ分布に成形されたレーザビームとして出射されるように、前記レーザ媒質の母材中に添加する希土類イオンのドープ濃度を前記レーザ媒質の光軸方向と交差する断面の中心部よりも周縁部に近づく程より高くなるよう分布させたことを特徴とするレーザ媒質。
- 請求項1に記載のレーザ媒質を備えたレーザ増幅器と、前記レーザ媒質に入射させる被増幅光を出射するレーザ発振器とを備え、前記レーザ媒質の周囲に前記レーザ媒質に励起光を導入する励起源を設けたことを特徴とするレーザ加工装置。
- 前記レーザ発振器から出射された被増幅光を反射して前記レーザ媒質に入射させるミラーと、前記レーザ媒質が前記励起光によって励起されたときに前記レーザ媒質から出射されるトップハット形状のエネルギ分布に成形されたレーザビームを集光し、被加工物に照射する集光レンズとを、さらに備えたことを特徴とする請求項2に記載のレーザ加工装置。
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2010
- 2010-02-24 JP JP2010039007A patent/JP2011176116A/ja active Pending
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