JP2011158242A - 原料焼成装置及び原料焼成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】原料貯留層4から切出された原料を予熱炉9に設けた原料貯留分配部10に供給し、この原料貯留分配部10で分配された原料を回転駆動される炉床11に堆積させて一次焼成し、一次焼成した原料を複数のプッシャー17で排出孔16に落下させることにより、ロータリキルン20に投入して二次焼成する。このとき、原料貯留層4から原料をロータリキルン20の目標投入量で切出し、原料貯留分配部10の原料レベルを超音波レベル計54で検出し、検出した原料レベルが所定範囲を維持するように制御する。さらに原料貯留分配部10の原料レベルのレベル変化量に基づいてプッシャー17の駆動間隔を制御して、ロータリキルン20への原料投入量を定量制御する。
【選択図】図1
Description
そこで、本発明は、上記従来例の未解決の課題に着目してなされたものであり、予熱炉及び回転炉への原料投入量を最適状態に制御することができる原料焼成装置及び原料焼成方法を提供することを目的としている。
前記予熱炉は上部に形成した前記原料貯留槽から供給される原料を受けて前記炉床に分配供給する原料貯留分配部と、前記炉床で受けた原料を前記回転炉側に落下させるように押し出す当該炉床の円周方向に配設された複数のプッシャーと、前記原料貯留分配部内の原料レベルを検出する原料レベル検出手段と、前記原料貯留槽から切出される原料の目標切出量を前記回転炉の目標投入量に設定するとともに、前記原料レベル検出手段で検出した原料レベルが所定範囲となるように制御し、さらに前記複数のプッシャーの押し出しタイミングを前記原料レベル検出手段で検出した原料レベルのレベル変化量に基づいて制御する原料制御手段とを備えたことを特徴としている。
さらに、請求項3に係る原料焼成装置は、請求項1又は2に係る発明において、前記原料貯留槽が、下部に原料切り出し量を制御する原料切り出し機構が配設され、該原料切り出し機構から切り出した原料を水平搬送手段及び垂直搬送手段を介して前記原料貯留分配部に供給するようにしたことを特徴としている。
なおさらに、請求項5に係る原料焼成装置は、請求項1乃至4の何れかの発明において、前記原料制御手段は、前記プッシャーが少なくとも一通り押し出し駆動される押し出し制御終了時の原料レベルと前回押し出し制御終了時の原料レベルとのレベル変化量と、目標レベルと前記押し出し制御終了時の原料レベルとの目標レベル偏差とに基づいて原料押し出しタイミングの修正時間を算出する修正時間算出手段を有することを特徴としている。
さらに、請求項3に係る発明によれば、原料貯留槽が原料切り出し機構によって原料の切り出し量を制御し、この原料切り出し機構から切り出された原料を水平搬送手段及び垂直搬送手段を介して原料貯留分配部に供給するので、高所に配設される原料貯留分配部に原料を安定供給することができるという効果が得られる。
なおさらに、請求項5に係る発明によれば、前回の原料レベルと今回の原料レベルとのレベル変化量と、目標レベルと今回の原料レベルとの目標レベル偏差とに基づいて原料押し出しタイミングの修正時間を算出するので、原料レベルの比例及び積分制御を行って回転炉に対する原料投入量を適正に制御することができるという効果が得られる。
図1は本発明に係る原料焼成装置を示すシステム構成図であって、図中、1は焼成を行う石灰石やドロマイト等の粒塊状の原料を貯留する原料ホッパーであって、この原料ホッパー1から切り出された原料が水洗篩2で篩分けされて粒径の大きい原料がベルトコンベヤ3によって原料貯留槽4に投入される。この原料貯留槽4は、下部に原料の切り出し量を制御可能なフィーダー5を有し、このフィーダー5で切り出された原料が水平コンベヤ6を介し、さらにバケットコンベヤで構成される垂直コンベヤ7を介し、この垂直コンベヤ7の上端から排出される原料が投入シュート8を介して予熱炉9に供給される。
この制御装置40は、ディスプレイ41に図3に示す焼成装置監視操作画面を表示し、この焼成装置監視操作画面に現在の操業状況を表示すると共に、焼成装置監視操作画面に表示されている操作部を指示することにより、操作部に対応した操作画面を表示する。
そして、運転監視操作画面に設けられた各指示部83〜88の何れか1つに例えばマウス42を操作することによってカーソルを移動させてから例えば左クリックを行うことにより、各指示部83〜88に対応する指示操作が実行される。
この原料投入量制御処理は、制御装置40に電源が投入されることにより実行開始され、先ず、ステップS1で、前述した立ち上げ画面指示部85に対して指示操作が行われて、所定の昇温パターンでロータリキルン20を昇温する立ち上げ制御処理が実行され、この立ち上げ制御処理でロータリキルン20の温度が所定温度(例えば1200℃)に達したときに、出力される原料投入制御開始指令が入力されたか否かを判定し、原料投入制御開始指令が入力されていないときには原料投入制御開始指令が入力されるまで待機し、原料投入制御開始指令が入力されたときには、ステップS2に移行して、前述した吹き降ろし画面指示部86に対して指示操作が行われて、所定の降温処理でロータリキルン20を降温する吹き降ろし処理が実行されたときに、この吹き降ろし処理時に出力される原料投入停止指令が入力されたか否かを判定し、原料投入停止指令が入力されたときには前記ステップS1に戻り、原料投入停止指令が入力されていないときにはステップS3に移行する。
この通常原料投入制御処理は、図7に示すように、先ず、ステップS21で、吹き降ろし処理時に出力される原料投入停止指令が入力されたか否かを判定し、原料投入停止指令が入力されたときには通常原料投入制御処理を終了して図6の原料投入量制御処理に復帰し、原料投入停止指令が入力されていないときにはステップS22に移行する。
このステップS28では、サイクル数NをインクリメントしてからステップS29に移行して炉床11を所定角度分回動させ、次いでステップS30に移行して、プッシャーのサイクル数Nが後述するプッシャータイマの設定時間を変更した場合の変更時間に応じて設定される保持する保持サイクル数Nsに達したか否かを判定し、N<Nsであるときには前記ステップS21に戻り、N=NsであるときにステップS31に移行して、サイクル数Nを“0”にクリアしてからステップS32に移行する。
このステップS33では、今回の原料レベルL(n) から前回の原料レベルL(n-1) を減算した値の絶対値(|L(n) −L(n-1) |)をレベル変化量ΔLとして算出し、次いでステップS34に移行して、レベル変化量ΔLが所定値ΔLs(例えば2%)未満であるか否かを判定し、ΔL<ΔLsであるときには原料レベルが殆ど変化しないものと判断してステップS35に移行し、保持サイクル数Nsを“1”に設定してから前記ステップS21に戻り、ΔL≧ΔLsであるときにはステップS36に移行する。
X=(L(n) −L(n-1) )+{(Lt−L(n) )/A)}×0.2 …………(1)
次いで、ステップS43に移行して、算出されたプッシャータイマ修正時間Xの絶対値|X|が設定値Xs(例えば4秒)を超えているか否かを判定し、|X|>XsであるときにはステップS44に移行して、X=XsとしてからステップS45に移行し、|X|≦XsであるときにはそのままステップS45に移行する。
この図6及び図7の処理が原料制御手段に対応し、図7のステップS34乃至S42の処理が修正時間算出手段に対応し、ステップS28、S30、S45〜S52処理が修正保持手段に対応している。
今、原料貯留層4のフィーダー5、水平コンベヤ6、垂直コンベヤ7、予熱炉9、ロータリキルン20、調湿塔30、電気集塵機31及び主排風機32が停止して、原料焼成システムが停止しているものとし、この状態で、制御装置40に電源を投入すると、表示制御処理が実行開始される。
この原料焼成システムの停止状態からシステムを立ち上げるには、マウス42を操作してディスプレイ41に表示されている運転監視操作画面に表示されている立ち上げ画面指示部85にカーソルを移動させ、この状態で、左クリックすることにより、立ち上げ画面指示部85を選択すると、立ち上げ処理が実行開始される。
この立ち上げ処理では、図4に示す立ち上げ監視操作画面が表示され、昇温設定条件を設定する条件表示部92に予め設定された昇温設定条件即ち例えば750℃までの昇温時間及び昇温率と1000℃までの昇温時間及び昇温率とが表示され、その下側のトレンドグラフ表示部91にロータリキルン20の温度変化が表示される。
このプッシャー17Sによる押し出し量即ちロータリキルン20への原料投入量が原料貯留分配部10に供給される原料供給量と一致すれば、超音波レベル計54で検出される原料貯留分配部10の原料レベルLが目標レベルLtを細かな変動はあるが略維持することができる。
このとき、サイクル数Nが初期設定時に“1”に設定された保持サイクル数Nsに一致すると、サイクル数Nを“0”にクリアし(ステップS31)、次いで前回の原料レベルL(n) を前回原料レベルL(n-1) として記憶すると共に、今回の原料レベルLを読込んで、これを今回の原料レベルL(n) として記憶する(ステップS32)。
このとき、算出した目標レベル偏差ΔLtの大きさによって、レベル変化値Aを設定する。このレベル変化値Aは目標レベル偏差ΔLtが一番大きな値の第1の設定値ΔLt1以上であるときには“2”に設定され(ステップS38)、この第1の設定値ΔLt1より小さい第2の設定値ΔLt2以上であるときには“4”に設定され(ステップS40)、第2の設定値ΔLt2未満であるときには“6”に設定される(ステップS41)。
算出したプッシャータイマ修正時間Xの絶対値|X|が予め設定した設定時間Xs(例えば4秒)より長いときには、プッシャータイマ修正時間Xを設定時間Xsに制限し(ステップS44)、このプッシャータイマ修正時間Xを基準設定時間Tsに加算してプッシャータイマの設定時間Tを算出する(ステップS45)。
さらに、算出されたプッシャータイマ修正時間Xの大きさが大きくなるに従って、保持サイクル数Nsも順次“1”から“4”まで増加することになり、プッシャータイマの設定時間Tが変更された場合にプッシャータイマ修正時間Xが大きくなる程変更されたプッシャータイマの設定時間Tを維持するプッシャー17Sのサイクル数が増加することになり、原料投入量の修正幅も大きくなってロータリキルン20への投入量を素早く修正する所謂微分制御を行うことができる。
また、通常操業状態で、製品温度のトレンドグラフを表示したい場合には、製品温度トレンド指示部88をマウス42によって選択することにより、図11に示すように、製品温度のトレンドグラフをキルン運転監視操作画面の左下側に表示することができ、製品温度の推移を一目瞭然に表示することができ、オペレータが容易に視認することができる。
さらに、上記実施形態においては、ロータリキルン20の燃焼用バーナ22に燃焼用ガスを供給する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、重油、石炭等の他の液体又は固体燃料を使用するようにしてもよい。
さらにまた、上記実施形態においては、ストロークの短いプッシャー17Sを1つずつ順次押し出し駆動する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、複数のプッシャー17Sを同時に押し出し駆動するようにしてもよい。この場合には、プッシャータイマの設定時間Tを、プッシャー17Sを1つずつ押し出し駆動する場合の複数倍とすればよく、ロータリキルン20への原料投入量が間欠的に変化することになるが、所定時間当たりの原料投入量の変化は抑制することができる。同様に、ストロークの長いプッシャー17Lを順次押し出し駆動するようにしてもよい。
また、上記実施形態においては、原料貯留分配部10の原料レベルを目標原料レベルLtを維持するように制御する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、目標原料レベルLtに許容範囲を設け、この許容範囲を維持するように原料レベルを制御するようにしてもよい。
Claims (8)
- 鉛直線を中心として回転する環状の炉床上に外部の原料貯留槽から切り出されて供給される粒塊状の原料を受ける予熱炉と、該予熱炉に連通して前記炉床から落下する原料を回転胴内に受け、当該回転胴の回転に伴って原料を排出部に移動させる回転炉とを備えた原料焼成装置において、
前記予熱炉は上部に形成した前記原料貯留槽から供給される原料を受けて前記炉床に分配供給する原料貯留分配部と、前記炉床で受けた原料を前記回転炉側に落下させるように押し出す当該炉床の円周方向に配設された複数のプッシャーと、前記原料貯留分配部内の原料レベルを検出する原料レベル検出手段と、前記原料貯留槽から切出される原料の目標切出量を前記回転炉の目標投入量に設定するとともに、前記原料レベル検出手段で検出した原料レベルが所定範囲となるように制御し、さらに前記複数のプッシャーの押し出しタイミングを前記原料レベル検出手段で検出した原料レベルのレベル変化量に基づいて制御する原料制御手段とを備えたことを特徴とする原料焼成装置。 - 前記原料レベル検出手段は、原料貯留分配部の頂部内に配設した超音波距離センサで構成されていることを特徴とする請求項1に記載の原料焼成装置。
- 前記原料貯留槽は、下部に原料切り出し量を制御する原料切り出し機構が配設され、該原料切り出し機構から切り出した原料を水平搬送手段及び垂直搬送手段を介して前記原料貯留分配部に供給するようにしたことを特徴とする請求項1又は2に記載の原料焼成装置。
- 前記原料制御手段は、前記プッシャーを順次作動させるための作動間隔を設定して原料押し出しタイミングを制御するプッシャータイマの設定時間の間隔で当該プッシャーを順番に1つずつ押し出し制御するように構成されていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1つに記載の原料焼成装置。
- 前記原料制御手段は、前記プッシャーが少なくとも一通り押し出し駆動される押し出し制御終了時の原料レベルと前回押し出し制御終了時の原料レベルとのレベル変化量と、目標レベルと前記押し出し制御終了時の原料レベルとの目標レベル偏差とに基づいて原料押し出しタイミングの修正時間を算出する修正時間算出手段を有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1つに記載の原料焼成装置。
- 前記原料制御手段は、前記プッシャーが一通り押し出し駆動される1サイクル分の押し出し制御を保持サイクル数行った押し出し制御終了時の原料レベルと前回押し出し制御終了時の原料レベルとのレベル変化量と、目標レベルと前記押し出し制御終了時の原料レベルとの目標レベル偏差とに基づいて原料押し出しタイミングの修正時間を算出する修正時間算出手段と、該修正時間算出手段で算出した修正時間に基づいて前記保持サイクル数を設定する修正保持手段とを有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1つに記載の原料焼成装置。
- 前記修正時間算出手段は、前記レベル変化量と、前記目標レベル偏差と、該目標レベル偏差を除算するレベル変化値とに基づいて原料押し出しタイミングの修正時間を算出し、前記レベル変化値を目標レベル偏差の大きさに応じて変更するように構成されていることを特徴とする請求項5又は6に記載の原料焼成装置。
- 原料貯留槽から切り出した粒塊状の原料を、鉛直線を中心として回転する環状の炉床を有する予熱炉で予熱してから回転胴を有する回転炉に投入して焼成するようにした原料焼成方法において、
前記予熱炉の上部に前記原料貯留槽から供給される原料を受けて前記炉床に分配供給する原料貯留分配部を形成すると共に、前記炉床で受けた原料を前記回転炉側に落下させるように押し出す複数のプッシャーを当該炉床の円周方向に配設し、前記原料貯留槽から切出される原料の切出量を前記回転炉の目標投入量に設定するとともに、原料レベルが所定範囲となるように制御し、さらに前記複数のプッシャーの原料押し出しタイミングを前記原料貯留分配部での原料レベルのレベル変化量に基づいて制御することを特徴とする原料焼成方法。
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