JP2011143563A - 昇華性転写シート - Google Patents

Abstract

【課題】基体シートのガラス転移温度が低い場合であっても、被転写物に鮮映性の高い加飾を施すことができると同時に、所望のパターン形状を被転写物に転写できる昇華性転写シートを提供することにある。
【解決手段】昇華性転写シートが、基体シートと、前記基体シートの上に形成されるマスキング層と、前記マスキング層の上に形成される昇華性インキ層とを備える昇華性転写シートであって、前記マスキング層のガラス転移温度が１００℃〜１７０℃、分子量が２００００〜１０００００であるセルロースアセテートブチレートから構成されるようにした。
【選択図】図１

Description

本発明は、昇華性転写技術に関し、より詳しくは、被転写物に所望の印刷パターンを形成することのできる昇華性転写シートに関する。

昇華性転写シートを用いてプラスチック部品や金属部材、またはセラミックからなる被転写物の表面を加飾する方法は従来から知られている。昇華性転写シートは、ペットフィルムなどからなる基体シート上に昇華性インキ層が設けられた構成であり、上記昇華性インキ層が被転写物に転写されることにより、上記被転写物の表面に加飾が施される。

昇華性転写シートとしては、基体シートと、バインダー樹脂層と、昇華性インキ層とを備えたものが従来から知られている。

例えば、特許文献１には、基体シートと、バインダー樹脂層と、昇華性インキ層からなる昇華性転写シートが記載されている。

また、この昇華性転写シートでは、バインダー樹脂層によって、昇華性インキ層が昇華性転写シートに固定されている。

しかし、上記昇華性転写シートを用いると、昇華性インキ層が、基体シートや、基体シートが接している機材（例えば、金型のキャビティー面）にも転写されてしまう。その結果、被転写物に十分な量の昇華性インキ層を転写させることができないので、鮮映性の高い加飾を被転写物に施すことが困難となるという問題があった。

特許文献２には、上記問題を解決するために、マスキング層を備えた昇華性転写シートが記載されている。この転写シートは、マスキング層を備えているため、昇華性インキ層が被転写物以外の物品に転写されることを抑制することができる。その結果、特許文献１の昇華性転写シートを使用した場合と比較して、鮮映性の高い加飾を被転写物に施すことができる。

しかし、上記転写シートにおいて、基体シートがガラス転移温度の低い材料から構成される場合、昇華性インキ層の一部が基体シートにも転写されてしまう。その結果、十分な量の昇華性インキ層が被転写物に転写されないため、鮮映性の高い加飾を被転写物に施すことができないという問題があった。

また、特許文献３には、セルロースアセテートブチレートと、昇華性インキと、ポリビニルアセタール樹脂とからなる昇華性インキ層を備えた昇華性転写シートが記載されている。ここでポリビニルアセタール樹脂は、昇華性インキとセルロースアセテートブチレートとの親和性を向上させる部材として上記昇華性インキ層に入れられている。

しかし、ポリビニルアセタール樹脂は熱に弱いため、特許文献３の転写シートを使用して被転写物に転写を行うと、転写時にかかる熱でポリビニルアセタール樹脂が変質してしまう。その結果、変質したポリビニルアセタール樹脂が、昇華性インキの被転写物への転写を阻害するので、所望のパターンを被転写物に転写することができないという問題があった。

特開２００２−６７５１９ 特開平６−２４７０５８ 特開２００７−３３１１８０

本発明は、上記問題を解決するものであり、その目的とするところは、基体シートのガラス転移温度が低い場合であっても、被転写物に鮮映性の高い加飾を施すことができると同時に、所望のパターン形状を上記被転写物に転写できる昇華性転写シートを提供することにある。

本発明に係る昇華性転写シートの第１の特徴構成は、基体シートと、上記基体シートの上に形成されるマスキング層と、上記マスキング層の上に形成される昇華性インキ層とを備える昇華性転写シートであって、上記マスキング層のガラス転移温度が１００℃〜１７０℃、分子量が２００００〜１０００００であるセルロースアセテートブチレートから構成される点にある。

このように昇華性転写シートが構成されることにより、マスキング層が昇華性インキ層の基体シート等への転写を抑制するので、被転写物に鮮映性の高い加飾を施すことができる。

本発明に係る昇華性転写シートの第２の特徴構成は、上記マスキング層が、セルロースアセテートブチレートとフィラーから構成され、上記セルロースアセテートブチレートのマスキング層に占める割合が５０重量％〜７０重量％、フィラーの占める割合が３０重量％〜５０重量％から構成される点にある。

このように昇華性転写シートが構成されることにより、マスキング層の緻密性が向上する。その結果、昇華性インキ層がマスキング層に転写するのを抑制することができるので、全ての昇華性インキ層を被転写物に転写できるようになる。その結果、この昇華性転写シートを用いて被転写物に転写を行うと、被転写物に極めて鮮映性の高い加飾を行うことができる。

本発明に係る昇華性転写シートの第３の特徴構成は、上記マスキング層の厚さが１０〜４０μｍとなるよう構成される点にある。

このように昇華性転写シートが構成されることにより、マスキング層が一定の柔軟性を有するようになる。よって、昇華性転写シートを被転写物の形状に追従させることができるようになるので、昇華性インキ層を被転写物の形状に合わせて転写することができる。その結果、被転写物の形状が３次元形状のような複雑な形状であっても、昇華性インキ層を被転写物に転写することができる。

本発明に係る昇華性転写シートの第４の特徴構成は、上記マスキング層と上記昇華性インキ層との間にバインダー層が形成されるよう構成される点にある。

このように昇華性転写シートが構成されることにより、昇華性インキ層をバインダー層で保持することができるようになる。よって、昇華性インキ層にパターン形状が形成された場合であっても、そのパターン形状をバインダー層で確実に保持することができるようになるので、所望のパターン形状を被転写物に施すことができる。その結果、本発明の昇華性転写シートを使用すると、極めて鮮映性の高い加飾を所望のパターン形状で被転写物に行うことができる。

本発明の一実施形態である転写シートの構造を示す断面図である。 本発明の一実施形態である転写シートの構造を示す断面図である。 本発明の一実施形態である転写シートの実施に係る断面図である。 本発明の一実施形態に係るアルミニウム成形品の評価方法を示す図である。 本発明の一実施形態に係るアルミニウム成形品の評価を示す図である。

昇華性転写シート
図１は本発明の一実施形態である昇華性転写シート１００の構造を示す断面図である。図１を参照して、基体シート１の片面にマスキング層２が形成されており、マスキング層２の上には昇華性インキ層３が形成されている。

基体シート
基体シート１は、マスキング層２、昇華性インキ層３を昇華性転写シート１００上に固定するためのものである。この基体シートは、熱可塑性で、ある程度の耐熱性と強度を有すれば公知材料のものを使用できる。例えばポリエチレンテレフタレート、１．４ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニレンサルファイド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリサルホン、アラミド、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、セロハン、ポリエチレン、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ナイロン、ポリイミド、アイオノマー等の樹脂フィルムが使用される。その他に、コンデンサー紙、パラフィン紙等の紙類や不織布等、または紙や不織布と樹脂との複合体を使用してもよい。

基体シートとしては、機械的強度、耐熱性等の観点から、特にポリエチレンテレフタラートフィルムが好ましい。また、基体シートのマスキング層を形成する面には、マスキング層のレベリング性や密着性を向上させるため、ポリエステルやアクリル等の樹脂を主成分とする易接着層を設けたり、コロナ放電、プラズマ放電等による表面改質等を行ったりしてもよい。基体シートの厚さとしては、１０〜２００μｍ、好ましくは５０〜１２５μｍである。

マスキング層
マスキング層は、昇華性インキ層が、基体シートや基体シートが接している機材などに転写されるのを抑制する層である。

マスキング層は、耐熱性樹脂からなることが好ましい。マスキング層が耐熱性樹脂からなると、マスキング層が密となる。その結果、転写するときに昇華インキ層がマスキング層を透過して、昇華インキ層がマスキング層の下に形成されている基体シートなどに転写されるのを、マスキング層が効率的に抑制することができるからである。

耐熱性樹脂としては、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１００〜１７０℃の範囲である必要がある。好ましくは１４０〜１７０℃であり、より好ましくは１５０〜１６０℃である。

これは、マスキング層を構成する耐熱性樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が、１００℃より低いと、昇華性転写シートに熱をかけて被転写物に昇華性インキ層を転写するときに、昇華性インキ層がマスキング層にも転写されてしまう。その結果、十分な量の昇華性インキ層を被転写物に転写できなくなるため、被転写物に鮮映性の高い加飾を施せなくなるという問題が生じるからである。また、反対にガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃より高いと、昇華性転写シートを被転写物の形状に追従させて被転写物に昇華性インキ層を転写するときに、マスキング層が被転写物の形状に追従できず割れてしまう。その結果、この割れによって、昇華性インキ層内に濃淡のムラが生じてしまい、均一に昇華性インキ層を被転写物に転写できないという問題が生じるからである。

すなわち、ガラス転移温度（Ｔｇ）を１００〜１７０℃の耐熱性樹脂をマスキング層に使用することによって、被転写物の形状に合わせて、十分な量の昇華性インキ層を被転写物に形成することができる。その結果、この昇華性転写シートを使用して被転写物に加飾をすると、被転写物がどのような形状であっても、その被転写物に鮮映性の高い加飾を施すことができる。

なお、本明細書におけるガラス転移温度（Ｔｇ）とは、ＪＩＳ Ｋ７１２１（１９８７年）に準拠して、加熱速度１０℃／ｍｉｎの昇温条件で熱流束ＤＳＣにより求めた中間点ガラス転移温度（℃）をいい、試験片の状態調節については「一定の熱処理を行なった後、ガラス転移温度を測定する場合」を採用するものとする。なお、使用装置は、示差走査熱量計（ＤＳＣ６２００、セイコー社製）である。

また、マスキング層を構成する樹脂は、その分子量が２００００〜１００００００の範囲である必要がある。好ましくは４００００〜７０００００、より好ましくは５００００〜６０００００である。

これは、マスキング層を構成する樹脂の分子量が２００００より小さいとブロッキング層の密度が疎になるため、転写する時に昇華性インキ層がブロッキング層内に侵入してしまう。その結果、この昇華性転写シートを用いても、被転写物に十分な量の昇華性インキ層を形成できないので、鮮映性の高い加飾を被転写物に施せないという問題が生じるためである。また、反対に１０００００を超えると、マスキング層を構成する樹脂が溶剤に溶けなくなるので、マスキング層を基体シートの上に形成するときに、マスキング層の厚みを均一に形成できなくなる。その結果、マスキング層と昇華性インキ層との界面が粗くなるので、昇華性インキ層に所望のパターン形状を形成するのが困難となるという問題が生じるためである。

すなわち、分子量が２００００〜１０００００の樹脂をマスキング層に使用することによって、ブロッキング層が昇華性インキ層内に侵入するのを抑制することができるとともに、昇華性インキ層に所望のパターン形状を形成することができる。その結果、被転写物に鮮映性の高い、所望のパターン形状を形成することができる。

マスキング層にては、ニトロセルロース、セルロースアセテート（ＣＡ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）などを用いるとよい。

セルロースアセテート（ＣＡ）の材質としては、ＣＡ−３９８−３、ＣＡ−３９８−６、ＣＡ−３９６−１０、ＣＡ−３９８−３０（以上、イーストマンケミカル社製）が挙げられる。また、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）の材質としては、ＣＡＢ５５１−０．０１、ＣＡＢ５５１−０．２、ＣＡＢ５５３−０．４、ＣＡＢ５３１−１、ＣＡＢ５００−５、ＣＡＢ３８１−０．１、ＣＡＢ３８１−０．５、ＣＡＢ３８１−２、ＣＡＢ３８１−２ＢＰ、ＣＡＢ３８１−２０、ＣＡＢ３８１−２０ＢＰ、ＣＡＢ３２１−０．１（以上、イーストマンケミカル社製）が挙げられる。これらの中では、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）が好ましい。

昇華性インキ層
昇華転写インキ層は、昇華性または蒸発性を有する層であって、熱転写により被転写物に転写される層である。また、上記昇華転写インク層に用いる昇華性インキとしては、水を溶媒とする染料等が挙げられる。

染料としては、大気圧下で６０℃〜２８０℃で昇華または蒸発するものであれば、従来技術の昇華性転写シートに用いられているものを使用することができる。染料の材質としては、ジアリールメタン系、チアゾール系等のメチン系、インドアニリン、アセトフェノンアゾメチン、イミダゾールアゾメチン、ピリドンアゾメチンに代表されるアゾメチン系、キサンテン系、オキサジン系、ジシアノスチレンに代表されるシアノメチレン系、アジン系、チアジン系、ベンゼンアゾ系、ピリドンアゾ、イソチアゾールアゾ、イミダゾールアゾ、ピロールアゾ、ジスアゾ、トリアゾールアゾ等のアゾ系、ナフトキノン系、アントラキノン系、キノフタロン系、ローダミンラクタム系、またはキレート色素等の染料が使用できる。昇華性インキ層のパターンとしては、文字、記号、模様、色彩などがある。

昇華性インキ層を基体シート上に形成する方法としては、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の印刷法、インクジェットプリンタ、バブルジェット（登録商標）プリンタ等のプリンタを用いたプリント方式等を用いることができる。

フィラー
図２を参照して、必要に応じてフィラー４がマスキング層３に添加されていてもよい。フィラー４は、マスキング層３の耐熱性を向上するために、添加するものである。

フィラーとしては、無機系、有機系を問わず使用することができる。例えば、タルク、カオリン、クレー、炭酸カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、沈降性硫酸バリウム、二硫化モリブデン、ハイドロタルサイト、シリカ等の無機微粒子と、アクリル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、アセタール樹脂、ポリスチレン樹脂、ナイロン樹脂等の有機樹脂微粒子、またこれらを架橋剤と反応させた架橋樹脂微粒子等が挙げられるが、マスキング層への分散性や塗膜表面性を考慮した場合、シリカが望ましい。

特に、マスキング層の厚みからすると、コロイダルシリカや超微粒子状無水シリカ等は粒径の大きさが均一であり、しかも分散性に富んでいるので好ましい。また、ワックスや金属石けんのような粉末固体状のものを用いてもよい。

フィラーの添加量は、マスキング層１００重量部当たり３５〜５５重量部範囲である必要がある。好ましくは４０〜５０重量部である。

これは、フィラーの添加量が３５重量部より少ないと、十分な厚みでマスキング層を形成することができなくなる。そうすると、昇華性転写シートに熱をかけて昇華性インキ層を被転写物に転写するときに、昇華性インキ層がマスキング層を透過してしまい、マスキング層の下にある基体シートなどにまで、昇華性インキ層が転写されてしまう。その結果、被転写物に十分な量の昇華性インキ層を転写できなくなるため、鮮映性の高い加飾を成形品に施せなくなるという問題が生じるためである。

反対に、フィラーの添加量が５５重量部より多いと、マスキング層を形成するとき、フィラーが溶剤に分散しなくなるので、マスキング層を基体シートの上に形成できなくなるという問題が生じるということ、またフィラーの添加量が５５重量部より多いと、マスキング層と昇華性インキ層との界面が、粗くなるので、昇華性インキ層に形成されるパターン形状に歪みが生じてしまい、所望のパターン形状を有する昇華性インキ層を形成できないという問題が生じるからである

バインダー層
図２より、さらに必要に応じてマスキング層２と昇華性インキ層３との間にバインダー層５が設けられていても良い。

バインダー層は、昇華性インキ層とマスキング層との密着性を向上させる層である。このバインダー層を介して、昇華性インキ層が昇華性転写シート内に強固に保持される。よって、昇華性転写シートにバインダー層が形成されていれば、昇華性インキ層が所定のパターン形状を有する場合であっても、そのパターン形状をバインダー層で保持することができるようになる。その結果、バインダー層を有する昇華性転写シートを使用して被転写物に転写を行うと、所望のパターン形状で被転写物に行うことができる。

バインダー層の材質としては、ポリエステル系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルクロリド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、油性ポリオール等が挙げられ、また各種樹脂が末端や側鎖に有する官能基に反応基を有するモノマー、オリゴマー等を反応させたり、アクリル樹脂のように共重合させたりすることにより得られる変性樹脂等が挙げられる。

上記樹脂のうち耐熱性や滑性、離型成分を有するインキの吸収性を考慮した場合、ポリウレタン系樹脂が望ましい。

バインダー層をマスキング層の上に形成する方法としては、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の印刷法、またはダイコーター、コンマコーター等の各種コーターを用いたコーティング方法を用いることができる。

バインダー層の厚みとしては、１０μｍ〜５０μｍの範囲で形成することができる。

被転写物の加飾方法
図３は、上記発明の昇華性転写シート１００を用いて被転写物１０に加飾を施す工程を示した図である。図３（ａ）は被転写物１０に加飾を施す前の図であり、図３（ｂ）は被転写物１０に加飾を施しているときの図であり、図３（ｃ）は被転写物１０に加飾を施した後の図である。

図３（ａ）から図３（ｃ）を参照して、昇華転写装置６は駆動機構７によって昇降する上型８と、支持台１３によって固定されている下型１１とから構成されている。

上型８と下型１１との間には、昇華性転写シート１００が配置され、この昇華性転写シート１００の周縁部は、上側クランプと下側クランプとからなる成形クランプ９によって挟持されている。なお昇華性転写シート１００は、所定の形に形成された枚葉シートから構成されている。

上型８は、駆動機構７の作用部に固定される上側プレート８ａと、その上側プレート８ａの下面に固定される型板８ｂと、その型板８ｂの下面に固定される上側セット台８ｃから構成されている。なお型板８ｂには、上側セット台を加熱するための上側ヒータ８ｄが内蔵されている。

下型１１は、支持台１３によって固定される下側プレート１１ａと、その下側プレート１１ａの上に固定される型板１１ｂと、その型板１１ｂの上に固定される下側セット台１１ｃとから構成されている。また、型板１１ｂには下側セット台１１ｃを加熱するための下側ヒータ１１ｆが内蔵され、下側セット台１１ｃには、被転写物１０を設置するための成形台１１ｄが備え付けられている。
さらに、成形台１１ｄには昇華転写シート１００と被転写物１０との間に存在する空気を吸引するための吸引管１１eが備え付けられている。

次に、上記構成の昇華転写装置と昇華性転写シートを用いて被転写物に加飾を施す方法（第１工程〜第３工程）について説明する。

第１工程
まず、昇華性転写シートを用いて被転写物に加飾を施す方法の第１工程について説明する。図３（a）を参照して、第１工程では、まず成形台１１ｄの上に被転写物１０が設置される。次に型板８ｂに内蔵されている上側ヒータ８ｄと、型板１１ｂに内蔵されている下側ヒータ１１ｄとの電源が入れられ、上側セット台８ｃと下側セット台１１ｃとが温められる。その後、昇華性転写装置６に設けられたセンサ（図示しない）によって、昇華性転写シート１００と、成形台１１ｄの上に配置された被転写物１０とが位置決めがなされる。

被加飾物１０としては、従来から昇華性転写シート１００によって加飾されてきたものであれば特に限定されない。各種合成樹脂、金属、ガラス、木、紙でなる部材、これらの塗装物及び加飾物は、被加飾物として用いられる。

第２工程
図３（ｂ）を参照して、第２工程では、まず駆動機構７を駆動され上側セット台８ｃが下降する。その結果、上側セット台８ｃと下側セット台１１ｃとがパーティングラインで当接するとともに、上側セット台８ｃによって、昇華性転写シート１００が下側セット台方向に押し下げられ、昇華性転写シート１００と被転写物１０とが密着される。次に、真空ポンプ１２が駆動され、昇華性転写シート１００と成形台１１ｄとの間に存在していた空気が、成形台１１ｄに設けられた吸引管１１eを介して吸引される。

なお、昇華性転写シート１００と被転写物１０とを密着させるときのヒータの温度は、それぞれ１６０℃〜２１０℃であることが好ましい。２１０℃以上であると基体シートが熱に耐えきれず破れる。また２１０℃以上で行うとマスキング層及びバインダー層を構成する樹脂のガラス転移温度を越えてしまうので、マスキング層及びバインダー層が融解し始める。その結果、マスキング層、バインダー層と昇華性インキ層が渾然一体となってしまうので、昇華性インキ層がパターン形状を有していても、被転写物にそのパターン形状を表現するのが困難となるというという問題が生じるためである。また、反対に１６０℃以下であると昇華性インキが完全に昇華しないため、被転写物に鮮映性の高い加飾を施すことが困難となるというという問題が生じるためである。

なお、加熱時間としては３分〜５分であることが好ましい。昇華転写自体は概ね５分程度で完了する。５分以上であると被転写物の耐熱性に関係し、変形などの不具合が発生する可能性があり、反対に３分以下であると昇華性インキが完全に昇華しないため、被転写物に鮮映性の高い加飾を施すことが困難となるというという問題が生じるためである。

このように第２工程が構成されることにより、昇華性転写シート１００に形成された昇華性インキ層３のほとんど全てを被転写物１０に転写させることができるので、被転写物１０に鮮映性の高い加飾を施すことができる。

第３工程
図３（ｃ）を参照して、第３工程では、再び駆動機構７を駆動させて、上側セット台８ｃを上昇させる。その後、上側セット台８ｃと下側セット台１１ｃとの間にできた空間から昇華性転写シート１００と被転写物１０とが一体化した一体化成形品を取り出す。最後に、この一体化成形品から基体シート１のみを剥離することによって、被転写物１０に鮮映性の高い加飾が施された加飾成形品を得ることができる。

以下の実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。尚、実施例中「部」又は「％」で表される量は特に断りなき限り重量基準である。

（昇華性転写シートの作成）
実施例１
基体シートとして厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムを準備した。次に、数平均分子量（Ｍｎ）６５０００、ガラス転移温度（Ｔｇ）１６１℃のセルロースアセテートブチレート（イーストマンケミカル社製 ＣＡＢ１７１−１５）を基体シートの上に、塗布乾燥させて、厚さ３０μｍのマスキング層を形成した。なお、マスキング層の形成はコンマコーターにて行った。

最後に、上記で得られた積層シートの上に、Ｃ．Ｉ．ＤｉｓｐｅｒｓｅＹｅｌｌｏｗ５１を用いて、マスキング層の表面に昇華性インキ層を形成することにより昇華性転写シートを得た。なお、昇華性インキ層の形成はインクジェットプリンタ（Ｒｏｌａｎｄ社製 Ｖｅｒｓａ ＣＡＭＭ ＳＰ−５４０Ｖ）を用いて行った。

実施例２
基体シートとして厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムを準備した。
次に、数平均分子量（Ｍｎ）６５０００、ガラス転移温度（Ｔｇ）１６１℃のセルロースアセテートブチレート（イーストマンケミカル社製 ＣＡＢ１７１−１５）と、シリカ（富士シリシア化学株式会社製 サイロホービック２００）を１：１の割合で配合した樹脂を、酢酸エチル溶液に溶解させて塗料を作成した。

基体シートの上に、得られた塗料を塗布乾燥させて、厚さ３０μｍのマスキング層を形成した。なお、マスキング層の形成はコンマコーターにて行った。

次に、上記で得られた積層シートの上に、Ｃ．Ｉ．ＤｉｓｐｅｒｓｅＹｅｌｌｏｗ５１
を用いて、マスキング層の表面に昇華性インキ層を形成することにより昇華性転写シートを得た。なお、昇華性インキ層の形成はインクジェットプリンタ（Ｒｏｌａｎｄ社製 Ｖｅｒｓａ ＣＡＭＭ ＳＰ−５４０Ｖ）を用いて行った。

比較例１
実施例１の昇華性転写シートにおいて、マスキング層を形成しなかったこと以外は実施例１と同様にして昇華性転写シートを作製した。

比較例２
基体シートとして厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルムを準備した。次に、数平均分子量（Ｍｎ）６５０００、ガラス転移温度（Ｔｇ）１６１℃のセルロースアセテートブチレート（イーストマンケミカル社製 ＣＡＢ１７１−１５）と、シリカ（富士シリシア化学株式会社製 サイロホービック２００）を１：１の割合で配合した樹脂を、酢酸エチル溶液に溶解させてマスキング層を形成するための塗料を調製した。

上記塗料に、ポリビニルアセタール樹脂（電気化学工業社製、デンカブチラールＫＹ２４）を５０重量部添加し、得られた塗料をポリエチレンテレフタレートフイルムの上に塗布乾燥させて、厚さ３０μｍのマスキング層を形成した。なお、マスキング層の形成はコンマコーターにて行った。

最後に、上記で得られた積層シートの上に、Ｃ．Ｉ．ＤｉｓｐｅｒｓｅＹｅｌｌｏｗ５１を用いて、マスキング層の表面に昇華性インキ層を形成することにより昇華性転写シートを得た。なお、昇華性インキ層の形成はインクジェットプリンタ（Ｒｏｌａｎｄ社製 Ｖｅｒｓａ ＣＡＭＭ ＳＰ−５４０Ｖ）を用いて行った。

（加飾成形品の作成方法）
まず、昇華性転写シートと、アルミニウムにアルマイト処理が施されたアルミニウム成形品と、上型、下型及び真空ポンプからなる昇華転写装置を用意した。

次に、昇華性転写シートの昇華性インキ層が形成された側と、アルミニウム成形品のアルマイト処理がされた側が対峙するよう、昇華性転写シートとアルミニウム成形品とをそれぞれ昇華転写装置の上型側と下型側に設置した。

その後、昇華転写装置の上型と下型と閉じ、１８０℃で５分の間、昇華性転写シートとアルミニウム成形品とを昇華転写装置内で加熱圧縮し、加熱圧縮後、昇華転写装置から昇華性インキ層が転写されたアルミニウム成形品を取出した。

実施例１〜２、及び比較例１〜２で作成した昇華性転写シートを、上記加飾成形品の作成方法に適用し、アルミニウム成形品を作成した。その後、作成されたアルミニウム成形品の鮮映性について以下のように評価した。その結果をそれぞれ表１に示す。

鮮映性評価
白色光の下、３０ｃｍの距離から、得られたアルミニウム成形品の鮮映性を目視にて、下記基準により評価した。その評価基準を図４に示し、その結果を図５に示す。

１…基体シート
２…マスキング層
３…昇華性インキ層
４…フィラー
５…バインダー層
６…昇華転写装置
７…駆動機構
８…上型
８ａ…上側プレート
８ｂ…型板
８ｃ…上側セット台
８ｄ…上側ヒータ
９…成形用クランプ
１０…被加飾物
１１…下型
１１ａ…下側プレート
１１ｂ…型板
１１ｃ…上側セット台
１１ｄ…成形台
１１ｅ…吸引管
１１ｆ…下側ヒータ
１２…真空ポンプ
１３…支持台
１００…昇華性転写シート

Claims (4)

1. 基体シートと、前記基体シートの片面に形成されるマスキング層と、前記マスキング層の上に形成される昇華性インキ層を備える昇華性転写シートであって、
   前記マスキング層が、ガラス転移温度１００℃〜１７０℃、分子量が２００００〜１０００００であるセルロースアセテートブチレートを含んで成る昇華性転写シート。
2. 前記マスキング層が、セルロースアセテートブチレートに対し、硬質及び透明な粒子を３５重量％〜５５重量％の割合で含む請求項１に記載の昇華性転写シート。
3. 前記マスキング層の厚さが１０〜４０μｍである請求項１〜２のいずれかに記載の転写シート。
4. 前記マスキング層と前記昇華性インキ層との間にバインダー層が形成された請求項１〜３のいずれかに記載の転写シート。

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