JP2011132549A - 芳香族ポリエステルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 (i)多価フェノールと、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物とを反応させて芳香族ポリエステルを製造する方法において、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して0〜40モル%の式(II):X−C(O)−Rで示される化合物を用いて反応させる段階、及び(ii)得られた芳香族ポリエステルを、(i)における芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して3〜80モル%の上記式(II)で示される化合物を用いて更に反応させる段階を含む芳香族ポリエステルの製造方法。
【選択図】なし
Description
(1)(i)多価フェノールと、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物とを反応させて芳香族ポリエステルを製造する方法において、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して0〜40モル%の下記式(II):
X−C(O)−R (II)
(式(II)中、Xは塩素、臭素又はヨウ素であり、かつRは、脂肪族基、脂環族基、単環芳香族基、多環芳香族基、縮合芳香族基、複素環基、若しくはこれらの組み合わせから成る基であり、又はこれらの基の少なくとも一つの水素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アルコキシル基、メルカプト基、スルフェナト基、スルフィナト基、スルホ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルコキシスルフィニル基、アルキルチオカルボニル基、チオスルホ基、シアノ基、チオシアノ基、イソシアノ基、イソシアナト基、イソチオシアナト基又はニトロ基により置換されているところの基である)
で示される化合物を用いて反応させる段階、及び
(ii)得られた芳香族ポリエステルを、(i)における芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して3〜80モル%の上記式(II)で示される化合物を用いて更に反応させる段階
を含む芳香族ポリエステルの製造方法である。
(2)段階(i)における式(II)で示される化合物の使用量が、0〜20モル%である、上記(1)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(3)段階(i)における式(II)で示される化合物の使用量が、0〜15モル%である、上記(1)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(4)段階(i)における式(II)で示される化合物の使用量が、0モル%を超え40モル%以下である、上記(1)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(5)段階(i)における式(II)で示される化合物の使用量が、0モル%を超え30モル%以下である、上記(1)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(6)段階(i)における式(II)で示される化合物の使用量が、0モル%を超え20モル%以下である、上記(1)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(7)段階(i)における式(II)で示される化合物の使用量が、0モル%を超え15モル%以下である、上記(1)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(8)段階(ii)における式(II)で示される化合物の使用量が、3〜50モル%である、上記(1)〜(7)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(9)段階(ii)における式(II)で示される化合物の使用量が、3〜35モル%である、上記(1)〜(7)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(10)段階(ii)における式(II)で示される化合物の使用量が、3〜20モル%である、上記(1)〜(7)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(11)上記式(II)中のRが、単環芳香族基、多環芳香族基、縮合芳香族基若しくは複素環基であり、又はこれらの基の少なくとも一つの水素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素又はアルコキシル基により置換されているところの基である、上記(1)〜(10)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(12)上記式(II)中のRが、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントリル基又はこれらの基の一つの水素がフッ素、塩素、若しくはメトキシル基で置換されている基である、上記(1)〜(10)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(13)上記式(II)中のRが、フェニル基、ナフチル基、又はこれらの基の一つの水素がフッ素、塩素、若しくはメトキシル基で置換されている基である、上記(1)〜(10)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(14)上記式(II)中のRが、フェニル基又はナフチル基である、上記(1)〜(10)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(15)上記式(II)中のRが、フェニル基である、上記(1)〜(10)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(16)上記式(II)中のXが、塩素である、上記(1)〜(15)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(17)段階(i)と段階(ii)との間に、段階(i)で得られた反応後の生成液を精製する段階(iii)を更に含む、上記(1)〜(16)のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(18)段階(iii)が、反応後の生成液から芳香族ポリエステルを含む溶液を分離して、それを段階(ii)の反応に供する精製である、上記(17)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(19)段階(iii)が、反応後の生成液を洗浄して芳香族ポリエステルを含む溶液を得、それを段階(ii)の反応に供する精製である、上記(17)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(20)生成液の洗浄が水により実施される、上記(19)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(21)段階(iii)が、反応後の生成液から芳香族ポリエステルを分離して、それを段階(ii)の反応に供する精製である、上記(17)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(22)段階(iii)が、反応後の生成液から芳香族ポリエステルを含む溶液を得、次いで、該溶液から、芳香族ポリエステルを分離して、それを段階(ii)の反応に供する精製である、上記(17)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(23)段階(iii)が、反応後の生成液を洗浄して芳香族ポリエステルを含む溶液を得、次いで、該溶液から、芳香族ポリエステルを分離して、それを段階(ii)の反応に供する精製である、上記(17)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(24)生成液の洗浄が水により実施される、上記(23)記載の芳香族ポリエステルの製造方法、
(25)多価フェノールがビスフェノールAであり、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物が、二塩化テレフタロイル及び/又は二塩化イソフタロイルである、上記(1)〜(24)のいずれか一つに記載の方法
を挙げることができる。
X−C(O)−R (II)
(式(II)中、Xは塩素、臭素又はヨウ素であり、かつRは、脂肪族基、脂環族基、単環芳香族基、多環芳香族基、縮合芳香族基、複素環基、若しくはこれらの組み合わせから成る基であり、又はこれらの基の少なくとも一つの水素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アルコキシル基、メルカプト基、スルフェナト基、スルフィナト基、スルホ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルコキシスルフィニル基、アルキルチオカルボニル基、チオスルホ基、シアノ基、チオシアノ基、イソシアノ基、イソシアナト基、イソチオシアナト基又はニトロ基により置換されているところの基である)
で示される化合物を用いて反応させる段階、次いで、(ii)得られた芳香族ポリエステルを、(i)における芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して3〜80モル%の上記式(II)で示される化合物を用いてに更に反応させる段階を含む。上記式(II)で示される化合物としては、Rが、単環芳香族基、多環芳香族基、縮合芳香族基若しくは複素環基であり、又はこれらの基の少なくとも一つの水素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素又はアルコキシル基により置換されているところの基である化合物が好ましく、Rが、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントリル基又はこれらの基の一つの水素がフッ素、塩素、若しくはメトキシル基で置換されている基である化合物がより好ましく、Rが、フェニル基、ナフチル基、又はこれらの基の一つの水素がフッ素、塩素、若しくはメトキシル基で置換されている基である化合物が更により好ましく、Rが、フェニル基又はナフチル基である化合物が更に好ましく、とりわけ、Rが、フェニル基である化合物が好ましい。また、Xは、好ましくは塩素である。式(II)で示される化合物としては、塩化ベンゾイル及び塩化ナフトイルが好ましく、なかでも塩化ベンゾイルがとりわけ好ましい。
メチルヒドロキノン、トリメチルヒドロキノン、テトラメチルヒドロキノン、エチルヒドロキノン、2,6−ジエチルヒドロキノン、ビニルヒドロキノン、5−エトキシレゾルシノール、2−メチルレゾルシノール、4−メチルレゾルシノール、5−メチルレゾルシノール、2−エチルレゾルシノール、4−エチルレゾルシノール、5−エチルレゾルシノール、2−n−プロピルレゾルシノール、4−n−プロピルレゾルシノール、5−n−プロピルレゾルシノール、2−(2−プロペニル)レゾルシノール、4−(2−プロペニル)レゾルシノール、4−(1−メチルエテニル)レゾルシノール、2−n−ブチルレゾルシノール、4−n−ブチルレゾルシノール、5−n−ブチルレゾルシノール、5−sec−ブチルレゾルシノール、4−tert−ブチルレゾルシノール、2−n−ペンチルレゾルシノール、4−n−ペンチルレゾルシノール、5−n−ペンチルレゾルシノール、4−(1−メチルブチル)レゾルシノール、5−(2−メチル−1−エチルプロピル)レゾルシノール、2−n−ヘキシルレゾルシノール、4−n−ヘキシルレゾルシノール、5−n−ヘキシルレゾルシノール、4−(4−メチルペンチル)レゾルシノール、5−(4−メチルペンチル)レゾルシノール、5−(1,1−ジメチルブチル)レゾルシノール、5−(1,2−ジメチルブチル)レゾルシノール、5−(1−メチル−1−ペンテニル)レゾルシノール、4−シクロヘキシルレゾルシノール、4−フェニルレゾルシノール、4−ヘプチルレゾルシノール、5−ヘプチルレゾルシノール、5−(1−メチルヘキシル)レゾルシノール、4−フェニルメチルレゾルシノール、2−オクチルレゾルシノール、5−オクチルレゾルシノール、4−(1−メチルヘプチル)レゾルシノール、4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)レゾルシノール、4−(2−フェネチル)レゾルシノール、5−ノニルレゾルシノール、5−(1−メチルオクチル)レゾルシノール、5−(1,1−ジメチルヘプチル)レゾルシノール、5−(1,2−ジメチルヘプチル)レゾルシノール、5−(1,2,4−トリメチルヘキシル)レゾルシノール、4−デシルレゾルシノール、5−(1−メチルノニル)レゾルシノール、2,4−ジメチルレゾルシノール、2,5−ジメチルレゾルシノール、4,5−ジメチルレゾルシノール、4,6−ジメチルレゾルシノール、4−エチル−2−メチルレゾルシノール、5−エチル−2−メチルレゾルシノール、2−エチル−4−メチルレゾルシノール、5−エチル−4−メチルレゾルシノール、6−エチル−4−メチルレゾルシノール、5−エテニル−4−メチルレゾルシノール、2,4−ジメチルレゾルシノール、5−-メチル−4−-プロピルレゾルシノール、2−メチル−5−sec−ブチルレゾルシノール、4,6−ジイソプロピルレゾルシノール、4−エチル−6−ペンチルレゾルシノール、4,6−ジ−tert−ブチルレゾルシノール、2−メチル−4−(ベンジル)レゾルシノール、2,4,5−トリメチルレゾルシノール、2,4,6−トリメチルレゾルシノール、4,5,6−トリメチルレゾルシノール、4,6−ジメチル−5−sec−ブチルレゾルシノール、テトラメチルレゾルシノール、2−ヒドロキシエチルレゾルシノール、5−トリフルオロメチルレゾルシノール、n−プロピルヒドロキノン、イソプロピルヒドロキノン、1−プロペニルヒドロキノン、2−プロペニルヒドロキノン、2,5−ジイソプロピルヒドロキノン、4−ブチルヒドロキノン、4−ブチルヒドロキノン、2,3−ジ(tert−ブチル)ヒドロキノン、2,5−ジ(tert−ブチル)ヒドロキノン、2,6−ジ(tert−ブチル)ヒドロキノン、2−メチル−2−プロペニルヒドロキノン、ヘキシルヒドロキノン、4−メチルペンチルヒドロキノン、シクロヘキシルヒドロキノン、4−フェニルメチルヒドロキノン、オクチルヒドロキノン、2,2’−メチリデンビスフェノール、3,3’−メチリデンビスフェノール、4,4’−メチリデンビスフェノール、2,2’−メチリデンビス(4−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(5−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−メチルフェノール)、4,4’−メチリデン(2−メチルフェノール)、4,4’−メチリデン(3−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4,6−ジメチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(3,5−ジメチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2,6−ジメチルフェノール)、3,3’−メチリデンビス(2,4,6−トリメチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−プロピルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2−プロピルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2−メチル−6−エチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(3,4,5,6−テトラメチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2,3,5,6−テトラメチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−tert−ブチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2−メチル−5−イソプロピルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(3−メチル−6−イソプロピルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(5−メチル−6−イソプロピルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−tert−ブチル−6−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(4−tert−ブチル−6−メチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2−tert−ブチル−5−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス( 3,4−ジメチル−6−イソプロピルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール)、2,2’−メチリデンビス(4,6−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4,6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2,6−tert−ブチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(3,5−ジ−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−クロロフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2−クロロフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−ブロモフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4,6−ジクロロフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4,5−ジクロロフェノール)、3,3’−メチリデンビス(4,5−ジクロロフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2,5−ジクロロフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2,6−ジクロロフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4,6−ジブロモフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2,6−ジブロモフェノール)、2,2’−メチリデンビス(3,4,6−トリクロロフェノール)、3,3’−メチリデンビス(2,4,6−トリクロロフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−ブロモ−4−クロロフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−ブロモ−6−ニトロフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−クロロ−4−ニトロフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−ニトロフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2−ニトロフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4,6−ジニトロフェノール)、3,3’−メチリデンビス(6−メトキシフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2−メトキシフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−クロロ−6−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−クロロ−4−メチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2−クロロ−6−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−ブロモ−4−メチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(6−ブロモ−2−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−クロロ−3,5−-ジメチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(3−クロロ−4,6−ジメチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−ブロモ−4,5−ジメチルフェノール)、4,4’−メチリデンビス(2−クロロ−3,5,6−トリメチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−-クロロ−6−イソプロピルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−クロロ−4−trert−ブチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−クロロ−3−メチル−6−イソプロピルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4−クロロ−6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(4,6−ジクロロ−3−メチルフェノール)、2,2’−メチリデンビス(6−ニトロ−4−tert−ブチルフェノール)、4,4’−イソプロピリデンビスフェノール、2,2’−イソプロピリデンビス(5−メチルフェノール)、4,4’−イソプロピリデンビス(2−メチルフェノール)、4,4’−イソプロピリデンビス(2−シクロヘキシルフェノール)、4,4’−イソプロピリデンビス(2,6−ジブロモフェノール)、4,4’−イソプロピリデンビス(2−ニトロフェノール)、4,4’−イソプロピリデンビス(2,6−ジニトロフェノール)、4,4’−ブタンジイルビス(2−メチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビスフェノール、2,2’−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−2−メチルフェノール)、4,4’−sec−ブチリデンビスフェノール、4,4’−sec−ブチリデンビス(3−メチルフェノール)、2,2’−sec−ブチリデンビス(3−メチル−6−イソプロピルフェノール)、2,2’−sec−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、4,4’−イソブチリデンビスフェノール、4,4’−イソブチリデンビス(6−tert−ブチル−4−メチルフェノール)、4,4’−(1,3−シクロヘキサンジイル)ビスフェノール、4,4’−シクロヘキシリデンビスフェノール、4,4’−シクロヘキシリデンビス(2−クロロフェノール)、4,4’−シクロヘキシリデンビス(2,6−ジクロロフェノール)、2,2’−チオビスフェノール、4,4’−チオビスフェノール、4,4’−チオビス(2−メチルフェノール)、2,2’−チオビス(4,5−ジメチルフェノール)、2,2’−チオビス(4,6−ジメチルフェノール)、4,4’−チオビス(2,6−ジメチルフェノール)、2,2’−チオビス(6−tertブチル−4−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(2−tert−ブチル−5−メチルフェノール)、2,2’−チオビス(4−フルオロフェノール)、2,2’−チオビス(4−クロロフェノール)、4,4’−チオビス(3−クロロフェノール)、2,2’−チオビス(4−クロロ−5−メチルフェノール)、2,2’−チオビス(4,6−ジクロロフェノール)、4,4’−チオビス(2−ブロモフェノール)、2,2’−チオビス(5−ニトロフェノール)、4,4’−スルフィニルビスフェノール、4,4’−スルフィニルビス(2−メチルフェノール)、4,4’−スルフィニルビス(2−tert−ブチル−5−メチルフェノール)、4,4’−スルフィニルビス(2−クロロフェノール)、4,4’−スルフィニルビス(4−クロロフェノール)
、2,2’−スルフィニルビス(4,6−ジクロロフェノール) 、4,4’−スルフィニルビス(2−ブロモフェノール)、2,2’−スルホニルビスフェノール、4,4’−スルホニルビスフェノール、4,4’−スルホニルビス(2−メチルフェノール)、4,4’−スルホニルビス(2,5−ジメチルフェノール)、4,4’−スルホニルビス(2−tert−ブチル−5−メチルフェノール)、4,4’−スルホニルビス(2−クロロフェノール)、4,4’−スルホニルビス(3−クロロフェノール)、4,4’−スルホニルビス(2−ブロモフェノール)、4,4’−スルホニルビス(2−ニトロフェノール)、2 , 3’ -オキシビスフェノール、2,2’−エタンジイルジメルカプトビスフェノール、4,4’−メチリデンビスカテコール、4,4’−メチリデンビスレゾルシン、4,4’−エチリデンビスレゾルシン、2,2’−プロパンジイルビスレゾルシン、2,2’−ブタンジイルビスレゾルシン、2,2’−ペンタンジイルビスレゾルシン、2,2’−メチリデンビス(6−クロロレゾルシン)、2,2’−メチリデンビス(4−クロロ−6−ニトロレゾルシン)、4,4’−スルフィンビスレゾルシン、2,2’−エタンジイルビスヒドロキノン、4,4’−スルホニルビスヒドロキノン、2,6,2’−トリヒドロキシビフェニル、3,5,3’−トリヒドロキシビフェニル、3,4,4’−トリヒドロキシビフェニル、2,4,4’−トリヒドロキシジフェニルエーテル、2,4,4’−トリヒドロキシジフェニルメタン、1,1’−ビナフタレン−2,3,2’−トリオール、1,2,3−トリヒドロキシナフタレン、1,3,5−トリヒドロキシナフタレン、1,4,5−トリヒドロキシナフタレン、1,5,6−トリヒドロキシナフタレン、1,6,7−トリヒドロキシナフタレン、1,7,8−トリヒドロキシナフタレン、2,6,2’,6’−テトラヒドロキシビフェニル、3,5,3’,5’−テトラヒドロキシビフェニル、3,4,3’,4’−テトラヒドロキシビフェニル、2,4,2’,4’−テトラヒドロキシジフェニルエーテル、2,2’−ビス−(2,4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,4,2’,4’−テトラヒドロキシジフェニルメタン、ビス−(2,4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス−(2,6−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス−(2,4−ヒドロキシ−2,6−ジメチル−3−メトキシフェニル)メタン、1,1−ビス−(2,4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス−(2,4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,2−ビス−(2,4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス−(4,6−ヒドロキシ−2−クロロフェニル)エタン、1,1’−ビナフタレン−2,3,2’,3’−テトラオール、1,2,3,4−テトラヒドロキシナフタレン等が挙げられる。この内でも、2,2’−ビス-(4−ヒドロキシフェニル)プロパン[ビスフェノールA]が特に好ましく、その他、主鎖中にアルキレン鎖を含まない剛直な分子構造を持つ全芳香族水酸基含有化合物、例えば、ビフェノール類、ビナフタレンジオール類、ジヒドロキシナフタレン類、ジヒドロキシフルオレン類、ジヒドロキシオキソフルオレン類、カテコール類、レゾルシノール類、ヒドロキノン類等が好ましく使用される。
ェンジカルボン酸、2,5−cis−テトラヒドロチオフェンジカルボン酸ジエチル、3,4−cis−テトラヒドロチオフェンジカルボン酸、3,4−cis−テトラヒドロチオフェンジカルボン酸ジメチル、1,1−ジオキソ−2,5−cis−テトラヒドロチオフェンジカルボン酸、1,1−ジオキソ−2,5−cis−テトラヒドロチオフェンジカルボン酸ジエチル、2,6−4H−ピランジカルボン酸、4−オキソ−2,6−4H−ピランジカルボン酸、4−オキソ−2,6−4H−ピランジカルボン酸ジエチル、2,6−cis−テトラヒドロピランジカルボン酸、2,6−cis−テトラヒドロピランジカルボン酸ジメチル、2,6−cis−テトラヒドロチオピランジカルボン酸、2,6−cis−テトラヒドロチオピランジカルボン酸ジメチル、1,1−ジオキソ−2,6−cis−テトラヒドロチオピランジカルボン酸、1,1−ジオキソ−2,6−cis−テトラヒドロチオピランジカルボン酸ジメチル、2,8−ジベンゾフランジカルボン酸、2,8−ジベンゾフランジカルボン酸ジメチル、3,7−ジベンゾフランジカルボン酸、3,7−ジベンゾフランジカルボン酸ジメチル、4,6−ジベンゾフランジカルボン酸、4,6−ジベンゾフランジカルボン酸ジメチル、2,8−ジベンゾチオフェンジカルボン酸、5,5−ジオキソ−2,8−ジベンゾチオフェンジカルボン酸、9−オキソ−1,8−キサンテンジカルボン酸、9−オキソ−2,7−キサンテンジカルボン酸、9−オキソ−2,7−キサンテンジカルボン酸ジメチル、1,6−ジベンゾ[1,4]ジオキシンジカルボン酸、1,6−ジベンゾ[1,4]ジオキシンジカルボン酸ジメチル、2,7−ジベンゾ[1,4]ジオキシンジカルボン酸、2,7−ジベンゾ[1,4]ジオキシンジカルボン酸ジメチル、2,8−ジベンゾ[1,4]ジオキシンジカルボン酸、2,8−ジベンゾ[1,4]ジオキシンジカルボン酸ジメチル、1,6−フェノキサチインジカルボン酸、4,6−フェノキサチインジカルボン酸、4,6−フェノキサチインジカルボン酸ジメチル、10,10−ジオキソ−1,6−フェノキサインジカルボン酸、10,10−ジオキソ−1,6−フェノキサインジカルボン酸ジメチル、10,10−ジオキソ−1,9−フェノキサインジカルボン酸、10,10−ジオキソ−1,9−フェノキサインジカルボン酸ジメチル、10,10−ジオキソ−2,8−フェノキサインジカルボン酸、10,10−ジオキソ−2,8−フェノキサインジカルボン酸ジメチル、10,10−ジオキソ−4,6−フェノキサインジカルボン酸、2,7−チアントレンジカルボン酸、2,7−チアントレンジカルボン酸ジメチル、10,10−ジオキソ−1,9−チアントレンジカルボン酸、5,5,10,10−テトラオキソ−2,7−チアントレンジカルボン酸、5,5,10,10−テトラオキソ−2,7−チアントレンジカルボン酸ジメチル、10−オキソ−10−フェニル−2,8−フェノキサホスフィンジカルボン酸、9−オキサビシクロ[3,3,1]ノナン−2,6−ジカルボン酸ジメチル、9−オキサビシクロ[3,3,1]ノナン−2,6−ジカルボン酸ジフェニル、2,4,6,8−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン−3,9−ジカルボン酸、2,4,6,8−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン−3,9−ジカルボン酸ジメチル、2,4,6,8−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン−3,9−二酢酸、2,4,6,8−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン−3,9−二酢酸ジエチル、2,3−ピロ−ルジカルボン酸、2,3−ピロ−ルジカルボン酸ジメチル、2,4−ピロ−ルジカルボン酸、2,4−ピロ−ルジカルボン酸ジメチル、2,5−ピロ−ルジカルボン酸、2,5−ピロ−ルジカルボン酸ジメチル、1−メチル−2,5−ピロ−ルジカルボン酸、1−メチル−2,5−ピロ−ルジカルボン酸ジメチル、1−フェニル−2,5−ピロ−ルジカルボン酸、1−フェニル−2,5−ピロ−ルジカルボン酸ジメチル、3,4−ピロ−ルジカルボン酸、3,4−ピロ−ルジカルボン酸ジメチル、1−メチル−3,4−ピロ−ルジカルボン酸、1−メチル−3,4−ピロールジカルボン酸ジエチル、1−フェニル−3,4−ピロ−ルジカルボン酸、1−フェニル−3,4−ピロ−ルジカルボン酸ジエチル、3,5−ジメチル−2,4−ピロ−ルジカルボン酸ジエチル、2,5−ジメチル−3,4−ピロ−ルジカルボン酸、2,5−ジメチル−3,4−ピロ−ルジカルボン酸ジエチル、1,2,5−トリメチル−3,4−ピロ−ルジカルボン酸、1,2,5−トリメチル−3,4−ピロ−ルジカルボン酸ジエチル1−メチル−2,5−ピロール二酢酸、1−メチル−2,5−ピロール二酢酸ジメチル、3,3’−(2,5−ピロール)ジプロピオン酸ジメチル、3,3’−(1−メチル−2,5−ピロール)ジプロピオン酸、3,3’−(1−メチル−2,5−ピロール)ジプロピオン酸ジメチル、3,3’−(1−フェニル−2,5−ピロール)ジプロピオン酸ジエチル、1−メチル−2,5−cis−ピロリジンジカルボン酸ジエチル、1−フェニル−2,5−cis−ピロリジンジカルボン酸ジエチル、1−メチル−2,5−ピロリジン二酢酸ジエチル、3,3’−(1−メチル−2,5−ピロリジン)ジプロピオン酸、3,3’−(1−メチル−2,5−ピロリジン)ジプロピオン酸ジエチル、2,5−インドールジカルボン酸ジエチル、2,6−インドールジカルボン酸、2,6−インドールジカルボン酸ジエチル、9−メチル−1,8−カルバゾールジカルボン酸、2,6−カルバゾールジカルボン酸、2,6−カルバゾールジカルボン酸ジエチル、3,6−カルバゾールジカルボン酸、3,6−カルバゾールジカルボン酸ジエチル、9−メチル−3,6−カルバゾールジカルボン酸、9−メチル−3,6−カルバゾールジカルボン酸ジエチル、3,4−ピラゾールジカルボン酸、3,4−ピラゾールジカルボン酸ジメチル、2−メチル−3,4−ピラゾールジカルボン酸、1−フェニル−3,4−ピラゾールジカルボン酸、1−フェニル−3,4−ピラゾールジカルボン酸ジメチル、2−フェニル−3,4−ピラゾールジカルボン酸、2−フェニル−3,4−ピラゾールジカルボン酸ジメチル、3,5−ピラゾールジカルボン酸、3,5−ピラゾールジカルボン酸ジメチル、1−メチル−3,5−ピラゾールジカルボン酸、1−メチル−3,5−ピラゾールジカルボン酸ジメチル、1-フェニル−3,5−ピラゾールジカルボン酸、1-フェニル−3,5−ピラゾールジカルボン酸ジメチル、4,5−イミダゾールジカルボン酸、4,5−イミダゾールジカルボン酸ジフェニル、1−メチル−4,5−イミダゾールジカルボン酸、1−メチル−4,5−イミダゾールジカルボン酸ジメチル、1−フェニル−4,5−イミダゾールジカルボン酸、1−フェニル−4,5−イミダゾールジカルボン酸ジエチル、2,3‐ピリジンジカルボン酸、2,3‐ピリジンジカルボン酸ジメチル、2,3−ピリジンジカルボン酸ジフェニル、2,4−ピリジンジカルボン酸、2,4−ピリジンジカルボン酸ジメチル、2,4−ピリジンジカルボン酸ジフェニル、2,5−ピリジンジカルボン酸、2,5−ピリジンジカルボン酸ジメチル、2,5−ピリジンジカルボン酸ジフェニル、2,6−ピリジンジカルボン酸、2,6−ピリジンジカルボン酸ジメチル、2,6−ピリジンジカルボン酸ジフェニル、3,4−ピリジンジカルボン酸、3,4−ピリジンジカルボン酸ジメチル、3,5−ピリジンジカルボン酸、3,5−ピリジンジカルボン酸ジフェニル、2,6−ジメチル−3,5−ピリジンジカルボン酸、2,4,6−トリメチル−3,5−ピリジンジカルボン酸、2,5−ピペリジンジカルボン酸ジメチル、2,3−ピペリジンジカルボン酸ジエチル、2,6−cis−ピペリジンジカルボン酸、2,6−cis−ピペリジンジカルボン酸ジメチル、1−メチル−2,6−cis−ピペリジンジカルボン酸、1−メチル−2,6−cis−ピペリジンジカルボン酸ジメチル、3,5−ピペリジンジカルボン酸ジエチル、2,6−cis−ピペリジン二酢酸、1−メチル−2,6−cis−ピペリジン二酢酸、1−メチル−2,6−cis−ピペリジン二酢酸ジエチル、2,3−キノリンジカルボン酸、2,3−キノリンジカルボン酸ジメチル、2,4−キノリンジカルボン酸、2,4−キノリンジカルボン酸ジメチル、2,6−キノリンジカルボン酸、3,7−キノリンジカルボン酸、4,8−キノリンジカルボン酸、4,8−キノリンジカルボン酸ジメチル、5,6−キノリンジカルボン酸、5,6−キノリンジカルボン酸ジメチル、5,8−キノリンジカルボン酸、6,7−キノリンジカルボン酸、6,7−キノリンジカルボン酸ジメチル、6,8−キノリンジカルボン酸、7,8−キノリンジカルボン酸、2,2’−ビピリジン−4,4’−ジカルボン酸、2,2’−ビピリジン−4,4’−ジカルボン酸ジメチル、2,2’−ビピリジン−5,5’−ジカルボン酸、2,2’−ビピリジン−5,5’−ジカルボン酸ジメチル、2,2’−ビピリジン−6,6’−ジカルボン酸、3,3’−ビピリジン−2,2’−ジカルボン酸ジメチル、4,5−ピリダジンジカルボン酸、4,5−ピリミジンジカルボン酸、4,6−ピリミジンジカルボン酸、2,3−ピラジンジカルボン酸、2,3−ピラジンジカルボン酸ジメチル、2,5−ピラジンジカルボン酸、2,5−ピラジンジカルボン酸ジメチル、2,5−ピラジンジカルボン酸ジフェニル、2,6−ピラジンジカルボン酸、2,6−ピラジンジカルボン酸ジメチル、1,4−ピペラジン二酢酸ジメチル、3,3’−(1,4−ピペラジン)ジプロピオン酸ジメチル、1,6−フェナジンジカルボン酸、1,6−フェナジンジカルボン酸ジメチル等が挙げられる。この内、主鎖中にアルキレン鎖を含まない剛直な分子構造からなる全芳香族多価カルボン酸、例えば、フタル酸類、テレフタル酸類、イソフタル酸類、ビフェニルジカルボン酸類、ナフタレンジカルボン酸類、オキソフルオレンジカルボン酸類、アントラセンジカルボン酸類、アントラキノンジカルボン酸類、ビフェニレンジカルボン酸類、テルフェニルジカルボン酸類、クアテルフェニルジカルボン酸類、アゾベンゼンジカルボン酸類、フランジカルボン酸類、チオフェンジカルボン酸類、ピランジカルボン酸類、ジベンゾフランジカルボン酸類、ジベンゾチオフェンジカルボン酸類、キサンテンジカルボン酸類、ジベンゾ[1,4]ジオキシンジカルボン酸類、フェノキサチインジカルボン酸類、チアントレンジカルボン酸類、フェノキサホスフィンジカルボン酸類、ピロールジカルボン酸類、インドールジカルボン酸類、カルバゾールジカルボン酸類、ピラゾールジカルボン酸類、イミダゾールジカルボン酸類、ピリジンジカルボン酸類、キノリンジカルボン酸類、ビピリジンジカルボン酸類、ピリミジンジカルボン酸類、ピラジンジカルボン酸類、フェナジンジカルボン酸類等が挙げられる。また、上記の芳香族ジカルボン酸の酸ハロゲン化物又は酸無水物を使用することもできる。芳香族ジカルボン酸の酸ハロゲン化物としては、例えば、二塩化フタロイル、二塩化ナフトイル等が挙げられる。これらのうち、好ましくは二塩化フタロイル、例えば、二塩化イソフタロイル又は二塩化テレフタロイルが使用される。
−C(O)−R (I)
(式(I)中、Rは、脂肪族基、脂環族基、単環芳香族基、多環芳香族基、縮合芳香族基、複素環基、若しくはこれらの組み合わせから成る基であり、又はこれらの基の少なくとも一つの水素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アルコキシル基、メルカプト基、スルフェナト基、スルフィナト基、スルホ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルコキシスルフィニル基、アルキルチオカルボニル基、チオスルホ基、シアノ基、チオシアノ基、イソシアノ基、イソシアナト基、イソチオシアナト基又はニトロ基により置換されているところの基である)
で示される構造を有する。式(I)で示される構造としては、Rが、単環芳香族基、多環芳香族基、縮合芳香族基若しくは複素環基であり、又はこれらの基の少なくとも一つの水素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素又はアルコキシル基により置換されているところの基である構造が好ましく、Rが、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントリル基又はこれらの基の一つの水素がフッ素、塩素、若しくはメトキシル基で置換されている基である構造がより好ましく、フェニル基、ナフチル基又はこれらの基の一つの水素がフッ素、塩素、若しくはメトキシル基で置換されている基である構造がより更に好ましく、Rが、フェニル基又はナフチル基である構造が更に好ましく、とりわけ、Rが、フェニル基である構造(ベンゾイルオキシ基)がこのましい。また、ポリエステル末端封止率は高ければ高いほどよく、90%以上、好ましくは92%以上、より好ましくは95%以上、更に好ましくは99%以上である。ポリエステル末端封止率が上記下限未満では、高温で成形した後の着色を十分に抑制することができない。ここで、ポリエステル末端封止率とは、芳香族ポリエステルの末端に存在する多価フェノール残基の数と式(I)で示される構造の数との合計に対する式(I)で示される構造の数のパーセンテージを示す。測定法及び算出法の詳細は下記の実施例に示されている。
芳香族ポリエステルの各性質は下記のようにして測定した。
島津製作所製のGPC LC20AT型を使用して測定した。カラムとしてShodex製KF802、KF804、KF806の合計3本を直列に繋いだものを使用した。溶出溶媒として液体クロマトグラフィー用クロロホルムを使用した。標準物質として市販の分子量既知のポリスチレンを使用した。
ヤマト科学株式会社製電気炉Muffle Furnace FP21(商標)を使用して、試料を260℃で1時間加熱処理した。該試料を200mg/5ミリリットルの濃度に吸光分析用クロロホルム[UVASOL(商標)、メルク社製]により溶解し、次いで、日本分光株式会社製UV分光光度計V−550(商標)を使用して、波長400nmにおける吸光度を測定した。
株式会社東洋精機製作所製メルトインデクサーF−W01(商標)を使用した。ここで、実施例1〜4及び比較例1〜2では、温度320℃、10.0kg荷重を標準として測定し、実施例5〜9及び比較例3〜4では、温度260℃、10.0kg荷重を標準として測定した。
ポリエステル末端封止率の測定に際して、日本電子株式会社製FT−NMR装置JNM−ECA500(商標)を使用した。ポリエステル末端封止率は、NMR分析において、芳香族ポリエステルに含まれるビスフェノールA残基のメチルプロトンのピーク(2)(1.75ppm付近)、芳香族ポリエステルの末端に存在するビスフェノールA残基が有する水酸基に対してオルト位に存在する2個のプロトンのピーク(1)(6.73ppm付近)、並びに、芳香族ポリエステル末端に存在するビスフェノールA残基が有する塩化ベンゾイル残基に存在する夫々2個のプロトンのピーク(3)(エステル基に対してm−位(3,5−位)に存在するプロトン、7.50〜7.53ppm)及びピーク(4)(エステル基に対してo−位(2,6−位)に存在するプロトン、8.16〜8.18ppm)を基準として算出した。ここで、ピーク(2)は、芳香族ポリエステルに含まれる全ビスフェノールA残基の指標として用いられ、ピーク(1)は、芳香族ポリエステル中に含まれる水酸基末端を持つビスフェノールA残基の指標として用いられ、そして、ピーク(3)及びピーク(4)は、芳香族ポリエステル中に含まれるベンゾイル基末端を持つビスフェノールA残基の指標として用いられた。ポリエステル末端封止率とは、上記のピーク(3)及びピーク(4)の面積比の合計を、上記のピーク(3)及びピーク(4)の面積比とピーク(1)の面積比との合計で割った値を百分率で示したものである。
上記の吸光度(Abs.)測定の結果、吸光度0.05未満を耐熱劣化性良好(G)と評価し、吸光度0.05以上を耐熱劣化性不良(B)と評価した。
攪拌装置を備えた反応容器を用意し、該反応容器内を窒素ガスで置換した。次いで、該反応容器中に水4.4リットルを入れ、更に、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン[ビスフェノールA]346グラム(1.515モル)、水酸化ナトリウム121グラム(3.030モル)、及び触媒としての臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム0.977グラム(0.003モル)を加えて、十分に攪拌して溶解した。ここで、触媒として使用した臭化テトラ−n−ブチルアンモニウムは、ビスフェノールAの合計量に対して0.2モル%であった。
攪拌装置を備えた反応容器を用意し、該反応容器内を窒素ガスで置換した。次いで、該反応容器中に水33リットルを入れ、更に、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン[ビスフェノールA]1145.5グラム(5.000モル)、水酸化ナトリウム400.0グラム(10.00モル)、及び触媒としての臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム0.366グラム(0.001136モル)を加えて、十分に攪拌して溶解した。ここで、触媒として使用した臭化テトラ−n−ブチルアンモニウムは、ビスフェノールAの合計量に対して0.023モル%であった。
攪拌装置を備えた500ミリリットルのナス型フラスコに水200ミリリットルを入れ、更に、水酸化ナトリウム0.78グラム(19.5ミリモル)及び臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム0.049グラム(0.15ミリモル)を加えて、十分に攪拌して溶解した。
塩化ベンゾイルを0.639グラム(4.5ミリモル、芳香族ポリエステル(I)の1/10スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.0606モルに対して7.5モル%である。)に変えた以外は、実施例1と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
塩化ベンゾイルを0.852グラム(6.0ミリモル、芳香族ポリエステル(I)の1/10スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.0606モルに対して10.0モル%である。)に変えた以外は、実施例1と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
塩化ベンゾイルを1.064グラム(7.5ミリモル、芳香族ポリエステル(I)の1/10スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.0606モルに対して12.5モル%である。)に変えた以外は、実施例1と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
塩化ベンゾイルを添加しなかった(芳香族ポリエステル(I)の1/10スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.0606モルに対して0モル%である。)以外は、実施例1と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
塩化ベンゾイルを0.213グラム(1.5ミリモル、芳香族ポリエステル(I)の1/10スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.0606モルに対して2.5モル%である。)に変えた以外は、実施例1と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
攪拌装置を備えた500ミリリットルのナス型フラスコに水200ミリリットルを入れ、更に、水酸化ナトリウム0.78グラム(19.5ミリモル)及び臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム0.049グラム(0.15ミリモル)を加えて、十分に攪拌して溶解した。
塩化ベンゾイルを0.426グラム(3ミリモル、芳香族ポリエステル(II)の1/100スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.04546モルに対して6.6モル%である。)に変えた以外は、実施例5と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
塩化ベンゾイルを0.639グラム(4.5ミリモル、芳香族ポリエステル(II)の1/100スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.04546モルに対して9.9モル%である。)に変えた以外は、実施例5と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
塩化ベンゾイルを0.852グラム(6.0ミリモル、芳香族ポリエステル(II)の1/100スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.04546モルに対して13.2モル%である。)に変えた以外は、実施例5と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
塩化ベンゾイルを1.064グラム(7.5ミリモル、芳香族ポリエステル(II)の1/100スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.04546モルに対して16.5モル%である。)に変えた以外は、実施例5と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
塩化ベンゾイルを添加しなかった(芳香族ポリエステル(II)の1/100スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.04546モルに対して0モル%である。)以外は、実施例5と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
塩化ベンゾイルを0.021グラム(0.15ミリモル、芳香族ポリエステル(II)の1/100スケール調製における二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの必要仕込み合計量0.04546モルに対して0.33モル%である。)に変えた以外は、実施例5と同一に実施して、芳香族ポリエステルを得た。
ビスフェノールA、水酸化ナトリウム及び臭化テトラ−n−ブチルアンモニウムを、夫々、37.67グラム(0.165モル)、14.0グラム(0.35モル)及び0.01209グラム(0.0375モリモル)に変えたこと、及び、別の容器中に、二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの1対1の混合物30.46グラム(0.15モル)に加えて、更に、塩化ベンゾイル4.22グラム(0.03モル、仕込み二塩化テレフタロイルと二塩化イソフタロイルとの合計量に対して20モル%である)を加えたこと以外は、芳香族ポリエステル(I)の調製と同一にして反応せしめた。
攪拌装置を備えた反応容器を用意し、該反応容器内を窒素ガスで置換した。次いで、該反応容器中に水1.1リットルを入れ、更に、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン[ビスフェノールA]37.67グラム(0.165モル)、水酸化ナトリウム14.0グラム(0.35モル)、及び触媒としての臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム24.18ミリグラム(0.075ミリモル)を加えて、十分に攪拌して溶解した。ここで、触媒として使用した臭化テトラ−n−ブチルアンモニウムは、ビスフェノールAの合計量に対して0.05モル%であった。
段階(i)の反応において使用した臭化テトラ−n−ブチルアンモニウムの量を、24.18ミリグラム(0.075ミリモル)から14.51ミリグラム(0.045ミリモル)に変えた以外は、実施例10と同一に実施した。得られた芳香族ポリエステルの重量平均分子量は24,000であり、末端封止率は99.3%であった。また、MFR値は、温度260℃、10.0kg荷重で測定して22.4g/10minであり良好であった。温度320℃、10.0kg荷重で測定すると、非常に高い値となり測定不能であった。
2 ビスフェノールA残基のメチルプロトンのピーク
3 ビスフェノールA残基が有する塩化ベンゾイル残基に存在する2個のプロトン(エステル基に対してm−位(3,5−位)に存在するプロトン)のピーク
4 ビスフェノールA残基が有する塩化ベンゾイル残基に存在する2個のプロトン(エステル基に対してo−位(2,6−位)に存在するプロトン)のピーク
5 二塩化イソフタロイルのピーク
6 二塩化テレフタロイルのピーク
7 塩化ベンゾイルのピーク
8 塩化ベンゾイルのピーク
11 芳香族ポリエステル末端に存在するビスフェノールA残基が有する塩化1−ナフトイル残基に存在するプロトン(エステル基に対して5−位に存在するプロトン)のピーク
12 芳香族ポリエステル末端に存在するビスフェノールA残基が有する塩化1−ナフトイル残基に存在するプロトン(エステル基に対して4−位に存在するプロトン)のピーク
13 ビスフェノールA残基が有する水酸基に対してオルト位に存在する2個のプロトンのピーク
Claims (6)
- (i)多価フェノールと、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物とを反応させて芳香族ポリエステルを製造する方法において、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して0〜40モル%の下記式(II):
X−C(O)−R (II)
(式(II)中、Xは塩素、臭素又はヨウ素であり、かつRは、脂肪族基、脂環族基、単環芳香族基、多環芳香族基、縮合芳香族基、複素環基、若しくはこれらの組み合わせから成る基であり、又はこれらの基の少なくとも一つの水素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、アルコキシル基、メルカプト基、スルフェナト基、スルフィナト基、スルホ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アルコキシスルフィニル基、アルキルチオカルボニル基、チオスルホ基、シアノ基、チオシアノ基、イソシアノ基、イソシアナト基、イソチオシアナト基又はニトロ基により置換されているところの基である)
で示される化合物を用いて反応させる段階、及び
(ii)得られた芳香族ポリエステルを、(i)における芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物の全仕込み量に対して3〜80モル%の上記式(II)で示される化合物を用いて更に反応させる段階
を含む芳香族ポリエステルの製造方法。 - 段階(i)における式(II)で示される化合物の使用量が、0モル%を超え40モル%以下である、請求項1記載の芳香族ポリエステルの製造方法。
- 上記式(II)中のRが、単環芳香族基、多環芳香族基、縮合芳香族基若しくは複素環基であり、又はこれらの基の少なくとも一つの水素が、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素又はアルコキシル基により置換されているところの基である、請求項1又は2記載の芳香族ポリエステルの製造方法。
- 上記式(II)中のRが、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナントリル基又はこれらの基の一つの水素がフッ素、塩素、若しくはメトキシル基で置換されている基である、請求項1又は2記載の芳香族ポリエステルの製造方法。
- 段階(i)と段階(ii)との間に、段階(i)で得られた反応後の生成液を精製する段階(iii)を更に含む、請求項1〜4のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法。
- 多価フェノールがビスフェノールAであり、芳香族多価カルボン酸、その酸ハロゲン化物又は酸無水物が、二塩化テレフタロイル及び/又は二塩化イソフタロイルである、請求項1〜5のいずれか一つに記載の芳香族ポリエステルの製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011083713A JP5330447B2 (ja) | 2009-09-15 | 2011-04-05 | 芳香族ポリエステルの製造方法 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009213757 | 2009-09-15 | ||
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JP2011083713A JP5330447B2 (ja) | 2009-09-15 | 2011-04-05 | 芳香族ポリエステルの製造方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010190798A Division JP2011084731A (ja) | 2009-09-15 | 2010-08-27 | 芳香族ポリエステル |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011132549A true JP2011132549A (ja) | 2011-07-07 |
JP2011132549A5 JP2011132549A5 (ja) | 2011-08-18 |
JP5330447B2 JP5330447B2 (ja) | 2013-10-30 |
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---|---|---|---|
JP2011083713A Active JP5330447B2 (ja) | 2009-09-15 | 2011-04-05 | 芳香族ポリエステルの製造方法 |
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---|---|---|---|---|
CN113711007A (zh) * | 2019-04-24 | 2021-11-26 | 株式会社岛津制作所 | 大气中的微粒子的产生源的确定方法 |
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