JP2011122946A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2011122946A5
JP2011122946A5 JP2009280999A JP2009280999A JP2011122946A5 JP 2011122946 A5 JP2011122946 A5 JP 2011122946A5 JP 2009280999 A JP2009280999 A JP 2009280999A JP 2009280999 A JP2009280999 A JP 2009280999A JP 2011122946 A5 JP2011122946 A5 JP 2011122946A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
scale
polarized light
stage
linearly polarized
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009280999A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2011122946A (ja
JP5602420B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2009280999A priority Critical patent/JP5602420B2/ja
Priority claimed from JP2009280999A external-priority patent/JP5602420B2/ja
Priority to US12/959,301 priority patent/US8749761B2/en
Publication of JP2011122946A publication Critical patent/JP2011122946A/ja
Publication of JP2011122946A5 publication Critical patent/JP2011122946A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5602420B2 publication Critical patent/JP5602420B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2009280999A 2009-12-10 2009-12-10 変位測定装置、露光装置、及び精密加工機器 Active JP5602420B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009280999A JP5602420B2 (ja) 2009-12-10 2009-12-10 変位測定装置、露光装置、及び精密加工機器
US12/959,301 US8749761B2 (en) 2009-12-10 2010-12-02 Displacement measurement device, exposure apparatus, and working device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009280999A JP5602420B2 (ja) 2009-12-10 2009-12-10 変位測定装置、露光装置、及び精密加工機器

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2011122946A JP2011122946A (ja) 2011-06-23
JP2011122946A5 true JP2011122946A5 (enExample) 2013-01-31
JP5602420B2 JP5602420B2 (ja) 2014-10-08

Family

ID=44142550

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009280999A Active JP5602420B2 (ja) 2009-12-10 2009-12-10 変位測定装置、露光装置、及び精密加工機器

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8749761B2 (enExample)
JP (1) JP5602420B2 (enExample)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2622411B1 (en) * 2010-09-28 2015-11-04 Carl Zeiss SMT GmbH Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus and method of reducing image placement errors
DE102010063253A1 (de) * 2010-12-16 2012-06-21 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
EP2600112B1 (de) * 2011-11-29 2014-03-05 SICK STEGMANN GmbH Vorrichtung zur Messung des Drehwinkels zweier relativ zueinander um eine Drehachse rotierender Objekte
JP6071221B2 (ja) 2012-03-14 2017-02-01 キヤノン株式会社 インプリント装置、モールド、インプリント方法及び物品の製造方法
JP5936479B2 (ja) * 2012-08-03 2016-06-22 キヤノン株式会社 計測装置、リソグラフィー装置、および物品の製造方法
JP5936478B2 (ja) 2012-08-03 2016-06-22 キヤノン株式会社 計測装置、リソグラフィー装置、および物品の製造方法
DE102013220214A1 (de) * 2013-10-07 2015-04-09 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Anordnung zur Positionierung eines Werkzeugs relativ zu einem Werkstück
TWI627379B (zh) 2013-10-07 2018-06-21 德商強那斯海登翰博士有限公司 光學位置測量裝置
DE102013220196A1 (de) 2013-10-07 2015-04-09 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
DE102014211004A1 (de) * 2014-06-10 2015-12-17 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Optische Positionsmesseinrichtung
US20160025480A1 (en) * 2014-07-25 2016-01-28 Nikon Corporation Interferometric level sensor
WO2016096322A1 (en) * 2014-12-19 2016-06-23 Asml Netherlands B.V. Optical encoder system, encoder head and lithographic apparatus
US9910363B2 (en) * 2015-09-09 2018-03-06 Toshiba Memory Corporation Measurement apparatus, exposure apparatus, measurement method, and recording medium
JP6705649B2 (ja) 2015-12-22 2020-06-03 株式会社ミツトヨ エンコーダ
JP6664211B2 (ja) * 2015-12-22 2020-03-13 株式会社ミツトヨ エンコーダ
CN105758435B (zh) * 2016-04-14 2018-02-09 清华大学深圳研究生院 一种绝对式光栅尺
CN106403824A (zh) * 2016-10-25 2017-02-15 合肥工业大学 一种基于光栅干涉仪的精密高度计
JP2019066235A (ja) * 2017-09-29 2019-04-25 セイコーエプソン株式会社 エンコーダー、プリンターおよびロボット
CN112639624B (zh) * 2018-08-29 2024-04-30 Asml控股股份有限公司 紧凑型对准传感器布置
CN111207673A (zh) * 2020-01-17 2020-05-29 中北大学 一种基于等腰三角闪耀光栅结构的位移传感器
CN111536882B (zh) * 2020-05-22 2021-04-13 复旦大学 读数头和二维位移测量系统及测量方法
CN112097651B (zh) * 2020-09-11 2022-07-22 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 外差二维光栅位移测量系统及测量方法
CN112097648B (zh) * 2020-09-11 2022-05-27 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 光栅位移测量方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63115012A (ja) * 1986-10-31 1988-05-19 Canon Inc 変位測定装置
US5146085A (en) * 1989-05-12 1992-09-08 Canon Kabushiki Kaisha Encoder with high resolving power and accuracy
US5104225A (en) * 1991-01-25 1992-04-14 Mitutoyo Corporation Position detector and method of measuring position
JP3218657B2 (ja) * 1991-12-04 2001-10-15 キヤノン株式会社 ロータリーエンコーダ
US5424833A (en) * 1992-09-21 1995-06-13 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Interferential linear and angular displacement apparatus having scanning and scale grating respectively greater than and less than the source wavelength
JP3495783B2 (ja) * 1994-05-13 2004-02-09 キヤノン株式会社 エンコーダ
US5608521A (en) * 1995-09-18 1997-03-04 Trw Inc. Polarization compensated imaging spectrometer
JP3435601B2 (ja) 2000-01-25 2003-08-11 住友重機械工業株式会社 レーザ描画方法及び描画装置
JP4846909B2 (ja) * 2000-02-15 2011-12-28 キヤノン株式会社 光学式エンコーダ及び回折格子の変位測定方法
JP4938926B2 (ja) 2000-10-10 2012-05-23 株式会社ミツトヨ 光学式エンコーダ
US20030174343A1 (en) * 2002-03-18 2003-09-18 Mitutoyo Corporation Optical displacement sensing device with reduced sensitivity to misalignment
JP4381671B2 (ja) * 2002-10-23 2009-12-09 ソニーマニュファクチュアリングシステムズ株式会社 変位検出装置
JP4722474B2 (ja) * 2004-12-24 2011-07-13 株式会社ミツトヨ 変位検出装置
US7599069B2 (en) * 2005-05-06 2009-10-06 The University Of Chicago Vector beam generator using a passively phase stable optical interferometer
JP2006339600A (ja) * 2005-06-06 2006-12-14 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びに電子デバイス製造方法
US7636165B2 (en) 2006-03-21 2009-12-22 Asml Netherlands B.V. Displacement measurement systems lithographic apparatus and device manufacturing method
JP5079346B2 (ja) 2007-01-30 2012-11-21 東芝機械株式会社 波形補正装置および波形補正方法
JP5566203B2 (ja) * 2010-06-21 2014-08-06 Ｄｍｇ森精機株式会社 変位検出装置
JP5618898B2 (ja) * 2010-08-31 2014-11-05 Dmg森精機株式会社 変位検出装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2011122946A5 (enExample)
KR102304325B1 (ko) 방사선 소스
JP2009204512A5 (enExample)
TWI583917B (zh) 檢測方法及裝置、用於其中的基板及元件製造方法
CN110261067B (zh) 波前测量方法及装置、以及曝光方法及装置
TWI591322B (zh) Birefringence measurement apparatus, birefringence measurement method, film inspection apparatus, and film inspection method
JP2011155302A5 (enExample)
TW201203419A (en) Inspection method and apparatus, and associated computer readable product
JP2009038339A (ja) 検査方法および装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セルおよびデバイス製造方法
TW201219747A (en) Self-referencing interferometer, alignment system, and lithographic apparatus
TW201207572A (en) Position sensor and lithographic apparatus
US9760020B2 (en) In-situ metrology
TWI723331B (zh) 用於判定在基板上之目標結構之位置的裝置與方法
CN110730930B (zh) 对准测量系统
KR20150097415A (ko) 검출 장치, 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법
KR20120080198A (ko) 기판 상에서 대상물의 대략적인 구조를 결정하기 위한 방법, 검사 장치 및 기판
JP2015021904A5 (enExample)
JP2010122207A5 (ja) 測定装置、光源装置、干渉測定装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2016536576A5 (enExample)
JP2019117386A5 (ja) エンコーダ装置及び露光装置
JP2018025817A5 (ja) エンコーダ装置及び計測方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法
CN112740111A (zh) 辐射系统
WO2014128010A3 (en) Euv light source for generating a used output beam for a projection exposure apparatus
JP2012519291A5 (enExample)
JP2013164339A5 (enExample)