JP2011118049A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101413873B1 (ko) 2010-06-16 2014-06-30 아사히 가세이 가부시키가이샤 롤러 몰드의 제작 장치 및 제작 방법
JP5968601B2 (ja) * 2011-06-30 2016-08-10 株式会社ホロン ロールモールド製作装置およびロールモールド作製方法
US9391236B2 (en) * 2011-08-31 2016-07-12 Asahi Kasei E-Materials Corporation Substrate for optics having a plurality of dot lines, semiconductor light emitting device. and exposure apparatus
CN102566260A (zh) * 2011-12-30 2012-07-11 西安交通大学 超长光栅尺辊压模具表面图形化的快速加工方法
CN104380206B (zh) * 2012-05-14 2017-03-08 旭化成株式会社 滚筒模具的制作装置及制作方法
JP6047051B2 (ja) * 2013-03-28 2016-12-21 日立マクセル株式会社 光学素子および光学装置
JP6818479B2 (ja) 2016-09-16 2021-01-20 デクセリアルズ株式会社 原盤の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3668600B2 (ja) * 1997-11-07 2005-07-06 大日本スクリーン製造株式会社 画像出力装置
JPH11149642A (ja) * 1997-11-14 1999-06-02 Canon Inc 光記録媒体およびその製造方法
JP4258013B2 (ja) * 2001-08-08 2009-04-30 株式会社オーク製作所 多重露光描画装置および多重露光描画方法
CN100572088C (zh) * 2004-01-27 2009-12-23 旭化成电子材料株式会社 用于制造能够激光蚀刻的印刷基底的方法
JP2007144995A (ja) * 2005-10-25 2007-06-14 Dainippon Printing Co Ltd 光硬化ナノインプリント用モールド及びその製造方法
JP4559997B2 (ja) * 2006-03-31 2010-10-13 財団法人光産業技術振興協会 偏光板
JP4367442B2 (ja) * 2006-06-23 2009-11-18 ヤマハ株式会社 光ディスク描画方法および光ディスク描画装置
JP2008004243A (ja) * 2006-06-26 2008-01-10 Yamaha Corp 光ディスク描画方法および光ディスク装置並びに光ディスク記録媒体
JP5028892B2 (ja) * 2006-07-18 2012-09-19 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 画像形成装置及びプリントヘッド
WO2009093700A1 (ja) * 2008-01-25 2009-07-30 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha シームレスモールドの製造方法

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