JP2011114185A - レーザー光源装置、レーザー光源装置の製造方法、プロジェクター及びモニター装置 - Google Patents

レーザー光源装置、レーザー光源装置の製造方法、プロジェクター及びモニター装置 Download PDF

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Abstract

【課題】高出力化を実現することが可能なレーザー光源装置、レーザー光源装置の製造方法及びプロジェクターを提供する。
【解決手段】レーザー光を射出する第１発光部４１Ｒ、４２Ｒと第２発光部４１Ｇ、４２Ｇをそれぞれ有する第１、第２発光素子３１、３２と、それらそれぞれから射出されたレーザー光の光路上に配置され、入射するレーザー光の一部を第１、第２発光素子に向かう方向とは異なる方向に射出させ、残りのレーザー光を第１、第２発光素子に向かう方向に射出させる第１，第２分離部１４，１５とを備え、第１、第２発光素子それぞれの第１、第２発光部は、互いに一方の発光部から射出されたレーザー光が他方の発光部に入射するように対応して形成されており、第１発光素子の第１発光部と第２発光素子の第１発光部との間隔を、第１発光素子の第２発光部と第２発光素子の第２発光部との間隔より長くする。
【選択図】図３

Description

本発明は、レーザー光源装置及びレーザー光源装置の製造方法、プロジェクター及びモニター装置に関する。
従来から、プロジェクター等の光学装置用の照明光源として高圧水銀ランプが多用されてきたが、色再現性、瞬時点灯が難しい、寿命が短い等の課題がある。そこで、この分野において、これらの課題を解決するためにレーザー光源装置の開発が進められている。特に外部共振器構造を持つレーザー光源装置は、外部共振器の使用により特定の波長の光が強められ、高出力が得られるものである。また、例えば赤外レーザー光などの基本波長の光を発振させた後、第２高調波発生素子（Second Harmonic Generator,以下、ＳＨＧと略記する）等の波長変換素子を用いて、赤外レーザー光を１／２の波長の可視光に変換する技術が用いられる。
レーザー発振器内ではレーザー光を何度も往復させ、誘導放出を連続的に起こしてレーザー光を増幅させることが必要であるが、光軸がわずかでもずれていると十分な往復ができず、レーザー発振ができない状態となってしまう。したがって、外部共振器型のレーザー光源装置において、エミッター（発光部）を含むレーザーダイオードと外部共振ミラーとのアライメント（位置合わせ）は極めて重要であり、アライメント精度が悪いと十分な出力が得られない。そこで、レーザー励起媒体の熱レンズ効果によるアライメント精度の低下を抑制する方法として、外部共振ミラーの反射面を凹面とする方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この文献には、レーザー励起媒体の熱レンズ効果により出力レーザー光が広がったり、偏ったりしても、レーザー光が外部共振ミラーの凹状反射面で反射することで光軸寄りに戻るため、十分な出力が得られる、と記載されている。
特開２００４−３６３４１４号公報
ところが、上記特許文献１の方法を用いてレーザー励起媒体と外部共振ミラーのアライメント精度を確保したとしても、レーザーの高出力化には自ずと限界がある。そこで、更なる高出力化を進める手法として、２個のレーザーダイオードを光学的に対峙させた外部共振器構造が検討されている。すなわち、この外部共振器構造は、共振器の両端にレーザーダイオードが配置され、２個のレーザーダイオード間でレーザー光を往復させることにより誘導放出を連続的に起こし、レーザー光を増幅させる構成となっている。また、レーザーダイオードと外部共振ミラーとを用いた場合と比べてレーザー光の増幅が大きくなることが考えられ、高出力化に好適なレーザー光源装置を実現することができる。
しかしながら、この外部共振器構造において、十分なレーザー発振を生じさせるためには２個のレーザーダイオードのエミッター同士を精密にアライメントする必要がある。すなわち、わずかでもそれぞれのレーザーダイオードから射出されたレーザー光の中心軸がずれると、十分な往復ができず、レーザー発振が起こらない状態や、レーザー光が正確にレーザーダイオードに戻らず光量を損失することになってしまう。このように、２個のレーザーダイオードを光学的に対峙させた外部共振器構造を有する光源装置を作製するのは困難であり、正確に対峙されたレーザーダイオードにレーザー光が戻らないため低出力化を招いてしまう。
また、この外部共振器構造においては、２個のレーザーダイオードを光学的に対峙させるため、レーザー光源装置が大型になることが懸念される。
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであって、発光素子同士を互いに対峙させる形態の共振器構造を有するレーザー光源において、高出力化および小型化を実現することが可能なレーザー光源装置、レーザー光源装置の製造方法、プロジェクター及びモニター装置を提供することが可能である。
上記課題を解決するために、本発明は、以下の形態または適用例として手段を提供する。
本適用例のレーザー光源装置は、レーザー光を射出する第１発光部と第２発光部とを有する第１発光素子と、レーザー光を射出する第１発光部と第２発光部とを有する第２発光素子と、前記第１発光素子及び前記第２発光素子のそれぞれから射出されたレーザー光の光路上に配置され、入射するレーザー光の一部を前記第１発光素子及び前記第２発光素子に向かう方向とは異なる方向に射出させ、残りのレーザー光を前記第１発光素子及び前記第２発光素子に向かう方向に射出させる第１，第２分離部とを備え、前記第１発光素子の第１発光部及び前記第２発光素子の第１発光部は、互いに一方の発光部から射出されたレーザー光が他方の発光部に入射するように対応して形成されており、前記第１発光素子の第２発光部及び前記第２発光素子の第２発光部は、互いに一方の発光部から射出されたレーザー光が他方の発光部に入射するように対応して形成されており、前記第１発光素子の第１発光部と前記第２発光素子の第１発光部との間隔は、前記第１発光素子の第２発光部と前記第２発光素子の第２発光部との間隔より長いことを特徴とする。
本適用例に係るレーザー光源装置では、第１発光素子の発光部から射出されたレーザー光は、第２発光素子の発光部に入射し、第２発光素子の発光部から射出されたレーザー光は、第１発光素子の発光部に入射する。そして、第１発光素子の発光部と第２発光素子の発光部との間を往復したレーザー光のうち、一部のレーザー光は、第１，第２分離部により、第１，第２発光素子とは異なる方向に射出される。一方、残りのレーザー光は、第１，第２分離部により、第１，第２発光素子に射出される。これにより、光の利用効率を向上させることが可能となり、高出力化を実現することができる。
さらに、第１発光素子の第１発光部と第２発光素子の第１発光部との間隔は、第１発光素子の第２発光部と第２発光素子の第２発光部との間隔より長い。これにより、第１発光部と第２発光部との平面的な配置に自由度が生じ、レーザー光源装置を小型にすることが可能となる。
また、本適用例のレーザー光源装置は、前記第１分離部と第２分離部とは、前記光路上の、前記第１発光素子の第１発光部から前記第１分離部までの光路長が前記第１発光素子の第２発光部から前記第１分離部までの光路長より短く、前記第２発光素子の第１発光部から前記第２分離部までの光路長が前記第２発光素子の第２発光部から前記第２分離部までの光路長より短く、前記第１分離部から前記第２分離部までの、前記第１発光部から射出されたレーザー光の光路長が前記第１発光部から射出されたレーザー光の光路長より長い、位置に配置されることが好ましい。
本適用例に係るレーザー光源装置では、第１発光部どうしと第２発光部どうしの光路長の差を小さくまたは光路長を同一にすることができる。これにより、アライメントが容易に行なえると共に、光路条件の均一化による高出力化が可能となる。さらに、各部材の配置がコンパクトになり、レーザー光源装置を小型にすることが可能となる。
また、本適用例のレーザー光源装置は、前記第１発光素子の第１発光部及び前記第２発光素子の第１発光部が、それぞれ複数の発光部を備え、前記第１発光素子の第１発光部の複数の発光部の配列方向と、前記第２発光素子の第１発光部の複数の発光部の配列方向とが略平行であり、前記第１発光素子の第１発光部の隣接する発光部間の間隔と、前記第２発光素子の第１発光部の隣接する発光部間の間隔とが略同一であり、前記第１分離部に前記第１発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光が入射し、前記第２分離部に前記第２発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光が入射することが好ましい。
本適用例に係るレーザー光源装置では、第１発光素子の第１発光部の複数の発光部の配列方向と、第２発光素子の第１発光部の複数の発光部の配列方向とが略平行であり、第１発光素子の第１発光部の隣接する発光部間の間隔と、第２発光素子の第１発光部の隣接する発光部間の間隔とが略同一である。これにより、第１発光素子の第１発光部の複数の発光部及び第２発光素子の第１発光部の複数の発光部は、位置精度良く形成されているため、一方の発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光を他方のレーザー光に正確に入射させることが可能となる。
また、第１発光素子の第１発光部の複数の発光部から射出されたレーザー光が第１分離部に入射し、第２発光素子の第１発光部の複数の発光部から射出されたレーザー光が第２分離部に入射するため、複数のレーザー光をまとめて分離するので、第１，第２分離部の配置の位置合わせが簡易化される。
また、本適用例のレーザー光源装置は、第１発光部と第２発光部とは異なる色の光を射出する発光部であることが好ましい。
本適用例に係るレーザー光源装置では、異なる色の光を射出するレーザー光源装置をコンパクトに構成することができ、装置としての小型化が可能となる。
また、本適用例のレーザー光源装置は、前記第１発光素子と前記第２発光素子とは、それぞれ前記第１発光部と前記第２発光部と第３発光部とを有し、前記第３発光部は、前記第１発光部及び前記第２発光部とは異なる色の光を射出する発光部であり、前記第１発光素子と前記第２発光素子との間の、前記第１発光部どうしの間隔は前記第２発光部どうしの間隔より長く、前記第２発光部どうしの間隔は前記第３発光部どうしの間隔より長いことが好ましい。
本適用例に係るレーザー光源装置では、異なる色の光を射出するレーザー光源装置をコンパクトに構成することができ、装置としての小型化が可能となる。
また、異なる色の光を射出する発光部どうしの光路長を同一にすることができる。よって、各色のレーザー光線のビームウェストの位置を合わせることができるとともに、熱レンズの焦点位置を同じとして扱うことができる。
また、本適用例のレーザー光源装置は、前記第１分離部と前記第２分離部との間の光路上に配置され、前記第１発光素子及び前記第２発光素子から射出される基本波長のレーザー光がそれぞれ入射され、少なくとも基本波長のレーザー光の一部を所定の変換波長のレーザー光に変換する波長変換素子を備え、前記第１，第２分離部は、前記所定の変換波長に変換されたレーザー光を前記第１，第２発光素子とは異なる方向へ射出させ、前記所定の変換波長に変換されなかった基本波長のレーザー光を前記第１，第２発光素子に射出させることが好ましい。
本適用例に係るレーザー光源装置では、第１，第２発光素子から射出された基本波長のレーザー光の少なくとも一部は、波長変換素子を通過することより、所定の変換波長のレーザー光に変換される。そして、所定の変換波長に変換されたレーザー光は、第１，第２発光素子とは異なる方向へ射出され、所定の変換波長に変換されなかった基本波長のレーザー光は、第１，第２発光素子へ射出される。このように、波長変換素子を用いることにより、例えば赤外のレーザー光を可視光のレーザー光に変換することができるため、所望の波長のレーザー光を得ることが可能となる。
また、本適用例のレーザー光源装置は、前記第１発光素子の発光部及び前記第２発光素子の発光部は、１つのレーザー基板上に形成されていることが好ましい。
本適用例に係るレーザー光源装置では、前記第１発光素子の発光部及び前記第２発光素子の発光部は、１つのレーザー基板上に形成されているため、対向する発光素子にレーザー光を精度良く入射させる構成となっている。これにより、第１，第２発光素子のそれぞれの発光部から射出されたレーザー光を損失させることなく、対向する発光素子に入射させることが可能となる。したがって、光の利用効率を向上させることが可能となり、高出力化を実現することができる。
さらに、複数の発光部を同一レーザー基板上に形成することにより、１つのレーザー基板あたりの発光部の取り個数を増やすことが可能となる。
本適用例のレーザー光源装置の製造方法は、上記のレーザー光源装置の製造方法であって、フォトリソグラフィーを用いて前記レーザー基板上に前記第１発光素子及び前記第２発光素子を形成することを特徴とする。
本適用例に係るレーザー光源装置の製造方法では、フォトリソグラフィーを用いて第１，第２発光素子を形成しているため、レーザー基板上に第１発光素子及び第２発光素子の位置精度を数十ナノレベルまで合わせることができる。したがって、レーザー基板上に第１発光素子及び第２発光素子を簡易な方法で、精度良く形成することが可能となる。
本適用例のプロジェクターは、上記のレーザー光源装置と、該レーザー光源装置から射出されたレーザー光を画像信号に応じて変調する光変調装置と、該光変調装置により形成された画像を投射する投射装置とを備えることを特徴とする。
本適用例に係るレーザープロジェクターでは、レーザー光源装置より射出された光は光変調装置に入射される。そして、光変調装置により形成された画像が、投射装置によって投射される。このとき、光源装置より射出される光は、上述したように、高出力なレーザー光を射出するため、明るく鮮明な画像を表示することが可能となる。
本適用例のモニター装置は、上記のレーザー光源装置と、該レーザー光源装置から射出された光により被写体を撮像する撮像手段とを備えることを特徴とする。
本適用例に係るモニター装置では、レーザー光源装置より射出されたレーザー光は被写体を照射し、撮像手段により被写体を撮像する。このとき、上述したように、高出力なレーザー光を射出するため、明るい光により被写体が照射される。したがって、撮像手段により被写体を鮮明に撮像することが可能となる。
本発明の第１実施形態に係るレーザー光源装置を示す平面図である。 図１の第１，第２発光素子を示す上面図である。 本発明の第２実施形態に係るレーザー光源装置を示す平面図である。 図３の第１，第２発光素子を示す上面図である。 本発明の第３実施形態に係るレーザー光源装置を示す平面図である。 図５の第１，第２発光素子を示す上面図である。 図５のレーザー光源装置の製造方法を示す上面図である。 図５のレーザー光源装置の製造方法を示す上面図である。 本発明の第４実施形態に係るプロジェクターを示す概略構成図である。 本発明の第５実施形態に係る走査型の画像表示装置を示す概略構成図である。 本発明の第６実施形態に係るモニター装置を示す概略構成図である。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態に係るレーザー光源装置、レーザー光源装置の製造方法、プロジェクター及びモニター装置について説明する。なお、以下の図面においては、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
［第１実施形態］
レーザー光源装置１は、図１に示すように、基台１１と、第１半導体レーザー素子（第１発光素子）１２と、第２半導体レーザー素子（第２発光素子）１３と、第１ダイクロイックミラー（第１分離部）１４と、第２ダイクロイックミラー（第２分離部）１５と、波長変換素子１６と、光路変換プリズム１９とを備えている。
ここで、第１，第２半導体レーザー素子１２，１３から射出されるレーザー光の射出方向をＺ軸とし、後述するエミッター２２，２３の配列方向をＸ軸とし、射出方向及び配列方向に直交する軸をＹ軸とする。
第１，第２半導体レーザー素子１２，１３は、基台１１上に設けられた１つのレーザー基板１８上に射出端面１２ａ，１３ａが紙面上方を向くように配置されている。すなわち、第１，第２半導体レーザー素子１２，１３から射出されたレーザー光はいずれもＺ軸方向を向くように射出される。
また、第１半導体レーザー素子１２側から順に第１ダイクロイックミラー１４、波長変換素子１６、第２ダイクロイックミラー１５が、第１，第２半導体レーザー素子１２，１３から射出されたレーザー光の光路上に配置されている。
第１，第２半導体レーザー素子１２，１３は、図１に示すように、基台１１上に設けられた１つのレーザー基板１８上に形成されている。
第１，第２半導体レーザー素子１２，１３は、射出端面１２ａ，１３ａから、例えば、１０６０ｎｍの波長の赤外レーザー光（基本波長の光）を射出する面発光型レーザーダイオードであり、図２に示すように、平面視が矩形状のエミッター（発光部）２２，２３がそれぞれ複数形成されている。具体的には、第１，第２半導体レーザー素子１２，１３は、Ｘ軸方向に複数のエミッター２２，２３を有している。そして、第１半導体レーザー素子１２の複数（図示例では６個）のエミッター２２と、第２半導体レーザー素子１３の複数（図示例では６個）のエミッター２３とは、１対１対応している。
第１，第２半導体レーザー素子１２，１３は、レーザー基板１８上にフォトリソグラフィーを使った半導体プロセスを用いて形成されている。これにより、図２に示すように、複数のエミッター２２の配列方向と、複数のエミッター２３の配列方向とが平行、すなわち、Ｙ軸方向の隣接するエミッター２２と、複数のエミッター２２のそれぞれに対応するＹ軸方向に隣接して配置されたエミッター２３との間隔Ｌがすべて同じに形成されている。さらに、Ｘ軸方向の隣接するエミッター２２間の間隔Ｍ１と、Ｘ軸方向の隣接するエミッター２３間の間隔Ｍ２とが略同一に形成されている。
また、エミッター２２は、図１の拡大図に示すように、ＤＢＲ（Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｅｄ Ｂｒａｇｇ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ）層２２ａ上に、活性層２２ｂが積層された構成になっている。なお、エミッター２３においてもエミッター２２と同様と同様に、ＤＢＲ層２３ａ上に、活性層２３ｂが積層された構成である。
これにより、第１半導体レーザー素子１２から射出されたレーザー光は、第２半導体レーザー素子１３に入射し、第２半導体レーザー素子１３から射出されたレーザー光は、第１半導体レーザー素子１２に入射する。すなわち、第１半導体レーザー素子１２と第２半導体レーザー素子１３との間をレーザー光が往復しつつ、レーザー発振が生じる。すなわち、第１，第２半導体レーザー素子１２，１３でレーザー光源をなしている。
波長変換素子１６は、図１に示すように、第１ダイクロイックミラー１４と第２ダイクロイックミラー１５との間に配置されている。また、波長変換素子１６は、レーザー基板１８上に載置された支持部材２１上に設けられており、一端面１６ａから複数のエミッター２２から射出されたレーザー光がすべて入射するように配置され、他端面１６ｂから複数のエミッター２３から射出されたレーザー光がすべて入射するように配置されている。
また、波長変換素子１６は、非線形光学素子であるＰＰＬＮ（Ｐｅｒｉｏｄｉｃａｌｌｙ Ｐｏｌｅｄ Ｌｉｔｈｉｕｍ Ｎｉｏｂａｔｅ）が用いられ、入射光をほぼ半分の波長に変換し、２次高調波を発生させるＳＨＧとして機能する。
そして、図１に示すように、第１半導体レーザー素子１２から射出され、第２半導体レーザー素子１３に向かう光のうち一部の光は、波長変換素子１６を通過することによって、ほぼ半分の（５３０ｎｍ）の緑色のレーザー光（所定の変換波長の光）に変換される。同様に、第２半導体レーザー素子１３から射出され、第１半導体レーザー素子１２に向かう光のうち一部の光は緑色のレーザー光に変換される。
第１，第２ダイクロイックミラー１４，１５は、図２に示すように、複数のエミッター２２，２３から射出されたレーザー光が入射し、赤外レーザー光を反射させ第１，第２半導体レーザー素子１２，１３へ射出し、可視光を透過させ第１，第２半導体レーザー素子１２，１３とは異なる方向へ射出させるミラーである。
第１ダイクロイックミラー１４は、第１半導体レーザー素子１２から射出されたレーザー光が略４５°の角度で入射するように配置されており、波長変換素子１６に向かって反射される。
また、第２ダイクロイックミラー１５は、第２半導体レーザー素子１３から射出されたレーザー光が略４５°の角度で入射するように配置されており、波長変換素子１６に向かって反射される。
この構成により、第１半導体レーザー素子１２から射出された赤外レーザー光のうち、第１ダイクロイックミラー１４で反射し、波長変換素子１６を通過し、緑色のレーザー光に変換されなかった赤外レーザー光は、第２ダイクロイックミラー１５で反射され、第２半導体レーザー素子１３に入射する。すなわち、第１半導体レーザー素子１２から射出された赤外レーザー光Ｗ１は、第１半導体レーザー素子１２のＤＢＲ層２２ａと第２半導体レーザー素子１３のＤＢＲ層２３ａとの間で共振し増幅される。また、第２半導体レーザー素子１３から射出された赤外レーザー光Ｗ１も同様である。
一方、各第１半導体レーザー素子１２，１３から射出され、波長変換素子１６を通過することにより、少なくとも一部のレーザー光が緑色に変換される。緑色に変換されたレーザー光Ｗ２は、第１ダイクロイックミラー１４を通過し−Ｙ軸方向、あるいは、第２ダイクロイックミラー１５を透過し＋Ｙ軸方向に射出される。
光路変換プリズム１９は、図１に示すように、第２ダイクロイックミラー１５を透過したレーザー光の光路上に配置されており、図示しない保持部材により、基台１１に固定されている。この光路変換プリズム１９は、第１ダイクロイックミラー１４を透過した緑色のレーザー光と略同一方向の光路に、第２ダイクロイックミラー１５を透過した緑色のレーザー光の光路を変換するものである。
具体的には、光路変換プリズム１９は、直角三角プリズムであり、第２ダイクロイックミラー１５を透過したレーザー光を第１面１９ａで反射させ、さらに、第１面１９ａと９０°の角度をなす第２面１９ｂで反射させる。このように、第２ダイクロイックミラー１５を透過したレーザー光の光路を９０°変換する。したがって、第２ダイクロイックミラー１５を透過したレーザー光Ｌ１と、第１ダイクロイックミラー１４を透過したレーザー光Ｌ２とを略平行にすることが可能となる。
また、第１ダイクロイックミラー１４と波長変換素子１６との間には、ＢＰＦ（Ｂａｎｄ−ｐａｓｓ ｆｉｌｔｅｒ）１７が配置されている。このＢＰＦ１７は、所定の変換波長の光のみを透過させ、発振波長のスペクトルを制限するものであり、ＢＰＦ１７により緑色のレーザー光が安定して出力されるようになっている。
以上より、本実施形態に係るレーザー光源装置１では、第１半導体レーザー素子１２及び第２半導体レーザー素子１３は、１つのレーザー基板１８上に形成されているため、位置精度良く対向する発光素子にレーザー光を入射させることが可能となる。これにより、第１，第２半導体レーザー素子１２，１３のそれぞれのエミッター２２，２３から射出されたレーザー光を損失させることなく、対向する発光素子に入射させることが可能となる。したがって、光利用効率を向上させ、高出力化を実現することが可能となる。
また、第１，第２半導体レーザー素子１２，１３が複数のエミッター２２，２３を有していても、１つのレーザー基板１８上に複数のエミッター２２，２３が形成されているため、複数のエミッター２２，２３を位置精度良く形成することが可能となる。
また、フォトリソグラフィーを使った半導体プロセスを用いて、レーザー基板１８上に第１，第２半導体レーザー素子１２，１３を形成しているため、第１，第２半導体レーザー素子１２，１３の位置精度を数十ナノレベルまで合わせることができる。したがって、レーザー基板１８上に第１，第２半導体レーザー素子１２，１３を簡易な方法で、精度良く形成することが可能となる。
つまり、本実施形態のレーザー光源装置１及びレーザー光源装置１の製造方法は、高出力化を実現することが可能である。
なお、波長変換素子１６を必ずしも備えていなくても良い。すなわち、波長変換素子１６を用いない場合は、第１半導体レーザー素子１２と第２半導体レーザー素子との間隔Ｌを狭くすることができるため、１つのレーザー基板１８からの第１、第２半導体レーザー素子１２，１３の取り個数を増やすことが可能となる。また、この場合、第１，第２分離部として第１，第２ダイクロイックミラー１４，１５に限らず、第１分離部として、所定の状態に変換されたレーザー光を第１半導体レーザー素子１２とは異なる方向に射出させ、所定の状態に変換されなかったレーザー光を第１半導体レーザー素子１２に射出させるものを用いれば良い。第２分離部についても同様である。
また、第１，第２半導体レーザー素子１２，１３が複数のエミッター２２，２３を有するレーザー基板１８を用いたが、１つのエミッター２２を有する第１半導体レーザー素子１２と、１つのエミッター２３を有する第２半導体レーザー素子１３とを備えたレーザー基板であっても良い。
また、レーザー基板１８上に第１，第２半導体レーザー素子１２，１３を形成する方法としては、フォトリソグラフィーに限らない。すなわち、一方のレーザー素子のエミッターから射出されたレーザー光が他方のレーザー素子のエミッターに入射するように対応して形成されていれば良い。
［第２実施形態］
次に、本発明に係る第２実施形態について、図３を参照して説明する。なお、以下に説明する各実施形態の図面において、上述した第１実施形態に係るレーザー光源装置１と構成を共通とする箇所には同一符号を付けて、説明を省略することにする。
本実施形態に係るレーザー光源装置３０では、第１，第２半導体レーザー素子３１，３２が複数の色光を射出するエミッター４１，４２を備える点において第１実施形態と異なる。その他の構成においては第１実施形態と同様である。
第１半導体レーザー素子３１は、図３に示すように、１２４０ｎｍの波長の赤外レーザー光（基本波長の光）を射出する赤色用エミッター（第１発光部、赤色光用発光部）４１Ｒと、１０６０ｎｍの波長の赤外レーザー光（基本波長の光）を射出する緑色用エミッター（第２発光部、緑色光用発光部）４１Ｇと、９２０ｎｍの波長の赤外レーザー光（基本波長の光）を射出する青色用エミッター（第３発光部、青色光用発光部）４１Ｂとを備えている。また、各エミッター４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂは、６個ずつ設けられている。
同様に、第２半導体レーザー素子３２も、図３に示すように、赤色用エミッター（第１発光部、赤色光用発光部）４２Ｒと、緑色用エミッター（第２発光部、緑色光用発光部）４２Ｇと、青色用エミッター（第３発光部、青色光用発光部）４２Ｂとを備えている。
第１半導体レーザー素子３１及び第２半導体レーザー素子３２は、図４に示すように、第１実施形態と同様に、基台１１上に設けられた１つのレーザー基板３５上に設けられている。また、レーザー基板３５の端部３５ａと反対の端部３５ｂ側に同色の発光部である赤色用エミッター４１Ｒ，４２Ｒが配置されている。そして、赤色用エミッター４１Ｒ，４２Ｒが配置された位置から中央部側に向かって緑色用エミッター４１Ｇ，４２Ｇが配置され、さらに、中央部側に青色用エミッター４１Ｂ，４２Ｂが配置されている。これにより、赤色用エミッター４１Ｒと４２Ｒとの間の間隔Ｌｒは、緑色用エミッター４１Ｇと４２Ｇとの間隔Ｌｇより長く、緑色用エミッター４１Ｇと４２Ｇとの間の間隔Ｌｇは、青色用エミッター４１Ｂと４２Ｂとの間隔Ｌｂより長くなっている。
第１半導体レーザー素子３１のＸ軸方向の隣接する赤色用エミッター４１Ｒ間の間隔Ｒ１と、第２半導体レーザー素子３１のＹ軸方向の隣接する赤色用エミッター４２Ｒ間の間隔Ｒ２とが略同一である。同様に、緑色用エミッター４１Ｇ間の間隔Ｇ１と、緑色用エミッター４２Ｇ間の間隔Ｇ２とが略同一であり、青色用エミッター４１Ｂ間の間隔Ｂ１と、青色用エミッター４２Ｂ間の間隔Ｇ２とが略同一である。
また、複数のエミッター４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂの配列方向と、複数の４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂの配列方向とが色ごとに平行である。すなわち、Ｘ軸方向の隣接する赤色用エミッター４１Ｒどうしでは、対応する赤色用エミッター４２Ｒとの間隔Ｌｒがすべて同じに形成されている。緑色用エミッター、青色用エミッターについても同様である。
赤色光用波長変換素子１６Ｒ，緑色光用波長変換素子１６Ｇ，青色光用波長変換素子１６Ｂが、色光ごとにこの順に支持部材２１側から設けられている。すなわち、支持部材２１上に赤色光用波長変換素子１６Ｒが設けられ、緑色光用波長変換素子１６Ｇが、赤色光用波長変換素子１６Ｒに対して紙面上方（Ｚ軸方向）に設けられ、青色光用波長変換素子１６Ｂが、緑色光用波長変換素子１６Ｇに対して紙面上方（Ｚ軸方向）に設けられている。
第１，第２ダイクロイックミラー１４，１５は、赤色用エミッター４１Ｒから射出されたレーザー光が赤色光用波長変換素子１６Ｒを通過して赤色用エミッター４２Ｒに入射するように、また緑色用エミッター４１Ｇから射出されたレーザー光が緑色光用波長変換素子１６Ｇを通過して緑色用エミッター４２Ｇに入射するように、さらに青色用エミッター４１Ｂから射出されたレーザー光が青色光用波長変換素子１６Ｂを通過して青色用エミッター４２Ｂに入射するように、配置されている。すなわち、レーザー基板３５の最も端部３５ａ，３５ｂ側に配置された赤色用エミッター４１Ｒ，４２Ｒから射出されたレーザー光が第１，第２ダイクロイックミラー１４，１５までの光路長が最も短く、緑色用エミッター４１Ｇ，４２Ｇから射出されたレーザー光の光路長、青色用エミッター４１Ｂ，４２Ｂから射出されたレーザー光の光路長の順に長くなる。そして、第１，第２ダイクロイックミラー１４，１５から波長変換素子１６の一端面１６ａ，他端面１６ｂまでの光学的距離は、赤光用エミッター４１Ｒ，４２Ｒから射出されたレーザー光の光路長が最も長く、緑光用エミッター４１Ｇ，４２Ｇから射出されたレーザー光の光路長、青光用エミッター４１Ｂ，４２Ｂから射出されたレーザー光の光路長の順に短くなる。また、第１ダイクロイックミラー１４から第２ダイクロイックミラー１５までの光学的距離は、赤光用エミッター４１Ｒ，４２Ｒから射出されたレーザー光の光路長が最も長く、緑光用エミッター４１Ｇ，４２Ｇから射出されたレーザー光の光路長、青光用エミッター４１Ｂ，４２Ｂから射出されたレーザー光の光路長の順に短くなる。
したがって、各エミッター４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ，４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂから射出され、波長変換素子１６に入射するレーザー光の光路長はすべて略同一である。
以上より、本実施形態に係るレーザー光源装置３０では、第１実施形態のレーザー光源装置１と同様の効果を得ることができる。さらに、本実施形態のレーザー光源装置３０では、レーザー光源装置をコンパクトに構成できるほか、高出力が実現できる。そして、ダイクロイックミラーや光路変換プリズムを異なるエミッターに対して共通して使用できるため、レーザー光源装置を安価に製造することも可能となる。
また、本実施形態のレーザー光源装置３０では、３色のエミッター４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ，４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂが同一のレーザー基板３５に形成されているため、１つのレーザー基板３５あたりのエミッターの取り個数を増やすことができる。
さらに、対応するエミッター間の間隔が異なる配置になるように形成されているため、エミッターが形成されていない領域の間隔Ｌｂを第１実施形態の間隔Ｌに比べて狭くすることができるため、無駄になる領域を減らすことが可能となる。また、各エミッター４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ，４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂから射出されたレーザー光の光路長を略同一とすることが可能となる。
よって、各色のレーザー光線のビームウェストの位置を合わせることができる。ビームウェストの位置に波長変換素子を配置すれば波長変換効率を高めることができるので、各色用の波長変換素子の位置を合わせることができる。また、熱レンズの焦点位置を同じとして扱うことができる。
なお、本実施形態においては、各エミッター４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ，４２Ｒ，４２Ｇ，４２Ｂが１個のエミッターであっても良い。
この場合でも、対応するエミッター間の間隔が異なる配置になるように形成されているため、各色のエミッターをコンパクトに配置させることができる。また、出力された光を合成する際に合成系の光学部材を小さくすることができる。よって、高出力のレーザー光源装置を小型にすることが可能となる。
本実施形態においては、第１半導体レーザー素子３１及び第２半導体レーザー素子３２は、１つのレーザー基板３５上に設けられていなくてもよい。各エミッターが別のレーザー基板上に形成されていても良い。
この場合でも、対応するエミッター間の間隔が異なる配置になるように形成されているため、複数のエミッターをコンパクトに配置させることができ、高出力のレーザー光源装置を小型にすることが可能となる。
本実施形態においては、レーザー光源装置３０として、赤色光、緑色光、青色光を射出させたが、同一の色光を射出させても良い。この構成の場合、複数のエミッターから射出される赤外レーザー光の波長はすべて同じにすれば良い。
この場合でも、対応するエミッター間の間隔が異なる配置になるように形成されているため、各色のエミッターをコンパクトに配置させることができる。また、出力された光を合成する際に合成系の光学部材を小さくすることができる。よって、高出力のレーザー光源装置を小型にすることが可能となる。
本実施形態においては、レーザー基板３５の端部３５ａ，３５ｂから中央に向かって赤色用エミッター４１Ｒ，４２Ｒ、緑色用エミッター４１Ｇ，４２Ｇ、青色用エミッター４１Ｂ，４２Ｂの順に配置したが順番はこれに限らない。
この場合でも、異なる色の光を射出するレーザー光源装置をコンパクトに構成することができ、装置としての小型化が可能となる。
［第３実施形態］
次に、本発明に係る第３実施形態について、図５から図８を参照して説明する。
本実施形態に係るレーザー光源装置５０の製造方法は、図５に示すように、レーザー基板５１の形状において第１実施形態と異なるレーザー光源装置５０の製造方法である。
レーザー基板５１は、図６に示すように、第１半導体レーザー素子５２の複数の第１エミッター（第１発光部）６２が形成された第１レーザー基板５１ａと、第２半導体レーザー素子５３の第２エミッター（第２発光部）６３が形成された第２レーザー基板５１ｂとを備えている。なお、図６では、６個の第１，第２エミッター６２，６３が形成されている。
また、図６に示すように、第１，第２レーザー基板５１ａ，５１ｂに形成された第１エミッター６２と、第１エミッター６２のそれぞれに対応する第２エミッター６３は、第１実施形態と同様に、間隔Ｌがすべて同じに形成されている。また、Ｘ軸方向の隣接する第１エミッター６２間の間隔Ｍ１と、Ｘ軸方向の隣接する第２エミッター６３間の間隔Ｍ２とが略同一に形成されている。
また、基台１１の材料としては、具体的には、シリコン（Ｓｉ）、石英（ＳｉＯ2）、サファイア（Ａｌ2Ｏ3）等を用いることが可能である。
次に、以上の構成からなる本実施形態のレーザー光源装置５０の製造方法について説明する。
まず、図７に示すように、基台１１上に第１レーザー基板５１ａ及び第２レーザー基板５１ｂを配置し、第１，第２レーザー基板５１ａ，５１ｂを基台１１に接着する。接着方法としては、プラズマ、ドライフィルム、スピンオン接着剤、あるいは、ワックス等を使用する方法が挙げられる。このとき、第１レーザー基板５１ａと第２レーザー基板５１ｂとは平行に配置することが好ましいが、平行に置かれていなくても良い。
次に、図８に示すように、第１レーザー基板５１ａに、フォトリソグラフィーを使った半導体プロセスにより、複数の第１エミッター６２を形成し、第２レーザー基板５１ｂに、フォトリソグラフィーを使った半導体プロセスにより、複数の第２エミッター６３を複数の第１エミッター６２に対応して形成する。
その後、第１，第２ダイクロイックミラー１４，１５、波長変換素子１６を所定の位置に配置することにより、図５に示すようなレーザー光源装置５０が製造される。
以上より、本実施形態に係るレーザー光源装置５０では、基台１１と第１，第２レーザー基板５１ａ，５１ｂとを接着する接着工程の後に、第１，第２エミッター６２，６３を形成している。これにより、例えば、２つのレーザー基板５１ａ，５１ｂを平行に接着できなかった場合でも、第１，第２レーザー基板５１ａ，５１ｂ上に第１，第２エミッター６２，６３を精度良く形成することにより、第１半導体レーザー素子５２から射出されたレーザー光が、第２半導体レーザー素子５３に正確に入射し、第２半導体レーザー素子５３から射出されたレーザー光が、第１半導体レーザー素子５２に正確に入射する。
また、第１レーザー基板５１ａ及び第２レーザー基板５１ｂは、第１，第２エミッター６２，６３が形成される大きさで良いため、第１，第２レーザー基板５１ａ，５１ｂの大きさを必要最低限の大きさにすることにより、第１，第２レーザー基板５１ａ，５１ｂのコストを抑えることが可能となる。
［第４実施形態］
以下、本発明に係る第４実施形態について図９を参照して説明する。
本実施形態では、上記第１〜第３実施形態の光源装置を備えるプロジェクターについて説明する。図１は本実施形態のプロジェクターの概略構成図である。
本実施形態のプロジェクター１００は、赤色光、緑色光、青色光をそれぞれ射出する赤色レーザー光源装置１Ｒ，緑色レーザー光源装置１Ｇ、青色レーザー光源装置１Ｂを備えており、これら光源装置が上記第１〜第３実施形態の光源装置１，３０，５０である。
プロジェクター１００は、レーザー光源装置１Ｒ，１Ｇ，１Ｂから射出された各色光をそれぞれ変調する透過型の液晶ライトバルブ（光変調装置）１０４Ｒ，１０４Ｇ，１０４Ｂと、液晶ライトバルブ１０４Ｒ，１０４Ｇ，１０４Ｂから射出された光を合成して投射レンズ１０７に導くクロスダイクロイックプリズム（色合成手段）１０６と、液晶ライトバルブ１０４Ｒ，１０４Ｇ，１０４Ｂによって形成された像を拡大してスクリーン１１０に投射する投射レンズ（投射手段）１０７と、を備えている。
さらに、プロジェクター１００は、レーザー光源装置１Ｒ，１Ｇ，１Ｂから射出されたレーザー光の照度分布を均一化させるための均一化光学系１０２Ｒ，１０２Ｇ，１０２Ｂを備えており、照度分布が均一化された光によって液晶ライトバルブ１０４Ｒ，１０４Ｇ，１０４Ｂを照明している。本実施形態では、均一化光学系１０２Ｒ，１０２Ｇ、１０２Ｂは、例えばホログラム１０２ａとフィールドレンズ１０２ｂによって構成されている。
各液晶ライトバルブ１０４Ｒ，１０４Ｇ，１０４Ｂによって変調された３つの色光は、クロスダイクロイックプリズム１０６に入射する。このプリズムは４つの直角プリズムを貼り合わせて形成され、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に配置されている。これらの誘電体多層膜によって３つの色光が合成され、カラー画像を表す光が形成される。そして、合成された光は投射光学系である投射レンズ１０７によりスクリーン１１０上に投写され、拡大された画像が表示される。
本実施形態のプロジェクター１００においては、赤色レーザー光源装置１Ｒ，緑色レーザー光源装置１Ｇ，青色レーザー光源装置１Ｂとして上記第１〜第３実施形態の光源装置１，３０，５０が用いられているので、小型、安価で明るい画像表示が可能なプロジェクターを実現することができる。
なお、光変調装置として透過型の液晶ライトバルブを用いたが、反射型のライトバルブを用いても良いし、液晶以外の光変調装置を用いても良い。このようなライトバルブとしては、例えば、反射型液晶ライトバルブやデジタルマイクロミラーデバイス（Digital Micromirror Device）が挙げられる。投射光学系の構成は、使用されるライトバルブの種類によって適宜変更すればよい。
［第５実施形態］
以下、本発明に係る第５実施形態について図１０を参照して説明する。
本実施形態では、走査型の画像表示装置について説明する。図１０は本実施形態の画像表示装置の概略構成図である。
本実施形態の画像表示装置２００は、図１０に示すように、上記第１実施形態のレーザー光源装置１と、レーザー光源装置１から射出された光をスクリーン２１０に向かって走査するＭＥＭＳミラー（走査手段）２０２と、レーザー光源装置１から射出された光をＭＥＭＳミラー２０２に集光させる集光レンズ２０３とを備えている。レーザー光源装置１から射出された光は、ＭＥＭＳミラー２０２の駆動によってスクリーン２１０上を水平方向、垂直方向に走査される。カラー画像を表示する場合は、例えばレーザーダイオードを構成する複数のエミッターを、赤、緑、青のピーク波長を持つエミッターの組み合わせによって構成すれば良い。
なお、第２，第３実施形態のレーザー光源装置３０，５０を用いても良い。
［第６実施形態］
以下、上記実施形態のレーザー光源装置１を応用したモニター装置３００の構成例について図１１を用いて説明する。
図１１は、本実施形態のモニター装置の概略構成図である。
本実施形態のモニター装置３００は、図１１に示すように、装置本体３１０と、光伝送部３２０と、を備える。装置本体３１０は、上述の第１実施形態のレーザー光源装置１を備えている。
光伝送部３２０は、光を送る側と受ける側の２本のライトガイド３２１，３２２を備えている。各ライトガイド３２１，３２２は、多数本の光ファイバを束ねたものであり、レーザー光を遠方に送ることができる。光を送る側のライトガイド３２１の入射側には光源装置１が設置され、その出射側には拡散板３２３が設置されている。レーザー光源装置１から射出されたレーザー光は、ライトガイド３２１を通じて光伝送部３２０の先端に設けられた拡散板３２３に送られ、拡散板３２３により拡散されて被写体を照射する。
光伝送部３２０の先端には、結像レンズ３２４が設けられており、被写体からの反射光を結像レンズ３２４で受けることができる。受けた反射光は、受け側のライトガイド３２２を通じて装置本体３１０内に設けられた撮像手段としてのカメラ３１１に送られる。この結果、レーザー光源装置１から射出されたレーザー光で被写体を照射して得られた反射光に基づく画像をカメラ３１１で撮像することができる。
本実施形態のモニター装置３００によれば、上記第１、第２実施形態のレーザー光源装置１が用いられているので、小型、安価で鮮明な撮像が可能なモニター装置を実現することができる。
なお、第２，第３実施形態のレーザー光源装置３０，５０を用いても良い。
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば第１、第２実施形態のレーザー光源装置におけるレーザーダイオード、波長選択ミラー、波長変換素子の具体的な構成については上記の例に限ることなく、適宜変更が可能である。
前記実施形態および各変形例から把握できる請求項に記載されている内容以外の技術的思想について、以下にその効果とともに記載する。
レーザー光を射出する発光部を有する第１発光素子と、レーザー光を射出する発光部を有する第２発光素子と、前記第１発光素子及び前記第２発光素子のそれぞれから射出されたレーザー光の光路上に配置され、入射するレーザー光の一部を前記第１発光素子及び前記第２発光素子に向かう方向とは異なる方向に射出させ、残りのレーザー光を前記第１発光素子及び前記第２発光素子に向かう方向に射出させる第１，第２分離部とを備え、前記第１発光素子及び前記第２発光素子は、１つのレーザー基板上に互いに一方の発光素子の発光部から射出されたレーザー光が他方の発光素子の発光部に入射するように対応して形成されていることを特徴とするレーザー光源装置。
このような構成では、第１発光素子の発光部から射出されたレーザー光は、第２発光素子の発光部に入射し、第２発光素子の発光部から射出されたレーザー光は、第１発光素子の発光部に入射する。そして、第１発光素子の発光部と第２発光素子の発光部との間を往復したレーザー光のうち、一部のレーザー光は、第１，第２分離部により、第１，第２発光素子とは異なる方向に射出される。一方、残りのレーザー光は、第１，第２分離部により、第１，第２発光素子に射出される。
このとき、第１発光素子及び第２発光素子は、１つのレーザー基板上に互いに一方の発光素子の発光部から射出されたレーザー光が他方の発光素子の発光部に入射するように対応して形成されているため、対向する発光素子にレーザー光を精度良く入射させる構成となっている。これにより、第１，第２発光素子のそれぞれの発光部から射出されたレーザー光を損失させることなく、対向する発光素子に入射させることが可能となる。したがって、光の利用効率を向上させることが可能となり、高出力化を実現することができる。
前記第１発光素子及び前記第２発光素子が、それぞれ複数の前記発光部を備え、前記第１発光素子の複数の発光部の配列方向と、前記第２発光素子の複数の発光部の配列方向とが略平行であり、前記第１発光素子の隣接する発光部間の間隔と、前記第２発光素子の隣接する発光部間の間隔とが略同一であり、前記第１分離部に前記第１発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光が入射し、前記第２分離部に前記第２発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光が入射することを特徴とするレーザー光源装置。
このような構成では、第１発光素子の複数の発光部の配列方向と、第２発光素子の複数の発光部の配列方向とが略平行であり、第１発光素子の隣接する発光部間の間隔と、第２発光素子の隣接する発光部間の間隔とが略同一である。これにより、第１発光素子の複数の発光部及び第２発光素子の複数の発光部は、位置精度良く形成されているため、一方の発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光を他方のレーザー光に正確に入射させることが可能となる。
また、第１発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光が第１分離部に入射し、第２発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光が第２分離部に入射するため、複数のレーザー光をまとめて分離するので、第１，第２分離部の配置の位置合わせが簡易化される。
前記第１，第２発光素子の複数の発光部は、それぞれ赤色光用、緑色光用、青色光用の赤色光用発光部、緑色光用発光部、青色光用発光部を有し、前記レーザー基板の端部側から中央部に向かって同色用の前記赤色光用発光部、緑色光用発光部、青色光用発光部が配置されていることを特徴とするレーザー光源装置。
このような構成では、赤色光用発光部、緑色光用発光部、青色光用発光部を同一レーザー基板上に形成することにより、１つのレーザー基板あたりの発光部の取り個数を増やすことが可能となる。
また、レーザー基板の端部側から中央部に向かって同色用の発光部が配置されているため、第１，第２分離部の配置により、各発光部から射出されたレーザー光の光路長を略同一にすることが可能となる。
支持基板上に、第１レーザー基板及び第２レーザー基板を配置し、前記支持基板と前記第１レーザー基板及び前記第２レーザー基板を接着する接着工程と、前記接着工程の後に、前記第１，第２レーザー基板上のそれぞれにレーザー光を射出する第１，第２発光部を形成する工程と、前記第１，第２発光素子から射出されたレーザー光のそれぞれの光路上に、入射したレーザー光を当該レーザー光の状態に応じて分離する第１，第２分離部を配置する工程とを備えることを特徴とするレーザー光源装置の製造方法。
このような製造方法では、支持基板上に、第１レーザー基板及び第２レーザー基板を配置し、支持基板に第１レーザー基板及び第２レーザー基板を接着する。その後、第１レーザー基板上にレーザー光を射出する第１発光部を形成し、また、第２レーザー基板上にレーザー光を射出する第２発光部を形成する。これにより、支持基板上に第１レーザー基板及び第２レーザー基板を接着した際、例えば、２つのレーザー基板を平行に接着できなかった場合でも、第１，第２レーザー基板上に第１，第２発光部を精度良く形成することが可能となる。したがって、互いに一方の発光素子の発光部から射出されたレーザー光を他方の発光素子の発光部に正確に入射させることが可能となる。
また、第１レーザー基板及び第２レーザー基板は、第１，第２発光部が形成される大きさで良いため、第１，第２レーザー基板の大きさを必要最低限の大きさにすることにより、レーザー基板のコストを抑えることが可能となる。
１，３０，５０…レーザー光源装置、１２，５２…第１半導体レーザー素子（第１発光素子）、１３，５３…第２半導体レーザー素子（第２発光素子）、１８…レーザー基板、２２…エミッター（発光部）、２３…エミッター（発光部）、４１Ｒ，４２Ｒ…赤色用エミッター（赤色光用発光部）、４１Ｇ，４２Ｇ…緑色用エミッター（緑色光用発光部）、４１Ｂ，４２Ｂ…青色用エミッター（青色光用発光部）、５１ａ…第１レーザー基板（レーザー基板）、５１ｂ…第２レーザー基板（レーザー基板）、６２…エミッター（第１発光部）、６３…エミッター（第２発光部）。

Claims (10)

  1. レーザー光を射出する第１発光部と第２発光部とを有する第１発光素子と、
    レーザー光を射出する第１発光部と第２発光部とを有する第２発光素子と、
    前記第１発光素子及び前記第２発光素子のそれぞれから射出されたレーザー光の光路上に配置され、入射するレーザー光の一部を前記第１発光素子及び前記第２発光素子に向かう方向とは異なる方向に射出させ、残りのレーザー光を前記第１発光素子及び前記第２発光素子に向かう方向に射出させる第１，第２分離部とを備え、
    前記第１発光素子の第１発光部及び前記第２発光素子の第１発光部は、互いに一方の発光部から射出されたレーザー光が他方の発光部に入射するように対応して形成されており、
    前記第１発光素子の第２発光部及び前記第２発光素子の第２発光部は、互いに一方の発光部から射出されたレーザー光が他方の発光部に入射するように対応して形成されており、
    前記第１発光素子の第１発光部と前記第２発光素子の第１発光部との間隔は、前記第１発光素子の第２発光部と前記第２発光素子の第２発光部との間隔より長いことを特徴とするレーザー光源装置。
  2. 前記第１分離部と第２分離部とは、前記光路上の、
    前記第１発光素子の第１発光部から前記第１分離部までの光路長が前記第１発光素子の第２発光部から前記第１分離部までの光路長より短く、
    前記第２発光素子の第１発光部から前記第２分離部までの光路長が前記第２発光素子の第２発光部から前記第２分離部までの光路長より短く、
    前記第１分離部から前記第２分離部までの、前記第１発光部から射出されたレーザー光の光路長が前記第１発光部から射出されたレーザー光の光路長より長い、
    位置に配置されることを特徴とする請求項１に記載のレーザー光源装置。
  3. 前記第１発光素子の第１発光部及び前記第２発光素子の第１発光部が、それぞれ複数の発光部を備え、
    前記第１発光素子の第１発光部の複数の発光部の配列方向と、前記第２発光素子の第１発光部の複数の発光部の配列方向とが略平行であり、
    前記第１発光素子の第１発光部の隣接する発光部間の間隔と、前記第２発光素子の第１発光部の隣接する発光部間の間隔とが略同一であり、
    前記第１分離部に前記第１発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光が入射し、前記第２分離部に前記第２発光素子の複数の発光部から射出されたレーザー光が入射することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレーザー光源装置。
  4. 前記第１発光部と前記第２発光部とは異なる色の光を射出する発光部であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のレーザー光源装置。
  5. 前記第１発光素子と前記第２発光素子とは、それぞれ前記第１発光部と前記第２発光部と第３発光部とを有し、
    前記第３発光部は、前記第１発光部及び前記第２発光部とは異なる色の光を射出する発光部であり、
    前記第１発光素子と前記第２発光素子との間の、前記第１発光部どうしの間隔は前記第２発光部どうしの間隔より長く、前記第２発光部どうしの間隔は前記第３発光部どうしの間隔より長いことを特徴とする請求項４に記載のレーザー光源装置。
  6. 前記第１分離部と前記第２分離部との間の光路上に配置され、前記第１発光素子及び前記第２発光素子から射出される基本波長のレーザー光がそれぞれ入射され、少なくとも基本波長のレーザー光の一部を所定の変換波長のレーザー光に変換する波長変換素子を備え、
    前記第１，第２分離部は、前記所定の変換波長に変換されたレーザー光を前記第１，第２発光素子とは異なる方向へ射出させ、前記所定の変換波長に変換されなかった基本波長のレーザー光を前記第１，第２発光素子に射出させることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のレーザー光源装置。
  7. 前記第１発光素子の発光部及び前記第２発光素子の発光部は、１つのレーザー基板上に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のレーザー光源装置。
  8. 請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のレーザー光源装置の製造方法であって、
    フォトリソグラフィーを用いて前記レーザー基板上に前記第１発光素子及び前記第２発光素子を形成することを特徴とするレーザー光源装置の製造方法。
  9. 請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のレーザー光源装置と、
    該レーザー光源装置から射出されたレーザー光を画像信号に応じて変調する光変調装置と、
    該光変調装置により形成された画像を投射する投射装置とを備えることを特徴とするプロジェクター。
  10. 請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のレーザー光源装置と、
    該レーザー光源装置から射出された光により被写体を撮像する撮像手段とを備えることを特徴とするモニター装置。
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