JP2011111557A - Adhesive composition, circuit connecting material, connector and connection method of circuit member, and semiconductor device - Google Patents

Adhesive composition, circuit connecting material, connector and connection method of circuit member, and semiconductor device Download PDF

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Susumu Kawakami
晋 川上
Akira Nagai
朗 永井
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Showa Denko Materials Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive composition with excellent low-temperature curability and storage stability, and a circuit connecting material using the same, and to provide a connector with excellent connection reliability, a connection method of a circuit member, and a semiconductor device. <P>SOLUTION: The adhesive composition includes (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a cation generator, and (C1) a second cationically polymerizable compound having cationic polymerizability lower than that of the alicyclic epoxy compound. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、接着剤組成物、回路接続材料、接続体及び回路部材の接続方法、並びに半導体装置に関する。   The present invention relates to an adhesive composition, a circuit connection material, a connection body, a connection method of a circuit member, and a semiconductor device.

半導体や液晶ディスプレイ等の分野で、電子部品の固定や回路接続の用途に各種の接着剤が使用されている。例えば、液晶ディスプレイとTCPとの接続、FPCとTCPとの接続、及び、FPCとプリント配線板との接続には、回路接続材料として接着剤組成物中に導電粒子を分散させた異方導電性接着剤が使用されている。最近では、半導体シリコンチップを基板に実装する場合でも、従来のワイヤーボンドではなく、半導体シリコンチップを基板に直接実装するいわゆるCOGが行われており、ここでも異方導電性接着剤などが適用されている。これらの分野では、電子回路の高密度化・高精細化に伴い、接着剤にも高い接着力や信頼性が求められている。   In the fields of semiconductors and liquid crystal displays, various adhesives are used for fixing electronic components and connecting circuits. For example, for the connection between the liquid crystal display and the TCP, the connection between the FPC and the TCP, and the connection between the FPC and the printed wiring board, anisotropic conductivity in which conductive particles are dispersed in an adhesive composition as a circuit connection material. Adhesive is used. Recently, even when a semiconductor silicon chip is mounted on a substrate, so-called COG is performed in which the semiconductor silicon chip is directly mounted on the substrate instead of the conventional wire bond, and an anisotropic conductive adhesive or the like is also applied here. ing. In these fields, along with the increase in density and definition of electronic circuits, high adhesive strength and reliability are required for adhesives.

近年、精密電子機器の分野では、回路の更なる高密度化が進んでおり、電極幅及び電極間隔が極めて狭くなっている。このため、従来のエポキシ樹脂系を用いた回路接続材料の接続条件(170℃以上)では、配線の脱落・剥離・位置ずれが生じる等の問題点があり、COGでは更にチップと基板との熱膨張差に起因する反りが発生する問題があった。そのため、低温且つ短時間の接続条件が求められている。更に、低コスト化のためには、スループットを向上させる必要があり、低温(100〜170℃)、短時間(10秒以内)、換言すれば低温速硬化が可能な接着剤が要求されている。   In recent years, in the field of precision electronic equipment, the density of circuits has been further increased, and the electrode width and the electrode interval have become extremely narrow. For this reason, the connection conditions (170 ° C. or higher) of circuit connection materials using conventional epoxy resin systems have problems such as wiring dropping, peeling, and misalignment. In COG, the heat generated between the chip and the substrate is further increased. There has been a problem of warping due to expansion differences. Therefore, a low temperature and short time connection condition is required. Furthermore, in order to reduce the cost, it is necessary to improve the throughput, and there is a demand for an adhesive capable of low temperature (100 to 170 ° C.), short time (within 10 seconds), in other words, low temperature rapid curing. .

このような低温速硬化を達成するために、活性化エネルギーの低い熱潜在性触媒が使用される(例えば、特許文献1を参照)。しかし、この場合の接着剤は室温付近での保存安定性が低下する傾向にある。   In order to achieve such low temperature rapid curing, a thermal latent catalyst having a low activation energy is used (see, for example, Patent Document 1). However, the adhesive in this case tends to decrease the storage stability near room temperature.

特許第2706833号公報Japanese Patent No. 2706833

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、低温硬化性及び保存安定性に優れた接着剤組成物及びそれを用いた回路接続材料、並びに、接続信頼性に優れた接続体、回路部材の接続方法及び半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, an adhesive composition excellent in low-temperature curability and storage stability, a circuit connection material using the same, and a connection body and a circuit excellent in connection reliability. It is an object to provide a method for connecting members and a semiconductor device.

上記課題を解決するために本発明者らは、カチオン硬化型で低温硬化性を向上させるために、塩基性の高い脂環式エポキシ化合物を用いることを検討した。この検討の中で、熱カチオン発生剤の種類によっては実用的な保存安定性が得られないことが確認された。本発明者らは、上記の知見に基づいて更に検討した結果、脂環式エポキシ化合物と特定のカチオン重合性化合物とを併用したカチオン硬化型の接着剤が、40℃で5日保存された後であっても、150℃10秒や130℃10秒といった実装条件で回路電極間を良好に接続することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。   In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors examined the use of a highly basic alicyclic epoxy compound in order to improve the low-temperature curability with a cationic curing type. During this examination, it was confirmed that practical storage stability could not be obtained depending on the type of the thermal cation generator. As a result of further investigation based on the above findings, the present inventors have found that a cation curable adhesive using a combination of an alicyclic epoxy compound and a specific cationic polymerizable compound is stored at 40 ° C. for 5 days. Even so, the present inventors have found that the circuit electrodes can be satisfactorily connected under mounting conditions such as 150 ° C. for 10 seconds and 130 ° C. for 10 seconds, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、(A)脂環式エポキシ化合物と、(B)カチオン発生剤と、(C1)脂環式エポキシ化合物よりもカチオン重合性が低い第2のカチオン重合性化合物とを含有する第1の接着剤組成物を提供する。   That is, the present invention contains (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a cation generator, and (C1) a second cation polymerizable compound having lower cation polymerizability than the alicyclic epoxy compound. A first adhesive composition is provided.

ここで、カチオン重合性が低いとは、(B)カチオン発生剤を用いた重合反応において、反応速度が遅いことを意味する。   Here, the low cationic polymerizability means that the reaction rate is low in the polymerization reaction using the (B) cation generator.

本発明の第1の接着剤組成物によれば、上記の構成を有することにより、低温硬化性と保存安定性とを高水準で両立することができ、回路部材の接続に用いた場合には、接続信頼性に優れた接続体を得ることができる。この理由を本発明者らは、C1成分が重合末端に結合した際に重合末端のカチオン種が安定化し、続く成長反応速度が適度に低下するためと考えている。   According to the first adhesive composition of the present invention, by having the above configuration, low temperature curability and storage stability can be achieved at a high level, and when used for connecting circuit members, Thus, a connection body having excellent connection reliability can be obtained. The present inventors consider that the cationic species at the polymerization terminal is stabilized when the C1 component is bonded to the polymerization terminal, and the subsequent growth reaction rate is appropriately reduced.

本発明はまた、(A)脂環式エポキシ化合物と、(B)カチオン発生剤と、(C2)グリシジルエーテル化合物とを含有する第2の接着剤組成物を提供する。   The present invention also provides a second adhesive composition containing (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a cation generator, and (C2) a glycidyl ether compound.

本発明の第2の接着剤組成物によれば、上記の構成を有することにより、低温硬化性と保存安定性とを高水準で両立することができ、回路部材の接続に用いた場合には、接続信頼性に優れた接続体を得ることができる。この理由を本発明者らは、C2成分が重合末端に結合した際に重合末端のカチオン種が安定化し、続く成長反応速度が適度に低下するためと考えている。   According to the second adhesive composition of the present invention, by having the above configuration, low temperature curability and storage stability can be achieved at a high level, and when used for connecting circuit members, Thus, a connection body having excellent connection reliability can be obtained. The present inventors consider that the cationic species at the polymerization end is stabilized when the C2 component is bonded to the polymerization end, and the subsequent growth reaction rate is appropriately reduced.

本発明の第1及び第2の接着剤組成物において、上記カチオン発生剤が、有毒なアンチモン原子を含有しないリン酸塩又はホウ酸塩であることが好ましい。   In the first and second adhesive compositions of the present invention, the cation generator is preferably a phosphate or borate that does not contain a toxic antimony atom.

更に、上記カチオン発生剤は、スルフォニウムヘキサフルオロリン酸塩、スルフォニウムテトラフルオロホウ酸塩又はスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩であることが好ましい。   Furthermore, the cation generator is preferably sulfonium hexafluorophosphate, sulfonium tetrafluoroborate or sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate.

また、環境や安全衛生面の観点から、カチオン発生剤がアンチモンを含有しないものであることが好ましい。   Moreover, it is preferable that a cation generator does not contain antimony from a viewpoint of an environment or a health and safety aspect.

また、本発明の第1及び第2の接着剤組成物は、導電粒子を接着剤組成物全体に対して0.1〜30体積%含むことが好ましい。この場合、接着剤組成物を回路接続材料として用いたときに、回路の短絡を防止しつつ回路電極同士を低い接続抵抗で接続することが容易となる。   Moreover, it is preferable that the 1st and 2nd adhesive composition of this invention contains 0.1-30 volume% of electroconductive particles with respect to the whole adhesive composition. In this case, when the adhesive composition is used as a circuit connection material, it becomes easy to connect the circuit electrodes with a low connection resistance while preventing a short circuit of the circuit.

本発明はまた、上記本発明の第1又は第2の接着剤組成物からなり、回路部材同士を接着するとともにそれぞれの回路部材が有する回路電極同士を電気的に接続するために用いられる回路接続材料を提供する。   The present invention is also composed of the first or second adhesive composition of the present invention, and is used for bonding circuit members to each other and electrically connecting circuit electrodes of each circuit member. Provide material.

本発明はまた、対向配置された一対の回路部材と、上記本発明の回路接続材料の硬化物からなり、一対の回路部材の間に介在しそれぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように当該回路部材同士を接着する接続部とを備える接続体を提供する。本発明の接続体は、接続部が本発明の回路接続材料の硬化物からなるものであることにより、低温短時間での加熱条件で作製可能であり、生産性及び接続信頼性に優れたものになり得る。そのため、本発明の接続体は、品質のばらつきが少なく、十分に安定した特性を示すことができる。   The present invention also includes a pair of circuit members arranged opposite to each other and a cured product of the circuit connection material of the present invention, and the circuit electrodes interposed between the pair of circuit members are electrically connected to each other. Provided is a connection body including a connection portion that bonds the circuit members to each other so as to be connected. The connection body of the present invention can be manufactured under heating conditions at a low temperature in a short time because the connection portion is made of a cured product of the circuit connection material of the present invention, and has excellent productivity and connection reliability. Can be. Therefore, the connection body of the present invention has little variation in quality and can exhibit sufficiently stable characteristics.

本発明はまた、対向配置された一対の回路部材の間に上記の回路接続材料を介在させ、全体を加熱及び加圧して、上述した回路接続材料の硬化物からなり、一対の回路部材の間に介在しそれぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように回路部材同士を接着する接続部を形成することにより、一対の回路部材及び前記接続部を備える接続体を得る、回路部材の接続方法を提供する。   The present invention also includes the above-described circuit connection material interposed between a pair of circuit members arranged opposite to each other, and the whole is heated and pressurized to be formed of a cured product of the circuit connection material described above, between the pair of circuit members. Forming a connection part that bonds the circuit members to each other so that the circuit electrodes of the respective circuit members are electrically connected to each other, thereby obtaining a connection body including a pair of circuit members and the connection part. Provided is a method for connecting circuit members.

本発明はまた、半導体素子と、半導体素子を搭載する基板と、半導体素子及び基板間に設けられ、半導体素子及び基板を電気的に接続する半導体素子接続部材とを備え、半導体素子接続部材は、上記の回路接続材料の硬化物である半導体装置を提供する。   The present invention also includes a semiconductor element, a substrate on which the semiconductor element is mounted, a semiconductor element connection member provided between the semiconductor element and the substrate, and electrically connecting the semiconductor element and the substrate. Provided is a semiconductor device which is a cured product of the above circuit connection material.

本発明の半導体装置は、本発明の回路接続材料の硬化物により半導体素子と基板とが電気的に接続されていることから、品質のばらつきが少なく、接続信頼性に優れ、十分に安定した特性を示すことができる。   Since the semiconductor device and the substrate are electrically connected by the cured product of the circuit connection material of the present invention, the semiconductor device of the present invention has little variation in quality, excellent connection reliability, and sufficiently stable characteristics. Can be shown.

本発明によれば、低温硬化性及び保存安定性に優れた接着剤組成物を提供することができる。また、本発明によれば、接続信頼性に優れた接続体、回路部材の接続方法及び半導体装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesive composition excellent in low-temperature curability and storage stability can be provided. Moreover, according to this invention, the connection body excellent in connection reliability, the connection method of a circuit member, and a semiconductor device can be provided.

本発明に係る回路部材の接続体の一実施形態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing one embodiment of a connection object of circuit members concerning the present invention. (a)〜(c)はそれぞれ回路部材を接続する一連の工程図である。(A)-(c) is a series of process drawings which connect a circuit member, respectively. 本発明の半導体装置の一実施形態を示す部分断面図である。It is a fragmentary sectional view showing one embodiment of a semiconductor device of the present invention.

以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図示の便宜上、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致しない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. For the convenience of illustration, the dimensional ratios in the drawings do not necessarily match those described.

本発明の第1実施形態に係る接着剤組成物は、(A)脂環式エポキシ化合物と、(B)カチオン発生剤と、(C1)前記脂環式エポキシ化合物よりもカチオン重合性が低い第2のカチオン重合性化合物とを含有するものである。   The adhesive composition according to the first embodiment of the present invention includes (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a cation generator, and (C1) a cationic polymerization lower than that of the alicyclic epoxy compound. 2 cationically polymerizable compounds.

また、本発明の第2実施形態に係る接着剤組成物は、(A)脂環式エポキシ化合物と、(B)カチオン発生剤と、(C2)グリシジルエーテル化合物とを含有するものである。   The adhesive composition according to the second embodiment of the present invention contains (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a cation generator, and (C2) a glycidyl ether compound.

(A)脂環式エポキシ化合物は、(B)カチオン発生剤から加熱によって発生したカチオン種によって硬化するものであればよい。中でも、エポキシ基を2個以上有する脂環式エポキシ化合物は、硬化させた際の架橋密度が高くなるので好ましい。更に、分子中にエポキシ基を2〜6個有する脂環式エポキシ化合物は、硬化性に優れており特に好ましい。   (A) An alicyclic epoxy compound should just be hardened | cured by the cation seed | species generate | occur | produced by heating from the (B) cation generator. Among them, an alicyclic epoxy compound having two or more epoxy groups is preferable because the crosslink density when cured is increased. Furthermore, the alicyclic epoxy compound which has 2-6 epoxy groups in a molecule | numerator is excellent in sclerosis | hardenability, and is especially preferable.

(A)脂環式エポキシ化合物としては、シクロヘキセンやシクロペンテン環含有化合物を酸化して得られるシクロヘキセンオキシドやシクロペンテンオキシド含有化合物が挙げられ、より具体的には、例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタジオキサン、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ−1−メチルヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロエキシルカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ジシクロペンタジエンジエポキシド、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)等が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of (A) cycloaliphatic epoxy compounds include cyclohexene oxide and cyclopentene oxide-containing compounds obtained by oxidizing cyclohexene and cyclopentene ring-containing compounds. More specifically, for example, 2- (3,4-epoxy (Cyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-metadioxane, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-1-methylhexanecarboxylate, 3,4-epoxy-3 -Methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-6 -Methyl cyclohexyl carboxylate 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 6-methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, ethylene bis (3,4 Epoxycyclohexanecarboxylate), dicyclopentadiene diepoxide, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane) and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

(A)脂環式エポキシ化合物のエポキシ当量は、43〜1000が好ましく、50〜800がより好ましく、73〜600が特に好ましい。エポキシ当量が43未満又は1000を超えると、後に説明する電極の接続時に、電極間の接着強度が低下する傾向がある。これらの脂環式エポキシ化合物は、不純物イオン(Na、Cl等)や、加水分解性塩素等を300ppm以下に低減した高純度品を用いることが、腐食防止の観点から好ましい。 (A) As for the epoxy equivalent of an alicyclic epoxy compound, 43-1000 are preferable, 50-800 are more preferable, 73-600 are especially preferable. When the epoxy equivalent is less than 43 or more than 1000, the adhesion strength between the electrodes tends to be lowered when the electrodes described later are connected. As these alicyclic epoxy compounds, it is preferable to use a high-purity product in which impurity ions (Na + , Cl- and the like), hydrolyzable chlorine and the like are reduced to 300 ppm or less, from the viewpoint of preventing corrosion.

(A)脂環式エポキシ化合物の含有量は、接着剤組成物全体に対して10〜90質量%とするのが好ましく、25〜75質量%とするのがより好ましい。含有量が10質量%未満の場合、接着剤組成物の硬化物の物性(ガラス転移温度、弾性率等)が低下する傾向にあり、一方、含有量が90質量%を超えると、硬化収縮が大きくなりすぎて接着力が低下する傾向にある。   (A) It is preferable to set it as 10-90 mass% with respect to the whole adhesive composition, and, as for content of an alicyclic epoxy compound, it is more preferable to set it as 25-75 mass%. When the content is less than 10% by mass, the physical properties (glass transition temperature, elastic modulus, etc.) of the cured product of the adhesive composition tend to decrease. On the other hand, when the content exceeds 90% by mass, curing shrinkage occurs. It tends to be too large and the adhesive strength tends to decrease.

(B)カチオン発生剤としては、特に制限なく公知のものを使用することができるが、40〜180℃の加熱によりカチオン種を発生する化合物であることが好ましい。   (B) Although a well-known thing can be used as a cation generator without a restriction | limiting in particular, It is preferable that it is a compound which generate | occur | produces a cation seed | species by heating at 40-180 degreeC.

環境および安全衛生面の観点から、カチオン発生剤は、アンチモンを含有しないリン酸塩又はホウ酸塩であるものが好ましく、芳香族スルフォニウム塩、脂肪族スルフォニウム塩、芳香族ヨードニウム塩等のオニウム塩や金属アレーン錯体を用いることもできる。この中でも、低温硬化性及び保存安定性がより優れたものとなることから、スルフォニウムヘキサフルオロリン酸塩、スルフォニウムテトラフルオロホウ酸塩、又はスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩が好ましく、特に、塩を形成する際の対アニオンとしてヘキサフルオロフォスフェート、テトラフルオロボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等を有するものが反応性の点で好適に用いられる。この中でも更に、芳香族スルフォニウム塩又は脂肪族スルフォニウム塩等のスルフォニウム塩は、カチオン種発生効率が高いために好ましい。実用的な保存安定性を付与する観点から、イオウ原子にアルケニル基、アリル基もしくはその誘導体が結合していることが好ましい。また、同様の観点から、イオウ原子に芳香族置換基が結合していない構造を持つ脂肪族スルフォニウムヘキサフルオロリン酸塩を用いるのが特に好ましい。   From the viewpoint of environment and safety and health, the cation generator is preferably a phosphate or borate that does not contain antimony, and onium salts such as aromatic sulfonium salts, aliphatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, and the like. Metal arene complexes can also be used. Among these, sulfonium hexafluorophosphate, sulfonium tetrafluoroborate, or sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) boric acid, since it has better low-temperature curability and storage stability. Salts are preferred, and in particular, those having hexafluorophosphate, tetrafluoroborate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate, etc. as the counter anion when forming the salt are preferably used in terms of reactivity. Among these, a sulfonium salt such as an aromatic sulfonium salt or an aliphatic sulfonium salt is preferable because of high generation efficiency of cationic species. From the viewpoint of imparting practical storage stability, an alkenyl group, an allyl group or a derivative thereof is preferably bonded to a sulfur atom. From the same viewpoint, it is particularly preferable to use an aliphatic sulfonium hexafluorophosphate having a structure in which an aromatic substituent is not bonded to a sulfur atom.

上記のカチオン発生剤としては、例えば、2−ブテニルジメチルスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、2−ブテニルジメチルスルフォニウムテトラフルオロボレート、2−ブテニルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムテトラフルオロボレート、2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、3−メチル−2−ブテニルジメチルスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、3−メチル−2−ブテニルジメチルスルフォニウムテトラフルオロボレート、3−メチル−2−ブテニルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、3−メチル−2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、3−メチル−2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムテトラフルオロボレート、3−メチル−2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、4−ヒドロキシフェニルシンナミルメチルスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、4−ヒドロキシフェニルシンナミルメチルスルフォニウムテトラフルオロボレート、4−ヒドロキシフェニルシンナミルメチルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、α−ナフチルメチルテトラメチレンスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、α−ナフチルメチルテトラメチレンスルフォニウムテトラフルオロボレート、α−ナフチルメチルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、シンナミルジメチルスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、シンナミルジメチルスルフォニウムテトラフルオロボレート、シンナミルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、シンナミルテトラメチレンフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、シンナミルテトラメチレンフォニウムテトラフルオロボレート、シンナミルテトラメチレンフォニウムヘキサフルオロホスフェート、ビフェニルメチルジメチルスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビフェニルメチルジメチルスルフォニウムテトラフルオロボレート、ビフェニルメチルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、ビフェニルメチルテトラメチレンスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ビフェニルメチルテトラメチレンスルフォニウムテトラフルオロボレート、ビフェニルメチルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、フェニルメチルジメチルスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フェニルメチルジメチルスルフォニウムテトラフルオロボレート、フェニルメチルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、フェニルメチルテトラメチレンスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フェニルメチルテトラメチレンスルフォニウムテトラフルオロボレート、フェニルメチルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオレニルメチルジメチルスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フルオレニルメチルジメチルスルフォニウムテトラフルオロボレート、フルオレニルメチルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェート、フルオレニルメチルテトラメチレンスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、フルオレニルメチルテトラメチレンスルフォニウムテトラフルオロボレート、フルオレニルメチルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the cation generator include 2-butenyldimethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 2-butenyldimethylsulfonium tetrafluoroborate, 2-butenyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, 2-butenyltetramethylenesulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 2-butenyltetramethylenesulfonium tetrafluoroborate, 2-butenyltetramethylenesulfonium hexafluorophosphate, 3-methyl-2-but Tenenyldimethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 3-methyl-2-butenyldimethylsulfonium tetrafluoroborate, 3-methyl-2-butenyldimethylsulfonium Safluorophosphate, 3-methyl-2-butenyltetramethylenesulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 3-methyl-2-butenyltetramethylenesulfonium tetrafluoroborate, 3-methyl-2-butenyl Tetramethylenesulfonium hexafluorophosphate, 4-hydroxyphenylcinnamylmethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, 4-hydroxyphenylcinnamylmethylsulfonium tetrafluoroborate, 4-hydroxyphenylcinnamylmethylsulfo Nium hexafluorophosphate, α-naphthylmethyltetramethylenesulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, α-naphthylmethyltetramethylenesulfonate Mutetrafluoroborate, α-naphthylmethyltetramethylenesulfonium hexafluorophosphate, cinnamyldimethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, cinnamyldimethylsulfonium tetrafluoroborate, cinnamyldimethylsulfonium hexafluoro Phosphate, cinnamyl tetramethylene phonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, cinnamyl tetramethylene phonium tetrafluoroborate, cinnamyl tetramethylene phonium hexafluorophosphate, biphenylmethyldimethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, Biphenylmethyldimethylsulfonium tetrafluoroborate, biphenylmethyldimethyls Rufonium hexafluorophosphate, biphenylmethyltetramethylenesulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, biphenylmethyltetramethylenesulfonium tetrafluoroborate, biphenylmethyltetramethylenesulfonium hexafluorophosphate, phenylmethyldimethylsulfonium tetrakis (Pentafluorophenyl) borate, phenylmethyldimethylsulfonium tetrafluoroborate, phenylmethyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, phenylmethyltetramethylenesulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, phenylmethyltetramethylenesulfonium tetra Fluoroborate, phenylmethyltetramethylenesulfo Um hexafluorophosphate, fluorenylmethyldimethylsulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, fluorenylmethyldimethylsulfonium tetrafluoroborate, fluorenylmethyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, fluorenylmethyltetra Examples include methylenesulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, fluorenylmethyltetramethylenesulfonium tetrafluoroborate, fluorenylmethyltetramethylenesulfonium hexafluorophosphate, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

(B)リン酸塩又はホウ酸塩であるカチオン発生剤の含有量は、(A)脂環式エポキシ化合物100質量部に対して0.05〜30質量部とすることが好ましく、0.1〜15質量部とすることがより好ましい。この含有量が、0.05質量部未満では、硬化が不十分となる傾向があり、30質量部を超えると相溶性が低下する傾向がある。   The content of the cation generator which is (B) phosphate or borate is preferably 0.05 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of (A) alicyclic epoxy compound, 0.1 It is more preferable to set it as -15 mass parts. If this content is less than 0.05 parts by mass, curing tends to be insufficient, and if it exceeds 30 parts by mass, the compatibility tends to decrease.

(B)カチオン発生剤は、単独であるいは複数種を併用して含有させることができる。本実施形態の接着剤組成物においては、カチオン発生剤のカチオン発生効率及びエポキシ化合物の反応率を高めるために、連鎖移動剤を適宜組合せて使用することもできる。連鎖移動剤としては、プロトン性化合物であれば特に制限されるものではなく、公知の化合物を使用することができ、具体的には、シクロヘキセンジオール、2,3−ブタンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等のアルコール類及びこれらの誘導体を用いることができる。   (B) The cation generator can be contained alone or in combination of two or more. In the adhesive composition of this embodiment, a chain transfer agent can be used in appropriate combination in order to increase the cation generation efficiency of the cation generator and the reaction rate of the epoxy compound. The chain transfer agent is not particularly limited as long as it is a protic compound, and a known compound can be used. Specifically, cyclohexenediol, 2,3-butanediol, ethylene glycol, diethylene glycol, Alcohols such as triethylene glycol and derivatives thereof can be used.

(C1)脂環式エポキシ化合物よりもカチオン重合性が低い第2のカチオン重合性化合物としては、例えば、エピクロルヒドリンとビスフェノールAやビスフェノールF等から誘導されるビスフェノール型エポキシ樹脂や、ポリグリシジルエーテル、ポリグリシジルエステル、芳香族エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ化合物、グリシジルアミン系エポキシ化合物、グリシジルエステル系エポキシ化合物、ビフェニルジグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、ポリグリシジルメタクリレート、グリシジルメタクリレートとこれと共重合可能なビニル単量体との共重合体等が挙げられる。これらは所望の特性を有する接着剤組成物を得るために、1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。中でも、グリシジルエーテル化合物を使用すると、低温硬化性と安定化作用の両立の観点から好ましい。   (C1) As the second cationic polymerizable compound having a lower cationic polymerizable than the alicyclic epoxy compound, for example, bisphenol type epoxy resin derived from epichlorohydrin and bisphenol A, bisphenol F or the like, polyglycidyl ether, poly Glycidyl ester, aromatic epoxy compound, cresol novolak type epoxy resin, novolak type epoxy compound such as phenol novolak type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy compound, glycidyl ester type epoxy compound, biphenyl diglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, polyglycidyl Examples thereof include a copolymer of methacrylate, glycidyl methacrylate and a vinyl monomer copolymerizable therewith. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more type in order to obtain the adhesive composition which has a desired characteristic. Among these, the use of a glycidyl ether compound is preferable from the viewpoint of achieving both low-temperature curability and a stabilizing action.

第2のカチオン重合性化合物が、脂環式エポキシ化合物よりもカチオン重合性が低いものであるか否かは、以下の方法により確認することができる。すなわち、カチオン重合開始剤との混合物の示差走査熱量測定において、発熱ピークが脂環式エポキシを用いた場合よりも低い温度で観測されることで分かる。   Whether or not the second cationic polymerizable compound is lower in cationic polymerization than the alicyclic epoxy compound can be confirmed by the following method. That is, in differential scanning calorimetry of the mixture with the cationic polymerization initiator, it can be seen that the exothermic peak is observed at a lower temperature than when alicyclic epoxy is used.

第2実施形態に係る接着剤組成物に含まれる(C2)グリシジルエーテル化合物としては、上記のグリシジルエーテル化合物を用いることができる。   As the (C2) glycidyl ether compound contained in the adhesive composition according to the second embodiment, the above glycidyl ether compound can be used.

第1実施形態に係る(C1)成分の含有量及び第2実施形態に係る(C1)成分の含有量は、接着剤組成物全体に対して1〜50質量%とするのが好ましく、5〜30質量%とするのがより好ましい。含有量が5質量%未満の場合、安定化作用に乏しい接着剤組成物しか得ることができず、一方、含有量が50質量%を超えると、硬化反応が不十分となり、接続体の抵抗値が高くなる。   The content of the component (C1) according to the first embodiment and the content of the component (C1) according to the second embodiment are preferably 1 to 50% by mass with respect to the entire adhesive composition, More preferably, the content is 30% by mass. When the content is less than 5% by mass, only an adhesive composition having a poor stabilizing action can be obtained. On the other hand, when the content exceeds 50% by mass, the curing reaction becomes insufficient, and the resistance value of the connected body. Becomes higher.

本実施形態の接着剤組成物は、加熱処理を行うことで硬化することができるものであると好ましい。ここでいう硬化とは、エポキシ基の転化率が70%以上となることを意味する。加熱の処理の温度は、好ましくは40℃〜180℃、更に好ましくは50℃〜150℃であり、加熱時間は、好ましくは0.1秒〜10時間、更に好ましくは1秒〜1時間である。加熱温度が40℃未満であると硬化速度が遅く、180℃を超えると望まない副反応が進行しやすい。加熱時間が0.1秒未満では硬化反応が進行せず、10時間を超えると硬化物の生産性が低下し、更に望まない副反応も進みやすい。   The adhesive composition of the present embodiment is preferably one that can be cured by heat treatment. Curing here means that the conversion rate of the epoxy group is 70% or more. The temperature of the heating treatment is preferably 40 ° C. to 180 ° C., more preferably 50 ° C. to 150 ° C., and the heating time is preferably 0.1 second to 10 hours, more preferably 1 second to 1 hour. . When the heating temperature is less than 40 ° C, the curing rate is slow, and when it exceeds 180 ° C, unwanted side reactions tend to proceed. When the heating time is less than 0.1 seconds, the curing reaction does not proceed, and when it exceeds 10 hours, the productivity of the cured product is lowered, and undesired side reactions are likely to proceed.

本実施形態の接着剤組成物は、導電粒子を更に含有することができる。導電粒子としては、例えば、Au、Ag、Ni、Cu、はんだ等の金属粒子やカーボン粒子等が挙げられる。また、導電粒子は、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等を核とし、この核に上記金属、金属粒子、カーボン等を被覆したものであってもよい。導電粒子が、プラスチックを核とし、この核に上記金属、金属粒子、カーボン等を被覆したもの、又は、熱溶融金属粒子である場合、加熱加圧により変形性を有するので回路部材同士を接続する際に導電粒子と電極との接触面積が増加して信頼性が向上することから好ましい。   The adhesive composition of this embodiment can further contain conductive particles. Examples of the conductive particles include metal particles such as Au, Ag, Ni, Cu, and solder, and carbon particles. Further, the conductive particles may have non-conductive glass, ceramic, plastic, or the like as a core, and the core is coated with the metal, metal particles, carbon, or the like. When the conductive particles are made of plastic as a core and the core is coated with the above metal, metal particles, carbon, or the like, or a hot-melt metal particle, the circuit members are connected to each other because they are deformable by heating and pressing. In this case, the contact area between the conductive particles and the electrode is increased, which is preferable because the reliability is improved.

また、上記の導電粒子の表面を更に高分子樹脂等で被覆した微粒子は、導電粒子の配合量を増加した場合の粒子同士の接触による短絡を抑制し、回路電極間の絶縁性を向上させることができることから、好ましく用いられる。導電粒子の表面を高分子樹脂等で被覆した粒子は、それ単独で又は他の導電粒子と混合して用いることができる。   In addition, fine particles with the surface of the conductive particles further coated with a polymer resin or the like suppress short-circuiting due to contact between particles when the amount of conductive particles is increased, and improve insulation between circuit electrodes. Can be preferably used. The particle | grains which coat | covered the surface of the electroconductive particle with polymeric resin etc. can be used individually or in mixture with another electroconductive particle.

導電粒子の平均粒径は、分散性、導電性の点から1〜18μmであることが好ましい。導電粒子の配合量は、接着剤組成物全体を基準として0.1〜30体積%とすることが好ましく、0.1〜10体積%とすることがより好ましい。導電粒子の配合量が、0.1体積%未満であると導電性が劣る傾向があり、30体積%を超えると回路の短絡が起こる傾向がある。なお、体積%は23℃の硬化前の各成分の体積をもとに決定されるが、各成分の体積は、比重を利用して重量から体積に換算することができる。また、メスシリンダー等にその成分を溶解したり膨潤させたりせず、その成分をよくぬらす適当な溶媒(水、アルコール等)を入れたものに、その成分を投入し増加した体積をその体積として求めることもできる。   The average particle size of the conductive particles is preferably 1 to 18 μm from the viewpoint of dispersibility and conductivity. The blending amount of the conductive particles is preferably 0.1 to 30% by volume, and more preferably 0.1 to 10% by volume based on the entire adhesive composition. When the blending amount of the conductive particles is less than 0.1% by volume, the conductivity tends to be inferior, and when it exceeds 30% by volume, a short circuit tends to occur. In addition, although volume% is determined based on the volume of each component before 23 degreeC hardening, the volume of each component can be converted into a volume from a weight using specific gravity. In addition, do not dissolve or swell the component in a graduated cylinder, etc., but put in a suitable solvent (water, alcohol, etc.) that wets the component well. You can ask for it.

本実施形態の接着剤組成物には、被着体の腐食を防止することを目的として、金属水酸化物又は酸化金属を添加、混合することができる。金属水酸化物又は酸化金属は、具体的には、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化マンガン、酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。また、これらの粒径は、接着剤組成物への分散、被着体への高接着化、被着体の腐食防止能の観点から10μm以下であることが好ましい。   To the adhesive composition of the present embodiment, a metal hydroxide or a metal oxide can be added and mixed for the purpose of preventing corrosion of the adherend. Specifically, the metal hydroxide or metal oxide includes aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, manganese oxide, and zirconium oxide. It is preferably at least one selected. Further, these particle diameters are preferably 10 μm or less from the viewpoint of dispersion in the adhesive composition, high adhesion to the adherend and ability to prevent corrosion of the adherend.

本実施形態の接着剤組成物に配合される金属水酸化物又は酸化金属の配合量は、(A)脂環式エポキシ化合物100質量部に対して0.1〜60質量部とすることが好ましく、1〜30質量部とすることがより好ましい。この配合量が0.1質量部未満では、十分な腐食防止効果が得られず、60質量部を超えると分散性が悪化する傾向がある。   The compounding amount of the metal hydroxide or metal oxide compounded in the adhesive composition of the present embodiment is preferably 0.1 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) alicyclic epoxy compound. 1 to 30 parts by mass is more preferable. If the blending amount is less than 0.1 parts by mass, a sufficient corrosion prevention effect cannot be obtained, and if it exceeds 60 parts by mass, the dispersibility tends to deteriorate.

本実施形態の接着剤組成物には、(A)脂環式エポキシ化合物の硬化挙動を制御する目的で、鎖状エーテル化合物又は環状エーテル化合物を添加、混合することができる。鎖状エーテル化合物又は環状エーテル化合物としては、1分子中に2個以上のエーテル基を有するものであれば特に制限なく、公知のものを使用することができる。このような化合物としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のポリエチレングリコール類と、それら末端水酸基をエーテル結合やエステル結合で官能化した誘導体、エチレンオキシドやプロピレンオキシドやシクロヘキセンオキシド等の単官能エポキシ類の重合体、多官能エポキシの架橋体、単官能もしくは多官能のオキセタン類の重合体、単官能もしくは多官能のテトラヒドロフラン類の重合体、12−クラウン−4−エーテル、14−クラウン−4−エーテル、15−クラウン−5−エーテル、18−クラウン−6−エーテル、21−クラウン−7−エーテル、24−クラウン−8−エーテル、30−クラウン−7−エーテル、ベンゾ−18−クラウン−6−エーテル、ジベンゾ−18−クラウン−6−エーテル、トリベンゾ−18−クラウン−6−エーテル、ポリエチレングリコール類の環化物、エチレンオキシドやプロピレンオキシドやシクロヘキセンオキシド等の単官能エポキシ類の重合体の環化物等が挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種以上を混合して使用することができる。   In the adhesive composition of this embodiment, a chain ether compound or a cyclic ether compound can be added and mixed for the purpose of controlling the curing behavior of the (A) alicyclic epoxy compound. The chain ether compound or the cyclic ether compound is not particularly limited as long as it has two or more ether groups in one molecule, and a known one can be used. Examples of such compounds include polyethylene glycols such as diethylene glycol, triethylene glycol, and tetraethylene glycol, derivatives obtained by functionalizing the terminal hydroxyl groups with ether bonds or ester bonds, and simple substances such as ethylene oxide, propylene oxide, and cyclohexene oxide. Polymer of functional epoxy, cross-linked polyfunctional epoxy, polymer of monofunctional or polyfunctional oxetane, polymer of monofunctional or polyfunctional tetrahydrofuran, 12-crown-4-ether, 14-crown- 4-ether, 15-crown-5-ether, 18-crown-6-ether, 21-crown-7-ether, 24-crown-8-ether, 30-crown-7-ether, benzo-18-crown- 6-ether, dibenzo 18-crown-6-ether, tribenzo-18-crown-6-ether, cyclized polyethylene glycols, cyclized like polymers of monofunctional epoxy such as ethylene oxide or propylene oxide or cyclohexene oxide. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

反応調節能の観点から、特に環状エーテル化合物が好ましく、12−クラウン−4−エーテル、14−クラウン−4−エーテル、15−クラウン−5−エーテル、18−クラウン−6−エーテル、21−クラウン−7−エーテル、24−クラウン−8−エーテル、30−クラウン−7−エーテル、ベンゾ−18−クラウン−6−エーテル、ジベンゾ−18−クラウン−6−エーテル、トリベンゾ−18−クラウン−6−エーテルが好適である。   From the viewpoint of reaction control ability, a cyclic ether compound is particularly preferable. 12-crown-4-ether, 14-crown-4-ether, 15-crown-5-ether, 18-crown-6-ether, 21-crown- 7-ether, 24-crown-8-ether, 30-crown-7-ether, benzo-18-crown-6-ether, dibenzo-18-crown-6-ether, tribenzo-18-crown-6-ether Is preferred.

本実施形態の接着剤組成物における鎖状もしくは環状エーテル化合物の含有量は、(B)カチオン発生剤に対して、0.05〜20化学当量とすることが好ましく、0.1〜10化学当量とすることが特に好ましい。鎖状もしくは環状エーテル化合物の含有量が、0.05化学当量未満の場合、高接着強度が得られにくく、一方、20化学当量を超える場合には、硬化を禁止し、結果として低架橋密度となる恐れがある。   The content of the chain or cyclic ether compound in the adhesive composition of the present embodiment is preferably 0.05 to 20 chemical equivalents relative to (B) the cation generator, and 0.1 to 10 chemical equivalents. It is particularly preferable that When the content of the chain or cyclic ether compound is less than 0.05 chemical equivalent, it is difficult to obtain high adhesive strength. On the other hand, when the content exceeds 20 chemical equivalents, curing is prohibited, resulting in low crosslink density and There is a fear.

本実施形態の接着剤組成物には、発明の効果を損なわない範囲内であれば、公知の各種添加剤、例えば、無機充填剤、強化材、着色剤、安定剤(熱安定剤、耐候性改良剤等)、増量剤、粘度調節剤、テルペンフェノール共重合体、テルペン樹脂、ロジン誘導体、脂環族系炭化水素樹脂等に代表される粘着付与剤、難燃剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、変色防止剤、抗菌剤、防黴剤、老化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、発泡剤、離型剤等を添加・混合することができる。上記着色剤としては、直接染料、酸性染料、塩基性染料、金属錯塩染料等の染料、カーボンブラック、マイカ等の無機顔料及びカップリングアゾ系、縮合アゾ系、アンスラキノン系、チオインジゴ系、ジオキサゾン系、フタロシアニン系等の有機顔料等が挙げられる。また、上記安定剤としては、ヒンダードフェノール系、ヒドラジン系、リン系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、オキザリックアシッドアニリド系等の化合物が挙げられる。更にまた、上記無機充填剤としては、ガラス繊維、アスベスト繊維、炭素繊維、シリカ繊維、アルミナ繊維、ジルコニア繊維、窒化ホウ素繊維、窒化珪素繊維、塩基性硫酸マグネシウム繊維、ホウ素繊維、ステンレス鋼繊維、アルミニウム、チタン、銅、真鍮、マグネシウム等の無機質及び金属繊維、銅、鉄、ニッケル、亜鉛、錫、鉛、ステンレス鋼、アルミニウム、金及び銀等の金属粉末、木粉、珪酸アルミニウム、タルク、クレイ、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、ホウ珪酸塩、アルミノ珪酸塩、チタン酸塩、塩基性硫酸塩、塩基性炭酸塩及びその他の塩基性塩、ガラス中空球、ガラスフレーク等のガラス材料、炭化珪素、窒化アルミ、ムライト、コージェライト等が挙げられる。   The adhesive composition of the present embodiment has various known additives such as inorganic fillers, reinforcing materials, colorants, stabilizers (thermal stabilizers, weather resistance) as long as the effects of the invention are not impaired. Improvers, etc.), extenders, viscosity modifiers, terpene phenol copolymers, terpene resins, rosin derivatives, alicyclic hydrocarbon resins, tackifiers, flame retardants, UV absorbers, antioxidants Anti-discoloring agents, antibacterial agents, antifungal agents, anti-aging agents, antistatic agents, plasticizers, lubricants, foaming agents, mold release agents, and the like can be added and mixed. Examples of the colorant include direct dyes, acid dyes, basic dyes, metal complex dyes, inorganic pigments such as carbon black and mica, and coupling azo, condensed azo, anthraquinone, thioindigo, and dioxazone. And organic pigments such as phthalocyanine. Examples of the stabilizer include hindered phenol-based, hydrazine-based, phosphorus-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, and oxalic acid anilide-based compounds. Furthermore, as the inorganic filler, glass fiber, asbestos fiber, carbon fiber, silica fiber, alumina fiber, zirconia fiber, boron nitride fiber, silicon nitride fiber, basic magnesium sulfate fiber, boron fiber, stainless steel fiber, aluminum Inorganic and metal fibers such as titanium, copper, brass, magnesium, etc., metal powders such as copper, iron, nickel, zinc, tin, lead, stainless steel, aluminum, gold and silver, wood powder, aluminum silicate, talc, clay, Carbonates, sulfates, phosphates, borates, borosilicates, aluminosilicates, titanates, basic sulfates, basic carbonates and other basic salts, glass hollow spheres, glass flakes, etc. Examples thereof include glass materials, silicon carbide, aluminum nitride, mullite, cordierite and the like.

本実施形態の接着剤組成物は、増粘化や後述するフィルム化を目的として、種々のポリマを適宜添加してもよい。使用するポリマは、(A)脂環式エポキシ化合物の硬化を阻害しないものであれば特に制限なく公知のポリマを使用することができる。このようなポリマとしては、ポリイミド、ポリアミド、フェノキシ樹脂類、ポリメタクリレート類、ポリアクリレート類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリエステル類、ポリエステルウレタン類、ポリビニルブチラール類、SBS及びそのエポキシ変性体、SEBS及びその変性体、NBR及びその水素化体、等を用いることができる。これらは単独あるいは2種類以上を混合して用いることができる。更に、これらポリマ中にはシロキサン結合やフッ素置換基が含まれていてもよい。これらは、混合する樹脂同士が完全に相溶するか、もしくはミクロ相分離が生じて白濁する状態であれば接着剤組成物としては好適に用いることができる。   The adhesive composition of the present embodiment may be appropriately added with various polymers for the purpose of thickening and film formation described later. The polymer to be used can use a well-known polymer without a restriction | limiting especially if it does not inhibit hardening of (A) alicyclic epoxy compound. Such polymers include polyimides, polyamides, phenoxy resins, polymethacrylates, polyacrylates, polyimides, polyurethanes, polyesters, polyester urethanes, polyvinyl butyrals, SBS and its epoxy modified products, SEBS and its A modified body, NBR and its hydrogenated body, etc. can be used. These can be used alone or in admixture of two or more. Furthermore, these polymers may contain siloxane bonds and fluorine substituents. These can be suitably used as the adhesive composition as long as the resins to be mixed are completely compatible with each other or microphase separation occurs and the mixture becomes cloudy.

上記ポリマの分子量は大きいほどフィルム形成性が容易に得られ、また接着剤としての流動性に影響する溶融粘度を広範囲に設定できる。上記ポリマの重量平均分子量としては、5,000〜150,000が好ましく、10,000〜80,000が特に好ましい。ポリマの重量平均分子量が5,000未満では、フィルム形成性が劣る傾向があり、150,000を超えると、他の成分との相溶性が悪くなる傾向がある。上記ポリマの配合量としては、(A)脂環式エポキシ化合物100質量部に対して20〜320質量部とすることが好ましい。上記ポリマの配合量が、20質量部未満又は320質量部を超える場合は、流動性や接着性が低下する傾向がある。   The larger the molecular weight of the polymer, the easier it is to form a film, and the melt viscosity that affects the fluidity as an adhesive can be set in a wide range. The weight average molecular weight of the polymer is preferably from 5,000 to 150,000, particularly preferably from 10,000 to 80,000. If the weight average molecular weight of the polymer is less than 5,000, the film formability tends to be inferior, and if it exceeds 150,000, the compatibility with other components tends to be poor. As a compounding quantity of the said polymer, it is preferable to set it as 20-320 mass parts with respect to 100 mass parts of (A) alicyclic epoxy compounds. When the blending amount of the polymer is less than 20 parts by mass or more than 320 parts by mass, fluidity and adhesiveness tend to decrease.

本実施形態の接着剤組成物は、常温で液状である場合にはペースト状で使用することができる。室温で固体の場合には、加熱して使用する他、溶剤を使用してペースト化してもよい。使用できる溶剤としては、接着剤組成物及び添加剤と反応性がなく、かつ十分な溶解性を示すものであれば、特に制限は受けないが、常圧での沸点が50〜150℃であるものが好ましい。沸点が50℃未満の場合、室温で放置すると揮発する恐れがあり、開放系での使用が制限される。一方、沸点が150℃を超えると、溶剤を揮発させることが難しく、接着後の信頼性に悪影響を及ぼす恐れがある。   The adhesive composition of this embodiment can be used in the form of a paste when it is liquid at room temperature. In the case of a solid at room temperature, it may be heated and used, or may be made into a paste using a solvent. The solvent that can be used is not particularly limited as long as it is not reactive with the adhesive composition and additives, and exhibits sufficient solubility, but has a boiling point of 50 to 150 ° C. at normal pressure. Those are preferred. If the boiling point is less than 50 ° C., it may volatilize if left at room temperature, which limits the use in an open system. On the other hand, if the boiling point exceeds 150 ° C., it is difficult to volatilize the solvent, which may adversely affect the reliability after bonding.

本実施形態の接着剤組成物は、加熱及び加圧を併用して被着体の接着を行うことができる。加熱温度は、50〜190℃の温度が好ましい。圧力は、被着体に損傷を与えない範囲であれば、特に制限は受けないが、一般的には0.1〜30MPaが好ましい。これらの加熱及び加圧は、0.5秒〜120秒間の範囲で行うことが好ましい。   The adhesive composition of this embodiment can adhere | attach an adherend using heating and pressurization together. The heating temperature is preferably 50 to 190 ° C. The pressure is not particularly limited as long as it does not damage the adherend, but is generally preferably 0.1 to 30 MPa. These heating and pressurization are preferably performed in the range of 0.5 seconds to 120 seconds.

本発明の接着剤組成物は、フィルム状にしてから用いることも可能である。このフィルム状接着剤は、接着剤組成物に溶剤等を加えた混合液を、フッ素樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、離型紙等の剥離性基材上に塗布し、又は不織布等の基材に上記混合液を含浸させて剥離性基材上に載置し、溶剤等を除去することによって得ることができる。このように接着剤組成物をフィルム状とすると、取扱性に優れ一層便利である。   The adhesive composition of the present invention can be used after it is formed into a film. This film adhesive is obtained by applying a mixed solution obtained by adding a solvent or the like to an adhesive composition on a peelable substrate such as a fluororesin film, a polyethylene terephthalate film, a release paper, or the like on a substrate such as a nonwoven fabric. It can be obtained by impregnating the mixed solution and placing it on a peelable substrate and removing the solvent and the like. Thus, when the adhesive composition is in the form of a film, the handleability is excellent and it is more convenient.

また、導電粒子を含有する本発明の接着剤組成物からフィルムを作製すると、異方導電性フィルムを得ることができる。この異方導電性フィルムは、例えば、基板上の対抗する電極間に載置し、加熱加圧することにより両電極を接着することができるとともに、電気的に接続することができる。ここで電極を形成する基板としては、半導体、ガラス、セラミック等の無機質、ポリイミド、ポリカーボネート等の有機物、ガラス/エポキシ等のこれら複合の各組み合わせが適用できる。   Moreover, when a film is produced from the adhesive composition of the present invention containing conductive particles, an anisotropic conductive film can be obtained. For example, the anisotropic conductive film can be placed between opposing electrodes on the substrate and bonded to each other by heating and pressing, and can be electrically connected. Here, as the substrate on which the electrode is formed, an inorganic material such as a semiconductor, glass or ceramic, an organic material such as polyimide or polycarbonate, or a combination of these composites such as glass / epoxy can be applied.

本実施形態の接着剤組成物は、熱膨張係数の異なる異種の被着体の接着剤として使用することができる。具体的には、異方導電接着剤、銀ペースト、銀フィルム等に代表される回路接続材料、CSP用エラストマー、CSP用アンダーフィル材、LOCテープ等に代表される半導体素子接着材料として使用することができる。   The adhesive composition of the present embodiment can be used as an adhesive for different types of adherends having different thermal expansion coefficients. Specifically, it is used as a semiconductor element adhesive material typified by anisotropic conductive adhesive, silver paste, silver film, etc., circuit connection material, CSP elastomer, CSP underfill material, LOC tape, etc. Can do.

本実施形態の接着剤組成物及び導電粒子を含有する接着剤組成物(異方導電性フィルム)は、基板上の相対向する電極間に存在させ、加熱加圧することにより両電極の接触と基板間の接着を得、電極との接続を行う回路接続材料として用いることができる。電極を形成する基板としては、半導体、ガラス、セラミック等の無機質、TCPやFPC、COFに代表されるポリイミド基材、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルスルホン等のフィルム上に電極を形成した基材、プリント配線板等のこれら複合の各組み合わせを適用することができる。   The adhesive composition of the present embodiment and the adhesive composition (anisotropic conductive film) containing conductive particles are present between opposing electrodes on the substrate, and are heated and pressed to contact the electrodes and the substrate. It can be used as a circuit connection material for obtaining adhesion between the electrodes and connecting the electrodes. Substrates for forming electrodes include inorganic materials such as semiconductors, glass and ceramics, polyimide substrates represented by TCP, FPC and COF, substrates having electrodes formed on films such as polycarbonate, polyester and polyethersulfone, and prints. Each combination of these composites such as a wiring board can be applied.

(回路部材の接続体)
次に、本発明の回路部材の接続体の好適な実施形態について説明する。図1は、本発明の回路部材の接続体の一実施形態を示す概略断面図である。図1に示すように、本実施形態の回路部材の接続体1は、相互に対向する第1の回路部材20及び第2の回路部材30を備えており、第1の回路部材20と第2の回路部材30との間には、これらを電気的に接続する接続部10が設けられている。第1の回路部材20は、第1の回路基板21と、回路基板21の主面21a上に形成される第1の回路電極22とを備えている。なお、回路基板21の主面21a上には、場合により絶縁層(図示せず)が形成されていてもよい。
(Circuit member connection)
Next, a preferred embodiment of the connection member for circuit members of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a connection member for circuit members according to the present invention. As shown in FIG. 1, the connection member 1 of the circuit member of the present embodiment includes a first circuit member 20 and a second circuit member 30 facing each other, and the first circuit member 20 and the second circuit member 30 are provided. Between these circuit members 30, a connecting portion 10 is provided for electrically connecting them. The first circuit member 20 includes a first circuit board 21 and a first circuit electrode 22 formed on the main surface 21 a of the circuit board 21. Note that an insulating layer (not shown) may be formed on the main surface 21a of the circuit board 21 in some cases.

一方、第2の回路部材30は、第2の回路基板31と、第2の回路基板31の主面31a上に形成される第2の回路電極32とを備えている。また、回路基板31の主面31a上にも、場合により絶縁層(図示せず)が形成されていてもよい。   On the other hand, the second circuit member 30 includes a second circuit board 31 and a second circuit electrode 32 formed on the main surface 31 a of the second circuit board 31. In addition, an insulating layer (not shown) may be formed on the main surface 31a of the circuit board 31 according to circumstances.

第1の回路部材20及び第2の回路部材30としては、電気的接続を必要とする電極が形成されているものであれば特に制限されない。具体的には、液晶ディスプレイに用いられているITO(酸化インジウム錫)等で電極が形成されているガラス又はプラスチック基板、プリント配線板、セラミック配線板、フレキシブル配線板、半導体シリコンチップ等が挙げられ、これらは必要に応じて組み合わせて用いることができる。このように、本実施形態では、プリント配線板やポリイミド等の有機物からなる材質をはじめ、銅、アルミニウム等の金属やITO、窒化ケイ素(SiN)、二酸化ケイ素(SiO)等の無機材質のように多種多様な表面状態を有する回路部材を用いることができる。 The first circuit member 20 and the second circuit member 30 are not particularly limited as long as electrodes that require electrical connection are formed. Specifically, glass or plastic substrates, printed wiring boards, ceramic wiring boards, flexible wiring boards, semiconductor silicon chips, etc., on which electrodes are formed of ITO (indium tin oxide) used for liquid crystal displays, etc. These can be used in combination as required. As described above, in the present embodiment, a material made of an organic material such as a printed wiring board or polyimide, a metal such as copper or aluminum, or an inorganic material such as ITO, silicon nitride (SiN x ), or silicon dioxide (SiO 2 ) is used. As described above, circuit members having various surface states can be used.

接続部10は、上記本発明に係る接着剤組成物からなる回路接続材料の硬化物により形成され、絶縁性物質11及び導電粒子7を含有している。導電粒子7は、対向する第1の回路電極22と第2の回路電極32との間のみならず、主面21aと31aとの間にも配置されている。本実施形態の回路部材の接続体1においては、第1の回路電極22と第2の回路電極32とが、導電粒子7を介して電気的に接続されている。このため、第1の回路電極22及び第2の回路電極32の間の接続抵抗が十分に低減される。したがって、第1の回路電極22及び第2の回路電極32の間の電流の流れを円滑にすることができ、回路の持つ機能を十分に発揮することができる。また、この導電粒子7を上述した配合割合とすることによって電気的な接続の異方性を示すことも可能である。   The connection portion 10 is formed of a cured product of a circuit connection material made of the adhesive composition according to the present invention, and contains an insulating substance 11 and conductive particles 7. The conductive particles 7 are disposed not only between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 facing each other, but also between the main surfaces 21a and 31a. In the circuit member connection body 1 of the present embodiment, the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 are electrically connected via the conductive particles 7. For this reason, the connection resistance between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 is sufficiently reduced. Therefore, the flow of current between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 can be made smooth, and the functions of the circuit can be sufficiently exhibited. Moreover, it is also possible to show the anisotropy of electrical connection by setting the conductive particles 7 to the above-described mixing ratio.

なお、接続部10が導電粒子7を含有していない場合には、第1の回路電極22及び第2の回路電極32の間に所望の量の電流が流れるように、それらを直接接触させるか若しくは十分に近づけることで電気的に接続される。   In addition, when the connection part 10 does not contain the electrically-conductive particle 7, they are made to contact directly so that a desired amount of electric current may flow between the 1st circuit electrode 22 and the 2nd circuit electrode 32? Alternatively, it is electrically connected by being close enough.

接続部10は、上記本発明に係る接着剤組成物からなる回路接続材料の硬化物により構成されていることから、第1の回路部材20又は第2の回路部材30に対する接続部10の接着強度が十分に高くなり、かつ、接続抵抗が十分低くなり、しかもこの状態を長期間にわたって持続させることができる。また、そのような接続を低温短時間での加熱処理によって達成することができる。したがって、第1の回路電極22及び第2の回路電極32間の電気特性の長期信頼性を十分に高めることが可能となる。   Since the connection part 10 is comprised by the hardened | cured material of the circuit connection material which consists of the adhesive composition which concerns on the said invention, the adhesive strength of the connection part 10 with respect to the 1st circuit member 20 or the 2nd circuit member 30 Is sufficiently high, the connection resistance is sufficiently low, and this state can be maintained for a long period of time. Further, such connection can be achieved by heat treatment at a low temperature in a short time. Therefore, the long-term reliability of the electrical characteristics between the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 can be sufficiently increased.

(回路部材の接続方法)
次に、上述した回路部材の接続方法について、その工程図である図2を参照しつつ、説明する。
(Circuit member connection method)
Next, the above-described circuit member connection method will be described with reference to FIG.

先ず、上述した第一の回路部材20と、フィルム状回路接続材料40を用意する(図2(a)参照)。フィルム状回路接続材料40は、上述したように本発明に係る回路接続材料をフィルム状に成形してなるものである。回路接続材料は、接着剤成分5と、導電粒子7とを含有する。ここで、接着剤成分5には上述した本発明に係る接着剤成分が用いられる。なお、回路接続材料が導電粒子7を含有しない場合でも、その回路接続材料は絶縁性接着剤として異方導電性接着に使用でき、特にNCP(Non−Conductive Paste)と呼ばれることもある。また、回路接続材料が導電粒子7を含有する場合には、その回路接続材料はACP(Anisotropic Conductive Paste)と呼ばれることもある。   First, the first circuit member 20 and the film-like circuit connecting material 40 described above are prepared (see FIG. 2A). The film-like circuit connection material 40 is formed by forming the circuit connection material according to the present invention into a film shape as described above. The circuit connection material contains an adhesive component 5 and conductive particles 7. Here, the adhesive component according to the present invention described above is used for the adhesive component 5. Even when the circuit connecting material does not contain the conductive particles 7, the circuit connecting material can be used for anisotropic conductive bonding as an insulating adhesive, and is sometimes called NCP (Non-Conductive Paste). Further, when the circuit connecting material contains the conductive particles 7, the circuit connecting material may be referred to as ACP (Anisotropic Conductive Paste).

フィルム状回路接続材料40の厚さは、10〜50μmであることが好ましい。フィルム状回路接続材料40の厚さが10μm未満では、回路電極22、32間に回路接続材料が充填不足となる傾向がある。他方、50μmを超えると、回路電極22、32間の接着剤組成物を十分に排除しきれなくなり、回路電極22、32間の導通の確保が困難となる傾向がある。   The thickness of the film-like circuit connecting material 40 is preferably 10 to 50 μm. If the thickness of the film-like circuit connecting material 40 is less than 10 μm, the circuit connecting material tends to be insufficiently filled between the circuit electrodes 22 and 32. On the other hand, when the thickness exceeds 50 μm, the adhesive composition between the circuit electrodes 22 and 32 cannot be sufficiently removed, and it tends to be difficult to ensure conduction between the circuit electrodes 22 and 32.

次に、フィルム状回路接続材料40を第一の回路部材20の回路電極22が形成されている面上に載せる。なお、フィルム状回路接続材料40が支持体(図示せず)上に付着している場合には、フィルム状回路接続材料40側を第一の回路部材20に向けるようにして、第一の回路部材20上に載せる。このとき、フィルム状回路接続材料40はフィルム状であり、取り扱いが容易である。このため、第一の回路部材20と第二の回路部材30との間にフィルム状回路接続材料40を容易に介在させることができ、第一の回路部材20と第二の回路部材30との接続作業を容易に行うことができる。   Next, the film-like circuit connecting material 40 is placed on the surface of the first circuit member 20 on which the circuit electrodes 22 are formed. When the film-like circuit connecting material 40 is attached on a support (not shown), the film-like circuit connecting material 40 side is directed to the first circuit member 20 so that the first circuit is connected. Place on member 20. At this time, the film-like circuit connecting material 40 is film-like and easy to handle. For this reason, the film-like circuit connecting material 40 can be easily interposed between the first circuit member 20 and the second circuit member 30, and the first circuit member 20 and the second circuit member 30 Connection work can be performed easily.

そして、フィルム状回路接続材料40を、図2(a)の矢印A及びB方向に加圧し、フィルム状回路接続材料40を第一の回路部材20に仮接続する(図2(b)参照)。このとき、加熱しながら加圧してもよい。但し、加熱温度はフィルム状回路接続材料40中の接着剤組成物が硬化しない温度よりも低い温度とする。   And the film-form circuit connection material 40 is pressurized to the arrow A and B direction of Fig.2 (a), and the film-form circuit connection material 40 is temporarily connected to the 1st circuit member 20 (refer FIG.2 (b)). . At this time, you may pressurize, heating. However, the heating temperature is lower than the temperature at which the adhesive composition in the film-like circuit connecting material 40 is not cured.

続いて、図2(c)に示すように、第二の回路部材30を、第二の回路電極を第一の回路部材20に向けるようにしてフィルム状回路接続材料40上に載せる。なお、フィルム状回路接続材料40が支持体(図示せず)上に付着している場合には、支持体を剥離してから第二の回路部材30をフィルム状回路接続材料40上に載せる。   Subsequently, as shown in FIG. 2 (c), the second circuit member 30 is placed on the film-like circuit connection material 40 with the second circuit electrode facing the first circuit member 20. In addition, when the film-form circuit connection material 40 has adhered on the support body (not shown), after peeling a support body, the 2nd circuit member 30 is mounted on the film-form circuit connection material 40. FIG.

そして、フィルム状回路接続材料40を加熱しながら、図2(c)の矢印A及びB方向に第一及び第二の回路部材20、30を介して加圧する。このときの加熱温度は、本発明に係るカチオン発生剤がカチオン種を発生可能な温度とする。これにより、カチオン発生剤においてカチオン種が発生し、脂環式エポキシ化合物の重合が開始される。こうして、フィルム状回路接続材料40が硬化処理され、本接続が行われ、図1に示すような回路部材の接続体が得られる。   And it heats through the 1st and 2nd circuit members 20 and 30 to the arrow A and B direction of FIG.2 (c), heating the film-form circuit connection material 40. FIG. The heating temperature at this time is a temperature at which the cation generator according to the present invention can generate cation species. Thereby, cation species are generated in the cation generator, and polymerization of the alicyclic epoxy compound is started. In this way, the film-like circuit connection material 40 is cured and the main connection is performed, and a circuit member connection body as shown in FIG. 1 is obtained.

加熱温度は、好ましくは40℃〜180℃、更に好ましくは50℃〜150℃であり、加熱時間は、好ましくは0.1秒〜10時間、更に好ましくは1秒〜1時間である。加熱温度が40℃未満であると硬化速度が遅く、180℃を超えると望まない副反応が進行しやすい。加熱時間が0.1秒未満では硬化反応が進行せず、10時間を超えると硬化物の生産性が低下し、更に望まない副反応も進みやすい。   The heating temperature is preferably 40 ° C to 180 ° C, more preferably 50 ° C to 150 ° C, and the heating time is preferably 0.1 second to 10 hours, more preferably 1 second to 1 hour. When the heating temperature is less than 40 ° C, the curing rate is slow, and when it exceeds 180 ° C, unwanted side reactions tend to proceed. When the heating time is less than 0.1 seconds, the curing reaction does not proceed, and when it exceeds 10 hours, the productivity of the cured product is lowered, and undesired side reactions are likely to proceed.

上記のようにして、回路部材の接続体を製造すると、得られる回路部材の接続体において、導電粒子7を対向する回路電極22、32の双方に接触させることが可能となり、回路電極22、32間の接続抵抗を十分に低減することができる。また、低温短時間での加熱により接続部を形成することができるため、回路部材への影響を小さくすることができる。   When the circuit member connection body is manufactured as described above, in the obtained circuit member connection body, the conductive particles 7 can be brought into contact with both the circuit electrodes 22 and 32 facing each other. The connection resistance between them can be sufficiently reduced. Further, since the connection portion can be formed by heating in a short time at a low temperature, the influence on the circuit member can be reduced.

また、フィルム状回路接続材料40の加熱により、回路電極22と回路電極32との間の距離を十分に小さくした状態で接着剤成分5が硬化して絶縁性物質11となり、第一の回路部材20と第二の回路部材30とが接続部10を介して強固に接続される。即ち、得られる回路部材の接続体においては、接続部10は、上記接着剤組成物を含む回路接続材料の硬化物により構成されていることから、回路部材20又は30に対する接続部10の接着強度が十分に高くなり、かつ、回路電極22、32間の接続抵抗を十分に低減することができる。また、この回路部材の接続体は、そのような状態を長期間にわたって持続することができる。したがって、得られる回路部材の接続体は、回路電極22、32間の距離の経時的変化が十分に防止され、回路電極22、32間の電気特性の長期信頼性に優れる。   Further, by heating the film-like circuit connecting material 40, the adhesive component 5 is cured to become the insulating substance 11 in a state where the distance between the circuit electrode 22 and the circuit electrode 32 is sufficiently small, and the first circuit member is obtained. 20 and the second circuit member 30 are firmly connected via the connection portion 10. That is, in the obtained connection member of the circuit member, since the connection part 10 is composed of a cured product of the circuit connection material containing the adhesive composition, the adhesion strength of the connection part 10 to the circuit member 20 or 30 is obtained. Is sufficiently high, and the connection resistance between the circuit electrodes 22 and 32 can be sufficiently reduced. Moreover, the connection body of this circuit member can maintain such a state over a long period of time. Therefore, the obtained connection member of the circuit members is sufficiently prevented from changing with time in the distance between the circuit electrodes 22 and 32 and is excellent in long-term reliability of the electrical characteristics between the circuit electrodes 22 and 32.

また、上記実施形態では、フィルム状回路接続材料40を用いて回路部材の接続体を製造しているが、フィルム状回路接続材料40に代えて、フィルム状に形成されていない回路接続材料を用いてもよい。この場合でも、回路接続材料を溶媒に溶解させ、その溶液を、第一の回路部材20又は第二の回路部材30のいずれかに塗布し乾燥させれば、第一及び第二の回路部材20、30間に回路接続材料を介在させることができる。   Moreover, in the said embodiment, although the connection body of a circuit member is manufactured using the film-form circuit connection material 40, it replaces with the film-form circuit connection material 40, and uses the circuit connection material which is not formed in the film form. May be. Even in this case, if the circuit connection material is dissolved in a solvent and the solution is applied to either the first circuit member 20 or the second circuit member 30 and dried, the first and second circuit members 20 are used. , 30 can interpose a circuit connecting material.

また、導電粒子7の代わりに、他の導電材料を用いてもよい。他の導電材料としては、粒子状、又は短繊維状のカーボン、AuめっきNi線等の金属線条等が挙げられる。   Further, instead of the conductive particles 7, other conductive materials may be used. Other conductive materials include particulate or short fiber carbon, metal wires such as Au-plated Ni wire, and the like.

(半導体装置)
次に、本実施形態の半導体装置の実施形態について説明する。図3は、本発明の半導体装置の一実施形態を示す概略断面図である。図3に示すように、本実施形態の半導体装置2は、半導体素子50と、半導体の支持部材となる基板60とを備えており、半導体素子50及び基板60の間には、これらを電気的に接続する半導体素子接続部材80が設けられている。また、半導体素子接続部材80は基板60の主面60a上に積層され、半導体素子50は更にその半導体素子接続部材80上に積層されている。
(Semiconductor device)
Next, an embodiment of the semiconductor device of this embodiment will be described. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the semiconductor device of the present invention. As shown in FIG. 3, the semiconductor device 2 of this embodiment includes a semiconductor element 50 and a substrate 60 that serves as a semiconductor support member, and these are electrically connected between the semiconductor element 50 and the substrate 60. A semiconductor element connection member 80 is provided to connect to the semiconductor device. The semiconductor element connection member 80 is stacked on the main surface 60 a of the substrate 60, and the semiconductor element 50 is further stacked on the semiconductor element connection member 80.

基板60は回路パターン61を備えており、回路パターン61は、基板60の主面60a上で半導体接続部材80を介して又は直接に半導体素子50と電気的に接続されている。そして、これらが封止材70により封止され、半導体装置2が形成される。   The substrate 60 includes a circuit pattern 61, and the circuit pattern 61 is electrically connected to the semiconductor element 50 via the semiconductor connection member 80 on the main surface 60 a of the substrate 60 or directly. And these are sealed with the sealing material 70, and the semiconductor device 2 is formed.

半導体素子50の材料としては特に制限されないが、シリコン、ゲルマニウムの4族の半導体素子、GaAs、InP、GaP、InGaAs、InGaAsP、AlGaAs、InAs、GaInP、AlInP、AlGaInP、GaNAs、GaNP、GaInNAs、GaInNP、GaSb、InSb、GaN、AlN、InGaN、InNAsP等のIII−V族化合物半導体素子、HgTe、HgCdTe、CdMnTe、CdS、CdSe、MgSe、MgS、ZnSe、ZeTe等のII−VI族化合物半導体素子、そして、CuInSe(ClS)等の種々のものを用いることができる。   The material of the semiconductor element 50 is not particularly limited, but silicon, germanium group 4 semiconductor element, GaAs, InP, GaP, InGaAs, InGaAsP, AlGaAs, InAs, GaInP, AlInP, AlGaInP, GaNAs, GaNP, GaInNAs, GaInNP, III-V group compound semiconductor elements such as GaSb, InSb, GaN, AlN, InGaN, InNAsP, II-VI group compound semiconductor elements such as HgTe, HgCdTe, CdMnTe, CdS, CdSe, MgSe, MgS, ZnSe, and ZeTe, and Various materials such as CuInSe (ClS) can be used.

半導体素子接続部材80は、上記本発明に係る接着剤組成物からなる回路接続材料の硬化物により形成され、絶縁性物質11及び導電粒子7を含有している。導電粒子7は、半導体素子50と回路パターン61との間のみならず、半導体素子50と主面60aとの間にも配置されている。本実施形態の半導体装置2においては、半導体素子50と回路パターン61とが、導電粒子7を介して電気的に接続されている。このため、半導体素子50及び回路パターン61間の接続抵抗が十分に低減される。したがって、半導体素子50及び回路パターン61間の電流の流れを円滑にすることができ、半導体の有する機能を十分に発揮することができる。また、この導電粒子7を上述した配合割合とすることによって電気的な接続の異方性を示すことも可能である。   The semiconductor element connection member 80 is formed of a cured product of the circuit connection material made of the adhesive composition according to the present invention, and contains the insulating substance 11 and the conductive particles 7. The conductive particles 7 are disposed not only between the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 but also between the semiconductor element 50 and the main surface 60a. In the semiconductor device 2 of the present embodiment, the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 are electrically connected via the conductive particles 7. For this reason, the connection resistance between the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 is sufficiently reduced. Therefore, the current flow between the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 can be made smooth, and the functions of the semiconductor can be fully exhibited. Moreover, it is also possible to show the anisotropy of electrical connection by setting the conductive particles 7 to the above-described mixing ratio.

なお、半導体素子接続部材80が導電粒子7を含有していない場合には、半導体素子50と回路パターン61とを所望の量の電流が流れるように直接接触させるか若しくは十分に近づけることで電気的に接続される。   In the case where the semiconductor element connecting member 80 does not contain the conductive particles 7, the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 are brought into direct contact with each other so that a desired amount of current flows or sufficiently close thereto. Connected to.

半導体素子接続部材80は上記本発明に係る接着剤組成物からなる回路接続材料の硬化物により構成されている。このことから、半導体素子50及び基板60に対する半導体素子接続部材40の接着強度が十分に高くなり、かつ、半導体素子50及び回路パターン61間の接続抵抗を十分に低減することができる。そして、この状態を長期間にわたって持続させることができる。また、低温短時間での加熱により半導体素子接続部材を形成できるため、半導体素子などへの影響を小さくすることができる。したがって、半導体素子50及び基板60間の電気特性の長期信頼性を十分に高めることが可能となる。   The semiconductor element connection member 80 is made of a cured product of a circuit connection material made of the adhesive composition according to the present invention. From this, the adhesive strength of the semiconductor element connection member 40 to the semiconductor element 50 and the substrate 60 is sufficiently high, and the connection resistance between the semiconductor element 50 and the circuit pattern 61 can be sufficiently reduced. And this state can be maintained over a long period of time. In addition, since the semiconductor element connecting member can be formed by heating in a short time at a low temperature, the influence on the semiconductor element or the like can be reduced. Therefore, the long-term reliability of the electrical characteristics between the semiconductor element 50 and the substrate 60 can be sufficiently increased.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではない。   The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment.

以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In addition, this invention is not limited to the following Example.

(実施例1)
脂環式エポキシ化合物として脂環式エポキシ樹脂セキサロイドGT401(ダイセル化学工業株式会社製、製品名)、及び(B)カチオン発生剤として3−メチル−2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロホスフェートを準備した。バインダーとしてフェノキシ樹脂(YP−70、東都化成株式会社製、製品名)を準備した。また、第2のカチオン重合性化合物として、ビスA型グリシジルエーテルエポセットBPA−328(日本触媒株式会社製、製品名)を準備した。また、ポリスチレンを核とする粒子の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を設け、このニッケル層の外側に、厚み0.02μmの金属を設けた平均粒径3μm、比重2.5の導電粒子を作成した。
Example 1
As alicyclic epoxy compound, alicyclic epoxy resin Cexaloid GT401 (product name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) and (B) 3-methyl-2-butenyltetramethylenesulfonium hexafluorophosphate as cation generator Got ready. A phenoxy resin (YP-70, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., product name) was prepared as a binder. Moreover, the bis A type | mold glycidyl ether eposet BPA-328 (made by Nippon Shokubai Co., Ltd., product name) was prepared as a 2nd cationically polymerizable compound. Conductive particles having an average particle size of 3 μm and a specific gravity of 2.5, in which a nickel layer having a thickness of 0.2 μm is provided on the surface of particles having polystyrene as a core, and a metal having a thickness of 0.02 μm is provided outside the nickel layer. It was created.

導電粒子以外の上記成分を、表1に示す固形重量比で混合し、この混合物に上記の導電粒子を8体積%配合分散させて、接着剤組成物を得た。この接着剤組成物を、厚み40μmのPET樹脂フィルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃、5分の熱風乾燥によって、接着剤層の厚みが20μmのフィルム状回路接続材料を得た。これを実施例1のフィルム状回路接続材料とした。   The above components other than the conductive particles were mixed at a solid weight ratio shown in Table 1, and 8 vol% of the above conductive particles were mixed and dispersed in this mixture to obtain an adhesive composition. This adhesive composition was applied to a PET resin film having a thickness of 40 μm using a coating apparatus, and a film-like circuit connecting material having an adhesive layer thickness of 20 μm was obtained by hot air drying at 70 ° C. for 5 minutes. This was used as the film-like circuit connecting material of Example 1.

(実施例2)
3−メチル−2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロホスフェートに代えて、シンナミルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェートをカチオン発生剤として用いたこと以外は実施例1と同様にして、実施例2のフィルム状回路接続材料を得た。
(Example 2)
Example 2 was conducted in the same manner as in Example 1 except that cinnamyldimethylsulfonium hexafluorophosphate was used as a cation generator instead of 3-methyl-2-butenyltetramethylenesulfonium hexafluorophosphate. A film-like circuit connecting material was obtained.

(比較例1)
BPA−328を用いないこと以外は実施例1と同様にして、比較例1のフィルム状回路接続材料を得た。
(Comparative Example 1)
A film-like circuit connection material of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as Example 1 except that BPA-328 was not used.

(比較例2)
(A)脂環式エポキシ化合物(GT401)に代えて、グリシジルエーテルYL980(ジャパンエポキシレジン株式会社製、製品名)を用いた以外は実施例1と同様にして、比較例2のフィルム状回路接続材料を得た。
(Comparative Example 2)
(A) In place of the alicyclic epoxy compound (GT401), the film-like circuit connection of Comparative Example 2 was performed in the same manner as in Example 1 except that glycidyl ether YL980 (product name, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) was used. Obtained material.

Figure 2011111557
Figure 2011111557

[接続体の作成]
上記により得られた実施例及び比較例のフィルム状回路接続材料をそれぞれ、ガラス基板(コーニング#1737、外形38mm×28mm、厚さ0.5mm、表面にITO配線パターン(パターン幅50μm、ピッチ50μm)を有するもの)に2×20mmの大きさでPET樹脂フィルムから転写した。次いで、ICチップ(外形1.7mm×17.2mm、厚さ0.55mm、バンプの大きさ50μm×50μm、バンプのピッチ50μm)を表2に示す実装条件(温度と時間)で、80MPa(バンプ面積換算)荷重をかけて加熱加圧して実装した。
[Create connection]
The film-like circuit connecting materials of Examples and Comparative Examples obtained as described above are respectively glass substrates (Corning # 1737, outer shape 38 mm × 28 mm, thickness 0.5 mm, ITO wiring pattern on the surface (pattern width 50 μm, pitch 50 μm) 2) having a size of 2 × 20 mm. Next, an IC chip (outer diameter 1.7 mm × 17.2 mm, thickness 0.55 mm, bump size 50 μm × 50 μm, bump pitch 50 μm) is 80 MPa (bumps) under the mounting conditions (temperature and time) shown in Table 2 (Area equivalent) Load was applied under heat and pressure.

[接続抵抗の評価]
この接続体の隣接回路間の抵抗値(14端子測定した中の最大値)を測定した。また、500時間、85℃、85%RHの条件で負荷を掛けた後の抵抗値(14端子測定した中の最大値)も測定した。これらの結果を表2に示す。
[Evaluation of connection resistance]
The resistance value between adjacent circuits of this connection body (maximum value among 14 terminals measured) was measured. Moreover, the resistance value (maximum value among 14 terminals measured) after applying a load for 500 hours at 85 ° C. and 85% RH was also measured. These results are shown in Table 2.

Figure 2011111557
Figure 2011111557

以上のようにして行った抵抗測定から、実施例1及び2、並びに比較例1のフィルム状回路接続材料により接続された接続体は、10Ω以下の良好な接続抵抗値を示すことが分かった。   From the resistance measurement performed as described above, it was found that the connection bodies connected by the film-like circuit connection materials of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 showed a good connection resistance value of 10Ω or less.

[保存安定性の測定]
実施例1及び2、並びに比較例1及び2のフィルム状回路接続材料を、40℃の恒温装置に5日間放置した。放置後にそれぞれのフィルム状回路接続材料を用いて接続体を作成し、抵抗を測定した。測定結果を表3に示す。
[Measurement of storage stability]
The film-like circuit connecting materials of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 were left in a thermostatic device at 40 ° C. for 5 days. After leaving, connection bodies were prepared using the respective film-like circuit connection materials, and the resistance was measured. Table 3 shows the measurement results.

Figure 2011111557
Figure 2011111557

以上のようにして行った抵抗測定から、脂環式エポキシGT401と、3−メチル−2−ブテニルテトラメチレンスルフォニウムヘキサフルオロホスフェートやシンナミルジメチルスルフォニウムヘキサフルオロホスフェートを用い、かつグリシジルエーテルBPA−328を用いたフィルム状回路接続材料(実施例1及び2)は、40℃で5日間放置した後でも、低温短時間で回路部材同士を接続して接続抵抗値が十分小さい接続体が得られることが分かった。   From the resistance measurement performed as described above, alicyclic epoxy GT401, 3-methyl-2-butenyltetramethylenesulfonium hexafluorophosphate, cinnamyldimethylsulfonium hexafluorophosphate, and glycidyl ether were used. A film-like circuit connection material using BPA-328 (Examples 1 and 2) is a connection body in which circuit members are connected at a low temperature in a short time and the connection resistance value is sufficiently small even after being left at 40 ° C. for 5 days. It turns out that it is obtained.

1…回路部材の接続体、2…半導体装置、5…接着剤成分、7…導電粒子、10…接続部、11…絶縁性物質、20…第1の回路部材、21…第1の回路基板、22…第1の回路電極、30…第2の回路部材、31…第2の回路基板、32…第2の回路電極、40…フィルム状回路接続材料、50…半導体素子、60…基板、61…回路パターン、70…封止材、80…半導体素子接続部材。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Connection body of circuit member, 2 ... Semiconductor device, 5 ... Adhesive component, 7 ... Conductive particle, 10 ... Connection part, 11 ... Insulating substance, 20 ... 1st circuit member, 21 ... 1st circuit board 22 ... 1st circuit electrode, 30 ... 2nd circuit member, 31 ... 2nd circuit board, 32 ... 2nd circuit electrode, 40 ... Film-like circuit connection material, 50 ... Semiconductor element, 60 ... Board | substrate, 61 ... Circuit pattern, 70 ... Sealing material, 80 ... Semiconductor element connection member.

Claims (10)

(A)脂環式エポキシ化合物と、(B)カチオン発生剤と、(C1)前記脂環式エポキシ化合物よりもカチオン重合性が低い第2のカチオン重合性化合物と、を含有する、接着剤組成物。   An adhesive composition containing (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a cation generator, and (C1) a second cation polymerizable compound having lower cation polymerizability than the alicyclic epoxy compound. object. (A)脂環式エポキシ化合物と、(B)カチオン発生剤と、(C2)グリシジルエーテル化合物と、を含有する接着剤組成物。   An adhesive composition containing (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a cation generator, and (C2) a glycidyl ether compound. 前記カチオン発生剤が、リン酸塩又はホウ酸塩である、請求項1又は2に記載の接着剤組成物。   The adhesive composition according to claim 1 or 2, wherein the cation generator is a phosphate or a borate. 前記カチオン発生剤が、スルフォニウムヘキサフルオロリン酸塩、スルフォニウムテトラフルオロホウ酸塩、又はスルフォニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩である、請求項1又は2に記載の接着剤組成物。   The adhesive according to claim 1 or 2, wherein the cation generator is sulfonium hexafluorophosphate, sulfonium tetrafluoroborate, or sulfonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate. Composition. 前記カチオン発生剤が、アンチモンを含有しない化合物である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の接着剤組成物。   The adhesive composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the cation generator is a compound containing no antimony. 導電粒子を接着剤組成物全体に対して0.1〜30体積%含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の接着剤組成物。   The adhesive composition as described in any one of Claims 1-5 which contains 0.1-30 volume% of electroconductive particles with respect to the whole adhesive composition. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の接着剤組成物からなり、回路部材同士を接着するとともにそれぞれの回路部材が有する回路電極同士を電気的に接続するために用いられる、回路接続材料。   A circuit connection material comprising the adhesive composition according to any one of claims 1 to 6 and used for bonding circuit members to each other and electrically connecting circuit electrodes included in each circuit member. . 対向配置された一対の回路部材と、
請求項7に記載の回路接続材料の硬化物からなり、前記一対の回路部材の間に介在しそれぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように当該回路部材同士を接着する接続部と、を備える接続体。
A pair of circuit members disposed opposite to each other;
It consists of the hardened | cured material of the circuit connection material of Claim 7, and the said circuit members are adhere | attached so that the circuit electrodes which are interposed between the said pair of circuit members and each circuit member has may be electrically connected. A connection body comprising a connection portion.
対向配置された一対の回路部材の間に請求項7に記載の回路接続材料を介在させ、全体を加熱及び加圧して、前記回路接続材料の硬化物からなり、前記一対の回路部材の間に介在しそれぞれの回路部材が有する回路電極同士が電気的に接続されるように前記回路部材同士を接着する接続部を形成することにより、前記一対の回路部材及び前記接続部を備える接続体を得る、回路部材の接続方法。   The circuit connection material according to claim 7 is interposed between a pair of circuit members arranged opposite to each other, and the whole is heated and pressurized to be made of a cured product of the circuit connection material, and between the pair of circuit members. A connection body including the pair of circuit members and the connection portion is obtained by forming a connection portion that bonds the circuit members so that the circuit electrodes of the respective circuit members that are interposed are electrically connected to each other. The connection method of a circuit member. 半導体素子と、
前記半導体素子を搭載する基板と、
前記半導体素子及び前記基板間に設けられ、前記半導体素子及び前記基板を電気的に接続する半導体素子接続部材と、を備え、
前記半導体素子接続部材は、請求項7に記載の回路接続材料の硬化物である、半導体装置。
A semiconductor element;
A substrate on which the semiconductor element is mounted;
A semiconductor element connecting member provided between the semiconductor element and the substrate and electrically connecting the semiconductor element and the substrate;
The semiconductor device is a semiconductor device, which is a cured product of the circuit connection material according to claim 7.
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