JP2011110653A - 切削工具 - Google Patents

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Abstract

【課題】 切刃における被覆層の突発的なチッピングや剥離を抑制できる切削工具を提供する。
【解決手段】 基体2の表面がTiとAlとを含む窒化物または炭窒化物からなる被覆層9で被覆され、すくい面3と逃げ面4との交差稜線部を切刃8として、Cu−Kα線の微小部X線回折測定における前記被覆層の(200)面ピークの半値幅dが切刃8において最小(d<d,d)であるスローアウェイチップ1等の切削工具であり、被覆層9の(200)面ピークの半値幅dが基体2の直上から被覆層9の表面に向かって大きくなっている(d/d’>1)ことがより望ましいものである。
【選択図】図4

Description

本発明は、基体の表面に被覆層が形成された切削工具に関する。
現在、切削工具では耐摩耗性や摺動性、耐欠損性が必要とされるため、WC基超硬合金やTiCN基サーメット等の硬質基体の表面に様々な被覆層を成膜して切削工具の耐摩耗性、耐欠損性を向上させる手法が使われている。
例えば、特許文献1では、基体の表面に(TiAl)N系のTiとAlの比率が異なる被覆層を2層積層した切削工具について記載され、いずれの被覆層もX線回折パターンにおける最高ピークの半値幅(半価幅)は0.6度以下と小さくて、高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮することが開示されている。
また、特許文献2にて、本出願人は、基体に表面に、(111)面に帰属されるピークの半値幅B(111)が0.55°以上の第1層と、(111)面に帰属されるピークの半値幅B(111)が0.3〜0.6°の第2層との多層構造のTiAlN皮膜を形成することにより、耐酸化性、耐欠損性および耐摩耗性に優れた切削工具等が得られることを提案した。
特開2003−136303号公報 特開2006−281363号公報
しかしながら、特許文献1のようにTiとAlの組成が異なる2層を積層した構成や、特許文献2のように下層の半値幅が大きくて上層の半値幅が小さい層を積層した構成でも、切刃における突発的な膜剥離や欠損が発生しやすく、この突発的な膜剥離や欠損を抑制する必要があることがわかった。
本発明は、切刃における被覆層の膜剥離や欠損を抑制できる切削工具を提供することを目的とする。
本発明の切削工具は、基体の表面がTiとAlとを含む窒化物または炭窒化物からなる被覆層で被覆され、すくい面と逃げ面との交差稜線部を切刃とする切削工具であって、Cu−Kα線の微小部X線回折測定における前記被覆層の(200)面ピークの半値幅が前記切刃において最小である。
ここで、前記被覆層の(200)面ピークの半値幅が、前記基体の直上から前記被覆層の表面に向かって大きくなっていることが望ましいものである。
本発明の切削工具によれば、被覆層の(200)面ピークの半値幅が切刃において最小となっており、切刃において安定した耐欠損性を実現することができる。
本発明の切削工具の好適例であるスローアウェイ式ミーリング工具についての先端部概略斜視図である。 図1のスローアウェイ式ミーリング工具に装着されるスローアウェイチップの(a)概略斜視図、(b)平面図である。 図2のスローアウェイチップのa−a断面図である。 図2、3のスローアウェイチップの表面からCu−Kα線の微小部X線回折測定したときの、(a)すくい面、(b)切刃、(c)逃げ面におけるX線回折パターンである。
本発明の切削工具の一例について、その好適例であるスローアウェイチップ(以下、単にチップと略す。)を装着したスローアウェイ式ミーリング工具Aの先端部概略斜視図である図1、および装着されるスローアウェイチップの(a)概略斜視図、(b)平面図である図2、図2のスローアウェイチップについてa−aラインについての断面図である図3を基に説明する。
図1〜3によれば、チップ1は、主面が略平板状を呈する基体2のすくい面3をなす主面および逃げ面4をなす側面との交差稜線がコーナー切刃5を挟んで主切刃6および副切刃7を具備した切刃8をなし、かつ基体2表面に被覆層9を被覆し、切刃8のすくい面3から逃げ面4にわたってホーニング10を設けてなる。そして、スローアウェイ式ミーリング工具Aはホルダ20のチップポケット21にチップ1を装着してなる。なお、チップ1は中央部に形成されているねじ穴23にねじ22を挿入してホルダ20にねじ22を螺合することによりクランプされている。
そして、図4にチップ1の表面からCu−Kα線の微小部X線回折測定したときの、(a)すくい面、(b)切刃、(c)逃げ面におけるX線回折パターンを示すが、Cu−Kα線の微小部X線回折測定による回折パターン(以下、単にXRDパターンと略す。)における被覆層9の(200)面ピークの半値幅dが切刃8において最小(d<d,d)となっている。この構成によって、切刃8において安定した耐欠損性を有する。なお、XRDパターンの(200)面ピークの半値幅dが切刃8において最小であることによって安定した耐欠損性が実現できる理由は不明であるが、被覆層9を構成する結晶の性状に起因するものと考えられる。
ここで、被覆層9は、TiとAlとを含む窒化物または炭窒化物からなり、その具体的な組成は、Ti1−a−bAl(C1−x)(ただし、MはTiを除く周期表第4、5、6族元素、希土類元素およびSiの群から選ばれる1種以上であり、0<a<1、0<b<1、0<a+b<1、0≦x≦1である。)にて構成されている。なお、被覆層9の組成はエネルギー分散型X線分光(EDS)分析法またはX線光電子分光分析法(XPS)にて測定できる。
また、被覆層9の(200)面ピークの半値幅dが、基体2の直上から被覆層9の表面に向かって大きくなっていることが望ましく、これによって、内部応力緩和によって被覆層9の付着力が向上して被覆層の剥離が抑制できるとともに、被覆層9の表面にてき裂が発生した場合でも基体2へ向かってき裂が伝播することを抑制できるという効果がある。なお、被覆層9の各厚み地点でのXRDパターンを確認するには、チップ1の被覆層9の表面を斜めに研磨して被覆層9の厚みが被覆層9の表面内で連続的に変化する研磨面を作製し、この露出した研磨面の各位置にてX線回折測定を行い、これを被覆層9の各厚み地点におけるXRDパターンとみなして確認すればよい。被覆層9の中間厚みにおける半価幅d’に対する被覆層9の表面における半価幅dの比率d/d’=1.1〜1.5であることが、耐欠損性の改善の点で望ましい。
さらに、切刃8にはホーニング10が施されていることが望ましく、ホーニング10の大きさはすくい面3から見たホーニング幅aは0.015〜0.045mm、逃げ面4から見たホーニング幅bは0.005〜0.040mmであることが望ましく、また、そのa/b比は1.15〜1.5であることが切刃8における切れ味と安定した耐欠損性とのバランスの点で望ましい。なお、ホーニング10の形状は、被覆層9の剥離を抑制するためにRホーニングであることが望ましいが、Cホーニング(チャンファホーニング)であってもよい。また、切刃8に続く逃げ面4にはポジ角が形成され、ノーズ切刃5におけるポジ角θは0.3〜3°であることが望ましい。
一方、基体2としては、炭化タングステンや炭窒化チタンを主成分とする硬質相とコバルトやニッケル等の鉄族金属を主成分とする結合相とからなる超硬合金やサーメットの他、窒化ケイ素や、酸化アルミニウムを主成分とするセラミックス、多結晶ダイヤモンドや立方晶窒化ホウ素からなる硬質相と、セラミックスや鉄族金属等の結合相とを超高圧下で焼成する超高圧焼結体等の硬質材料が好適に使用される。
本発明の切削工具は、切削工具として種々の切削条件で使用することができるが、特に、刃先欠損の生じやすいミーリング加工や、高硬度材の断続切削加工に対して優れた耐摩耗性および耐欠損性を示す。
(製造方法)
次に、本発明の切削工具の製造方法の一例について説明する。
まず、工具形状の基体を成形、焼成し、この基体に対して、所望によりすくい面、またはすくい面および逃げ面に研削加工およびホーニング加工を施す。次に、この基体表面の切刃領域のみに局所的にイオン注入を行う。注入するイオン種はチタン(Ti)、窒素(N)、炭素(C)が好適に使用でき、照射エネルギーは10〜50keVの範囲内とする。
その後、基体の表面に、被覆層を成膜する。被覆層の成膜方法として、イオンプレーティング法やスパッタリング法等の物理蒸着(PVD)法が好適に適応可能である。成膜方法の一例についての詳細について説明すると、被覆層をイオンプレーティング法で作製する場合には、金属チタン(Ti)、金属アルミニウム(Al)、金属M(ただし、MはTiを除く周期表第4、5、6族元素、希土類元素およびSiから選ばれる1種以上)をそれぞれ独立に含有する金属ターゲットまたは複合化した合金ターゲットを用いる。
成膜条件としては、このターゲットを用いて、アーク放電やグロー放電などにより金属源を蒸発させイオン化すると同時に、窒素源の窒素(N)ガスや炭素源のメタン(CH)/アセチレン(C)ガスと反応させる条件が好適に採用できる。このとき、窒素(N)ガスやアルゴン(Ar)ガスを用いて、イオンプレーティング法またはスパッタリング法によって、成膜温度450〜550℃、スパッタ電力6kW〜9kWまたはバイアス電圧30〜200Vにて被覆層を成膜する。
なお、成膜に際して、チップの逃げ面がターゲットに対向する向きに基体をセットして成膜を行うことが望ましく、これによって、逃げ面における被覆層の厚みを厚くすることができて、逃げ面摩耗を抑制することもできる。また、成膜初期と後期とで試料台の回転数を変えて、チップがターゲットに対向する時間を変えることにより、(200)ピークの半値幅が切刃で最小となる。
本発明によれば、切刃領域においては成膜前のイオン注入によって内部応力が低くなっているために、被覆層の成膜状態が他の部分とは異なり、結果的に被覆層の(200)面ピークの半値幅が切刃において最小となる。
平均粒径0.8μmの炭化タングステン(WC)粉末を主成分として、平均粒径1.5μmの金属コバルト(Co)粉末を9質量%、平均粒径1.0μmの炭化バナジウム(VC)粉末を0.2質量%、平均粒径1.0μmの炭化クロム(Cr)粉末を0.6質量%の割合で添加し混合して、プレス成形により刃先交換式ミーリング用切削工具形状(BDMT11T308ER−JT)に成形した後、脱バインダ処理を施し、0.01Paの真空中、1460℃で1時間焼成して超硬合金を作製した。なお、θ=0.5°とした。
また、各試料のすくい面表面をブラシ加工およびブラスト加工によって研磨加工するとともに、切刃にブラシ加工を施して、表1の寸法のRホーニング形状となるようにホーニング処理を行った。そして、表1の領域にイオン注入を行った(照射条件:20keV)。
次に、このようにして作製した基体に対して、アークイオンプレーティング法により成膜温度500℃で表1に示す条件でTi0.5Al0.5N組成の被覆層を成膜してスローアウェイチップを作製した。
得られたチップに対して、チップの断面を走査型電子顕微鏡にて観察して、すくい面および逃げ面における被覆層の平均厚み、および切刃における被覆層の最大厚みを測定した。そして、チップのすくい面、切刃および逃げ面の表面に対して、Cu−Kα線の微小部X線回折測定(測定条件:出力45kV、110mA、検出距離15cm、コリメータ径0.3mmφ)を行い、XRDパターンの(200)面ピークのピーク強度(装置上の測定値)および半値幅(表中、それぞれd,d,dと記載)を算出した。また、被覆層の厚みが傾斜的に変化する状態となるようにチップの表面を斜めに研磨して、この研磨面の研磨し始めた地点と基体が露出し始めた地点との中間地点(すなわち、被覆層の中間厚み地点)においても同様にX線回折測定を行い、半値幅(表中、d’と記載)を算出し、被覆層の中間厚みにおける半価幅d’に対する被覆層の表面における半価幅dの比率d/d’を算出した。結果は表2に示した。
次に、得られたスローアウェイチップを図1に示す刃先交換式ミーリング用切削工具に取り付けて、以下の切削条件にて切削試験を行った。結果は表2に示した。
切削方法:肩削り(ミーリング加工)
被削材 :SKD11
切削速度:150m/min
送り :0.12mm/tooth
切り込み:横切り込み10mm、深さ切り込み3mm
切削状態:乾式
評価方法:15分間切削した時点で、切刃のチッピング状態を確認するとともに、逃げ面における摩耗量(幅)を測定した。なお、摩耗幅の算出に際して、加工前のホーニング幅分を差し引くようにした。結果は、表2に示した。
表1、2より、被覆層を成膜する前の基体に対してイオン注入を行わなかった試料No.6、および全面にイオン注入を行った試料No.7では、(200)面ピークの半値幅はすくい面にて最小となり、切削評価において切刃にチッピングや欠損が発生してしまった。また、チップの回転数を一定の条件で成膜したNo.8では、(200)面ピークの半値幅はすくい面と切刃で同じとなり、切削評価において切刃にチッピングや欠損が発生してしまった。
これに対し、本発明に従い、(200)面ピークの半値幅が、前記切刃において最小であった試料No.1〜5では、切削性能に優れたものであった。
1 スローアウェイチップ(チップ)
2 基体
3 すくい面
4 逃げ面
5 コーナー切刃
6 主切刃
7 副切刃
8 切刃
9 被覆層
10 ホーニング
20 ホルダ
21 チップポケット
22 ねじ
23 ねじ穴
θ ポジ角

Claims (2)

  1. 基体の表面がTiとAlとを含む窒化物または炭窒化物からなる被覆層で被覆され、すくい面と逃げ面との交差稜線部を切刃とする切削工具であって、Cu−Kα線の微小部X線回折測定における前記被覆層の(200)面ピークの半値幅が、前記切刃において最小である切削工具。
  2. 前記被覆層の(200)面ピークの半値幅が、前記基体の直上から前記被覆層の表面に向かって大きくなっている請求項1記載の切削工具。
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