JP2011108886A - 薄膜コンデンサ及び薄膜コンデンサの製造方法 - Google Patents
薄膜コンデンサ及び薄膜コンデンサの製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】薄膜コンデンサ100は、炭素含有量が1質量%〜16質量%であるペロブスカイト系材料からなる誘電体前駆体層を下側の電極(下地電極2又は内部電極8となる内部電極層8b)の上に形成し、さらに上側に電極層(内部電極層8b又は上部電極層10b)を積層した後に、これらからなる積層体を焼成することで、六方晶系の結晶構造を有するペロブスカイト系材料からなる誘電体層4,6を形成することができる。また、上記の製造方法によれば、六方晶系の結晶構造を有するチタン酸バリウムの公知の製造方法と比較して低温で焼成が可能となるため、温度変化による静電容量の変化が小さい薄膜コンデンサをより容易に作製することができる。
【選択図】図1
Description
本実施形態に係る薄膜コンデンサ100及び上記の薄膜コンデンサ100の製造方法では、上側と下側とが金属からなる電極で挟まれた誘電体層(図1の誘電体層4,6)が六方晶系の結晶構造を備える。そして、この六方晶系の結晶構造を有する誘電体層を挟むように電極が設けられた薄膜コンデンサでは、温度変化に対する静電容量の変化が小さいことを以下の方法で確認した。
まず、薄膜コンデンサの基板(下地電極)として、Ni金属箔を準備し、誘電体膜の付着する面をCMP等によって平坦化した。平坦化後のNi金属箔の厚みは50μmであった。
検討1−1と同様に、薄膜コンデンサの基板(下地電極)として、Niからなる金属箔を準備し、誘電体膜の付着する面をCMP等によって平坦化した。平坦化後のNi箔の厚みは50μmであった。
次に、六方晶系の結晶構造を有する誘電体層を備える薄膜コンデンサと、立方晶系の結晶構造を有する誘電体層を備える薄膜コンデンサとの特性の違いを調べるため、下記の2種類の薄膜コンデンサを作製し、その特性を評価した。
次に、仮焼き温度を除いて上記検討1−2と同様な方法を用いて複数種類のコンデンサ構造物を作製し、六方晶系の結晶構造を有する誘電体層が形成される条件を検討した。
Ni箔を基材として使用しているため、仮焼き温度を500℃以上とした場合にはNiが酸化してしまう。しかしながら、Niが酸化した場合であっても、誘電体層の結晶系は六方晶系であることが確認された。
次に、化学溶液法でなくスパッタ法を用いて誘電体層を形成する点を除いて、上記検討1−2と同様のコンデンサ構造物を作製し、六方晶系の結晶構造を有する誘電体層が形成される条件を検討した。
次に、仮焼き条件を除いて上記検討1−2と同様な方法を用いて複数種類のコンデンサ構造物を作製し、六方晶系の結晶構造を有する誘電体層が形成される条件を検討した。
次に、内部電極及び上部電極の厚さを除いて上記検討1−2と同様な方法を用いて複数種類のコンデンサ構造物を作製し、六方晶系の結晶構造を有する誘電体層が形成される条件を検討した。
Claims (3)
- 金属からなる下側電極と、
前記下側電極上に積層され、六方晶系の結晶構造を有するペロブスカイト系材料からなる誘電体層と、
金属からなり、前記誘電体層を挟んで前記下側電極の反対側に積層された上側電極と、
を備えることを特徴とする薄膜コンデンサ。 - 金属からなる下側電極の上に、ペロブスカイト系材料からなり、炭素含有量が1質量%〜16質量%であると共に誘電体層となる誘電体前駆体層を形成する工程と、
前記誘電体前駆体層の上に、金属からなり上側電極となる上側電極層を積層して積層体を形成する工程と、
前記積層体を焼成する工程と、
を備えることを特徴とする薄膜コンデンサの製造方法。 - 前記上側電極層の厚さが50nm〜1000nmであることを特徴とする請求項2記載の薄膜コンデンサの製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112012001395T5 (de) | 2011-03-24 | 2013-12-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Signalverarbeitungsschaltung |
JP2015216246A (ja) * | 2014-05-12 | 2015-12-03 | Tdk株式会社 | 薄膜キャパシタ |
JP2016111182A (ja) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | Tdk株式会社 | 薄膜キャパシタ |
JP2017201707A (ja) * | 2011-11-16 | 2017-11-09 | スチュアート,マーティン,エー. | 高エネルギー密度蓄電装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08139292A (ja) * | 1994-05-20 | 1996-05-31 | Toshiba Corp | 薄膜キャパシタ及び半導体記憶装置 |
JPH10223476A (ja) * | 1997-02-07 | 1998-08-21 | Tdk Corp | 強誘電体薄膜およびその製造方法 |
JP2003146754A (ja) * | 2001-11-20 | 2003-05-21 | Tdk Corp | 高周波用誘電体磁器組成物及びそれを用いた高周波用電子部品 |
JP2003531097A (ja) * | 2000-04-21 | 2003-10-21 | コリア インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 低温焼結低損失高周波用誘電体セラミックス組成物およびその製造方法 |
JP2009267362A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Tdk Corp | 誘電体素子の製造方法 |
-
2009
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08139292A (ja) * | 1994-05-20 | 1996-05-31 | Toshiba Corp | 薄膜キャパシタ及び半導体記憶装置 |
JPH10223476A (ja) * | 1997-02-07 | 1998-08-21 | Tdk Corp | 強誘電体薄膜およびその製造方法 |
JP2003531097A (ja) * | 2000-04-21 | 2003-10-21 | コリア インスティテュート オブ サイエンス アンド テクノロジー | 低温焼結低損失高周波用誘電体セラミックス組成物およびその製造方法 |
JP2003146754A (ja) * | 2001-11-20 | 2003-05-21 | Tdk Corp | 高周波用誘電体磁器組成物及びそれを用いた高周波用電子部品 |
JP2009267362A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Tdk Corp | 誘電体素子の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112012001395T5 (de) | 2011-03-24 | 2013-12-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Signalverarbeitungsschaltung |
DE112012001395B4 (de) | 2011-03-24 | 2017-11-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Signalverarbeitungsschaltung |
JP2017201707A (ja) * | 2011-11-16 | 2017-11-09 | スチュアート,マーティン,エー. | 高エネルギー密度蓄電装置 |
JP2015216246A (ja) * | 2014-05-12 | 2015-12-03 | Tdk株式会社 | 薄膜キャパシタ |
JP2016111182A (ja) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | Tdk株式会社 | 薄膜キャパシタ |
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