JP2011100954A - ファイバレーザ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 出力されるレーザ光の立ち上がり期間短くしつつ、出力されるレーザ光の立ち上がり期間のばらつきを抑制することができるファイバレーザ装置を提供する。
【解決手段】 ファイバレーザ装置100は、種レーザ光源10と、励起光源20と、増幅用光ファイバ30と、制御部60と、出力設定部63と、出力命令部65とを備え、出力命令が制御部60に入力されるとき、制御部60は、予備励起状態と、出力状態となる様に種レーザ光源10と励起光源20とを制御し、予備励起状態においては、レーザ光が種レーザ光源10から出力されず、出力設定部63により設定されるレーザ光の強度に基づく所定の強度の励起光が励起光源20から一定期間出力され、出力状態においては、出力設定部により設定される強度のレーザ光が出力されるように、レーザ光が種レーザ光源10から出力されると共に励起光が励起光源20から出力されることを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、ファイバレーザ装置に関する。
近年、レーザ光を用いて加工を行う加工機や、レーザ光を使ったメス等の医療機器において、ファイバレーザ装置が用いられている。ファイバレーザ装置は、レーザ発振器によって発生されるレーザ光と励起光とが、増幅用光ファイバに入力されて、増幅されたレーザ光が出力部から出力されるものである。
このようなファイバレーザ装置においては、ファイバレーザ装置からレーザ光が出力され始めてからレーザ光の強度が安定するまでにある程度の期間を要する。つまり、レーザ光の立ち上がりにある程度の期間を要する。
このレーザ光の立ち上がり期間が短いほど作業効率が良い。下記特許文献1には、このようなレーザ光の強度が安定するまでの期間が短いとされるファイバレーザ装置が記載されている。
下記特許文献1に記載のファイバレーザ装置においては、ファイバレーザ装置からレーザ光が出力される前の期間(スタンバイ状態の期間)において、強度が弱く一定の励起光が増幅用光ファイバに入力され、増幅用光ファイバに添加される希土類元素が励起状態とされる。次いで、ファイバレーザ装置からレーザ光が出力されるときに、増幅用光ファイバに種レーザ光と強度の強い励起光とが入力され、種レーザ光が増幅され、増幅されたレーザ光が出力される。この様に、ファイバレーザ装置からレーザ光を出力する際に、増幅用光ファイバの希土類元素が事前に励起状態とされるため、ファイバレーザ装置から出力されるレーザ光の立ち上がり期間が短いとされる(特許文献1)。
特開2008−91773号公報
しかし、上記特許文献1に記載のファイバレーザ装置は、レーザ光の立ち上がり期間が短いものの、このレーザ光の立ち上がり期間にばらつきがあり、改善の余地があった。
そこで、本発明は、出力されるレーザ光の立ち上がり期間を短くしつつ、出力されるレーザ光の立ち上がり期間のばらつきを抑制することができるファイバレーザ装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために本発明者らは、上記特許文献1に記載のファイバレーザ装置において、ファイバレーザ装置からレーザ光が出力され始めてからレーザ光の強度が安定するまでの期間がばらつく原因について鋭意検討を行った。その結果、ファイバレーザ装置からレーザ光を出力させようとする時点において、増幅用光ファイバの希土類元素の励起状態がばらついており、この励起状態と、レーザ光を出力させるために増幅用光ファイバに入力する励起光とが何ら関係付けられていないことが原因であることを突き止めた。
つまり、上記特許文献1に記載のファイバレーザ装置においては、励起光が増幅用光ファイバに入力され希土類元素が励起状態とされるスタンバイ状態の期間の長さによって、増幅用光ファイバの希土類元素の励起状態が異なる場合がある。例えば、スタンバイ状態が非常に短い場合、レーザ光が出力される時点において、増幅用光ファイバの希土類元素は低い励起状態とされ、スタンバイ状態が十分に長い場合、レーザ光が出力される時点において、増幅用光ファイバの希土類元素は高い励起状態とされる。そして、この励起状態とは、無関係に種レーザ光と励起光とが増幅用光ファイバに入力されて、ファイバレーザ装置からレーザ光が出力される。このため、ファイバレーザ装置からレーザ光が出力され始めてからレーザ光の強度が安定するまでの期間にばらつきが生じるのである。
そこで、本発明者らは、レーザ光が立ち上がる前の励起光の強度と、レーザ出力を行う際の励起光の強度との関係について着目し、本発明をするに至った。
すなわち本発明のファイバレーザ装置は、種レーザ光を出力する種レーザ光源と、励起光を出力する励起光源と、前記種レーザ光と前記励起光とが入力され、前記励起光により励起状態とされる希土類元素が添加され、前記種レーザ光を増幅してレーザ光として出力する増幅用光ファイバと、前記増幅用光ファイバから出力される前記レーザ光を出力する出力部と、少なくとも前記種レーザ光源と前記励起光源とを制御する制御部と、前記出力部から出力される前記レーザ光の強度を設定する出力設定命令を前記制御部に入力する出力設定部と、前記出力部から前記レーザ光を出力させる出力命令を前記制御部に入力する出力命令部と、を備え、前記出力命令が前記制御部に入力されるとき、前記制御部は、前記種レーザ光源及び前記励起光源が予備励起状態から出力状態になるように、前記種レーザ光源及び前記励起光源を制御し、前記予備励起状態においては、前記種レーザ光が前記種レーザ光源から出力されず、前記出力設定部により設定されるレーザ光の強度に基づいた所定の強度の励起光が前記励起光源から一定期間出力され、前記出力状態においては、前記出力設定部により設定される強度のレーザ光が前記出力部から出力されるように、前記種レーザ光が前記種レーザ光源から出力されると共に前記励起光が前記励起光源から出力されることを特徴とするものである。
このようなファイバレーザ装置によれば、出力命令部から出力命令が制御部に入力されると、制御部は、種レーザ光源及び励起光源を予備励起状態として、種レーザ光が出力されないように種レーザ光源を制御すると共に、増幅用光ファイバに励起光が一定期間入力されるように励起光源を制御する。このため、増幅用光ファイバの希土類元素の励起状態は徐々に高くされる。次に制御部は、種レーザ光源及び励起光源を出力状態として、励起光と種レーザ光とが増幅用光ファイバに入力されるようにする。このとき、予備励起状態において増幅用光ファイバの希土類元素の励起状態が高くされているため、出力状態において、出力部から出力されるレーザ光の立ち上がり期間を短くすることができる。
また、制御部は、予備励起状態における励起光の強度を、出力設定部により設定されるレーザ光の強度に基づいた強度とする。出力設定部により設定されるレーザ光の強度に基づいた強度とは、出力状態において出力部から出力されるレーザ光の強度が強いため、出力状態における励起光の強度が強い場合には、予備励起状態における励起光の強度は強めに設定され、出力状態において出力部から出力されるレーザ光の強度が弱いため、出力状態における励起光の強度が弱い場合には、予備励起状態における励起光の強度が弱めに設定されることを意味する。このため、予備励起状態の終了時点における希土類元素の励起状態は、出力状態において出力部から出力されるレーザ光の強度が強い場合には、高い励起状態とされ、出力状態において出力部から出力されるレーザ光の強度が弱い場合には、低い励起状態とされる。従って、出力状態において、種レーザ光及び励起光が増幅用光ファイバに入力されてから、出力部から出力されるレーザ光が立ち上がるまでの期間のばらつきを抑制することができる。
さらに、上記ファイバレーザ装置において、前記増幅用光ファイバと前記出力部との間に設けられ、前記予備励起状態における前記励起光により前記増幅用光ファイバで発生して出力される光を波長変換せず、前記出力状態における前記種レーザ光及び前記励起光により前記増幅用光ファイバから出力される前記レーザ光を波長変換する波長変換器と、前記波長変換器と前記出力部との間に設けられ、前記種レーザ光と同じ波長帯域の光が前記波長変換器に入力されるとき、前記波長変換器において波長変換される光を透過し、前記波長変換器において波長変換されない光の透過が抑制される波長選択フィルタと、を更に備えることが好適である。
波長変換器は、例えば、誘導ラマン散乱を起こす光ファイバにより構成される。この波長変換器は、入力する光の強度の尖塔値が大きい場合には、この光をより波長の長い光に変換して出力し、入力する光の強度の尖塔値が小さい場合には、この光の波長を変換せずそのまま出力する。従って、このようなファイバレーザ装置によれば、出力状態において、増幅用光ファイバから増幅されたレーザ光が出力されると、レーザ光は強度の尖塔値が大きいため、波長変換器において波長変換される。波長変換されたレーザ光は、波長選択フィルタを透過して出力部から出力される。一方、予備励起状態においては、励起光により増幅用光ファイバの希土類元素が励起状態とされる。ところで、増幅用光ファイバは、励起光により励起状態とされる希土類元素の誘導放出により、種レーザ光源から出力される種レーザ光が増幅されるように構成される。しかし予備励起状態においては、種レーザ光が増幅用光ファイバに入力されないため、増幅用光ファイバからは、励起された希土類元素による自然放出光のみが出力される。この自然放出光は、強度の尖塔値が小さいため、波長変換器において波長変換されなく、波長変換器から出力され波長選択フィルタに入力する光は、光フィルタにおいて透過が抑制される。こうして、予備励起状態において、出力部から不要な光が出力されることを抑制することができる。
或いは、本発明のファイバレーザ装置は、種レーザ光を出力する種レーザ光源と、励起光を出力する励起光源と、前記種レーザ光と前記励起光とが入力され、前記励起光により励起状態とされる希土類元素が添加され、前記種レーザ光を増幅してレーザ光として出力する増幅用光ファイバと、前記増幅用光ファイバから出力される前記レーザ光を出力する出力部と、少なくとも前記種レーザ光源と前記励起光源とを制御する制御部と、前記出力部から出力される前記レーザ光の強度を設定する出力設定命令を前記制御部に入力する出力設定部と、前記出力部から前記レーザ光を出力させる出力命令を前記制御部に入力する出力命令部と、を備え、前記出力命令が前記制御部に入力されるとき、前記制御部は、前記種レーザ光源及び前記励起光源が予備励起状態から出力状態になるように、前記種レーザ光源及び前記励起光源を制御し、予備励起状態においては、一定期間、微弱な強度の種レーザ光が前記種レーザ光源から出力されると共に、前記出力設定部により設定されるレーザ光の強度に基づいた所定の強度の励起光が前記励起光源から出力され、前記出力状態においては、前記出力設定部により設定される強度のレーザ光が前記出力部から出力されるように、前記種レーザ光が前記種レーザ光源から出力されると共に前記励起光が前記励起光源から出力されることを特徴とするものである。
このようなファイバレーザ装置によれば、予備励起状態において、増幅用光ファイバに種レーザ光が入力されるため、励起光による希土類元素の励起と種レーザ光による希土類元素の緩和とのバランスを取ることができる。従って希土類元素が不安定になるほど励起されてしまうことを抑制でき、予備励起状態において、意図しないレーザ発振を抑制することができる。
さらに、上記ファイバレーザ装置において、前記出力状態における前記種レーザ光源から出力される前記種レーザ光はパルス光であり、前記予備励起状態における前記種レーザ光源から出力される前記種レーザ光は連続光であっても良い。
また、上記ファイバレーザ装置において、前記増幅用光ファイバと前記出力部との間に設けられ、前記予備励起状態における前記種レーザ光及び前記励起光により前記増幅用光ファイバから出力される光を波長変換せず、前記出力状態における前記種レーザ光及び前記励起光により前記増幅用光ファイバから出力される前記レーザ光を波長変換する波長変換器と、前記波長変換器と前記出力部との間に設けられ、前記種レーザ光と同じ波長帯域の光が前記波長変換器に入力されるとき、前記波長変換器において波長変換される光を透過し、前記波長変換器において波長変換されない光の透過が抑制される波長選択フィルタと、を更に備えることが好適である。
このようなファイバレーザ装置によれば、予備励起状態において、増幅用光ファイバに入力される微弱な強度の種レーザ光は、希土類元素の誘導放出により増幅されて増幅用光ファイバから出力される。しかし、波長変換器は、このとき増幅用光ファイバから出力される光を波長変換しないよう構成される。従って、予備励起状態において、出力部からレーザ光が出力されることが抑制される。
また、上記ファイバレーザ装置において、前記予備励起状態における前記励起光の強度は、前記出力状態における前記励起光の強度以下であることが好適である。
本発明によれば、出力されるレーザ光の立ち上がり期間短くしつつ、出力されるレーザ光の立ち上がり期間のばらつきを抑制することができる。
本発明の第1実施形態に係るファイバレーザ装置を示す図である。 図1の種レーザ光源を示す図である。 図1のファイバレーザ装置の動作を模式的に示したタイミングチャートである。 本発明の第2実施形態に係るファイバレーザ装置を示す図である。 本発明の第3実施形態に係るファイバレーザ装置の動作を模式的に示したタイミングチャートである。 制御部における励起光源の制御を行うブロックのブロック図である。 出力命令部からの出力命令と、制御部がマルチプレクサに入力する選択信号と、マルチプレクサが出力する電圧との関係を示すタイミングチャートである。
以下、本発明に係るファイバレーザ装置の好適な実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係るファイバレーザ装置を示す図である。
図1に示すように、ファイバレーザ装置100は、波長λ1の種レーザ光を出力する種レーザ光源10と、励起光を出力する励起光源20と、励起光と種レーザ光とが入力する増幅用光ファイバ30と、励起光と種レーザ光とを増幅用光ファイバ30に入力させる光カプラ40と、増幅用光ファイバ30から出力される光を出力する出力部50と、種レーザ光源10と励起光源20とを制御する制御部60と、出力部50から出力されるレーザ光の強度を制御部60に入力する出力設定部63と、出力部50からレーザ光を出力させるように制御部60に出力命令を入力する出力命令部65と、出力部50から出力されるレーザ光の強度に応じて励起光源20から出力する励起光の強度を記憶するメモリ67とを主な構成として備える。
図2は、図1の種レーザ光源10を示す図である。本実施形態においては、種レーザ光源10として、ファブリペロー型のレーザ出力装置が用いられる。図2に示すように種レーザ光源10は、励起光を出力するレーザ発振器11と、レーザ発振器11からの励起光が入力される希土類添加ファイバ13と、希土類添加ファイバ13とレーザ発振器11との間に設けられる第1FBG(Fiber Bragg Grating)12と、希土類添加ファイバ13のレーザ発振器11とは反対側に設けられる第2FBG15と、第2FBG15と希土類添加ファイバ13との間にもうけられるAOM(Acoustic Optical Modulator:音響光学素子)14とを備える。
レーザ発振器11は、例えば半導体レーザであって、励起光を出力する。出力される励起光は、例えば、975nmの波長である。レーザ発振器11から出力される励起光は、第1FBG12を介して希土類添加ファイバ13に入力される。希土類添加ファイバ13において、励起光は、希土類添加ファイバ13に添加された希土類元素に吸収される。このため、希土類元素は励起状態となる。そして、励起状態となった希土類元素は、特定の波長λ1を含む自然放出光を放出する。このときの波長λ1は、例えば、1064nmである。この自然放出光は、希土類添加ファイバ13を伝播し、AOM14に入力される。AOM14は、低損失な状態と高損失な状態とを周期的に繰り返すように制御されたり、低損失な状態を維持するように制御されたりする。
そして、AOM14が低損失な状態と高損失な状態とを周期的に繰り返すように制御される場合、AOM14が高損失な状態では、AOM14は自然放出光の透過を抑制し、AOM14が低損失な状態では、AOM14は自然放出光を透過させる。このため、AOM14が低損失な状態では、自然放出光は、AOM14を介して、第2FBG15に入力される。第2FBG15は、波長λ1を含む波長帯域の光を選択的に約50%以下の反射率で反射する。従って反射する自然放出光は、AOM14を介して再び希土類添加ファイバ13に入力されて、希土類添加ファイバ13の希土類元素の誘導放出により増幅される。その後、増幅された光は、第1FBG12に到達する。第1FBG12は、波長λ1を含む波長帯域の光を選択的に例えば99.5%の反射率で反射する。このため、第1FBG12で反射される光は、再び希土類添加ファイバ13に入力されて増幅される。その後、増幅された光は、AOM14を介して第2FBG15に入力され、一部の光が第2FBG15を透過する。このように第1FBG12と第2FBG15とでファブリペロー発振器を構成し、AOM14が低損失な状態と高損失な状態とを繰り返す動作に同期して、パルス状の光が増幅され、この増幅されたパルス状の光が種レーザ光として第2FBG15から出力される。このとき種レーザ光源10から出力される種レーザ光の波長λ1は、例えば、1064nmであり、パルスの繰り返し周波数は、例えば、100kHzである。
また、AOM14低損失な状態を維持するように制御される場合、種レーザ光源10からは、同一波長で連続光である種レーザ光が出力される。
なお、種レーザ光源10においては、AOM14が制御部60からの制御信号により制御されることで、パルス光や連続光としての種レーザ光の出力が制御されたり、それらの強度が制御されたりする。
種レーザ光源10から出力されるレーザ光は、光カプラ40に入力される。
一方、励起光源20は、励起光を出力する複数のレーザダイオードから構成され、出力する励起光の強度が、制御部60からの制御信号によって調整される。励起光源20は、増幅用光ファイバ30の希土類元素を励起状態とする励起光を出力し、励起光源20から出力される励起光は光カプラ40に入力される。なお、励起光源20から出力される励起光は、例えば、975nmの波長である。
光カプラ40は、種レーザ光源10からのレーザ光が入力する入力ポート41と、励起光源20からの励起光が入力する励起光入力ポート42と、種レーザ光源10からの種レーザ光及び励起光を出力する出力ポート43とを有する。入力ポート41は、種レーザ光源10からの種レーザ光をシングルモード光として伝播するシングルモードファイバから構成される。励起光入力ポート42は、励起光源20から出力される励起光をマルチモード光として伝播するマルチモードファイバから構成される。出力ポート43は、コアと、コアを被覆するクラッドと、クラッドを被覆する樹脂クラッドとを有するダブルクラッドファイバから構成され、コアにより種レーザ光をシングルモード光として伝播し、コア及びクラッドにより励起光をマルチモード光として伝播する構成となっている。出力ポート43から出力する種レーザ光と励起光とは、増幅用光ファイバ30に入力される。
増幅用光ファイバ30は、希土類元素が添加されるコアと、コアを被覆するクラッドと、クラッドを被覆する樹脂クラッドとを有するダブルクラッドファイバから構成される。コアは、光カプラ40から出力される種レーザ光をシングルモード光として伝播し、コア及びクラッドにより光カプラ40から出力される励起光をマルチモード光として伝播する。そして、励起光がコアを通過する際、コアに添加される希土類元素が励起状態とされて、励起状態とされる希土類元素は、コアを伝播する種レーザ光により誘導放出を起こし、この誘導放出により種レーザ光が増幅される。増幅用光ファイバ30は、例えば、コアの直径が10μmで、クラッドの外径が125μmであり、コアには、希土類元素として、エルビウムが添加されている。
出力部50は、増幅用光ファイバ30で増幅されるレーザ光をファイバレーザ装置100の外部に出力する。なお、上記の様に種レーザ光源10からパルス状の種レーザ光が出力される場合、出力部50からは、種レーザ光源10から出力される種レーザ光と同期するパルス状のレーザ光が出力される。
出力設定部63では、出力部50から出力されるレーザ光の強度が設定され、設定されるレーザ光の強度に基づいた出力設定命令を制御部60に入力する。
出力命令部65は、出力部50からレーザ光を出力させるための出力命令を制御部60に入力する。
制御部60は、出力設定部63からの出力設定命令や、出力命令部65からの出力命令に基づいて種レーザ光源10及び励起光源20を制御する。具体的には、制御部60は、種レーザ光源10におけるレーザ発振器11やAOM14を制御して、種レーザ光源10からの種レーザ光の出力の有無や強度、及び、種レーザ光をパルス光や連続光にする制御を行う。さらに制御部60は、励起光源20を制御して、励起光源20から出力される励起光の有無や、励起光源20から出力される励起光の強度を制御する。
メモリ67は、出力設定部63で設定した強度のレーザ光が出力部50から出力されるための励起光の強度、及び、出力部50からレーザ光が出力される前における励起光の強度を出力設定命令に対応して記憶している。このレーザ光が出力される前の励起光の強度は、レーザ光が出力される前に予め定められる一定期間だけ励起光を増幅用光ファイバに入力した場合に、出力部50からレーザ光が出力される際、出力部50から出力されるレーザ光の強度が安定するまでの期間が一定となるような強度とされる。つまり、出力状態において出力部50から出力されるレーザ光の強度が強いため、出力状態における励起光の強度が強い場合には、レーザ光が出力される前における励起光の強度は強めに設定され、出力状態において出力部50から出力されるレーザ光の強度が弱いため、出力状態における励起光の強度が弱い場合には、レーザ光が出力される前における励起光の強度は弱めに設定される。この励起光の強度は、出力設定部63により設定されるレーザ光の強度に基づいて、事前に求められてメモリ67に記憶される。
次に、ファイバレーザ装置100の動作について図3を用いて説明する。
図3は、ファイバレーザ装置100の動作を模式的に示したタイミングチャートである。
図3は、出力命令部65から制御部60に入力される出力命令と、励起光源20から出力される励起光の強度と、種レーザ光源10から出力される種レーザ光の強度と、増幅用光ファイバ30の希土類元素の励起状態と、出力部50から出力されるレーザ光の強度を模式的に表している。なお、図3において、出力命令がHの状態が、出力命令部65から制御部60に出力命令がされている状態を表し、励起光の強度が高く表されている程、強度の強い励起光が励起光源20から出力されている状態を示し、種レーザ光源からの種レーザ光の強度が高く表されている程、種レーザ光源10から強度の強い種レーザ光が出力されている状態を示し、希土類元素の励起状態が高く表されている程、増幅用光ファイバ30の希土類元素が高い励起状態であることを示し、出力されるレーザ光の強度が高く表される程、出力部50から出力されるレーザ光の強度が強い状態を示す。
まず、ファイバレーザ装置100の図示しない電源がオンにされ、制御部60に電力が供給される。
制御部60は、電力が供給されると、出力設定部63からの出力設定命令を待つ。そして、出力設定部63において、出力部50から出力されるレーザ光の強度が強度P1に設定されると、この設定に基づいた出力設定命令が制御部60に入力される。このとき、制御部60は、この出力設定命令を記憶する。
次に、時刻t1において、出力命令部65から制御部60に出力命令が入力されると、制御部60は、励起光源20を予備励起状態として制御すると共に、記憶している出力設定命令に基づいた所定の予備励起光の強度R11をメモリ67から読み出す。そして、制御部60は、励起光源20を制御して、予め定められる一定期間Taだけ、メモリ67から読み出した強度R11の予備励起光を出力させる。さらに、制御部60は、種レーザ光源10を予備励起状態として制御して、種レーザ光が出力されないように制御する。なお、この種レーザ光源10の制御には、種レーザ光源10に対して特に命令を行わないことも含まれる。このとき増幅用光ファイバ30には、予備励起光のみが入力されるため、増幅用光ファイバ30の希土類元素の励起状態は徐々に高くされる。このときの予備励起光の強度R11は、例えば2Wとされ、一定期間Taは、例えば100μ秒とされる。
このため、時刻t1から予め定められる一定期間Taが経過する予備励起状態の終了時点において、希土類元素の励起状態の高さは、出力されるレーザ光の強度P1に基づいて、予め定められる励起状態S11とされる。
次に、時刻t1から予め定められる一定期間Taが経過する時刻t2において、制御部60は、励起光源20を出力状態として、記憶している出力設定命令に対応する励起光の強度R12をメモリ67から読み出す。そして、励起光源20を制御して、励起光源20から強度R12の励起光を出力させる。さらに制御部60は、時刻t2において、種レーザ光源10を制御して、種レーザ光源10から尖塔値が強度Hで波長λ1のパルス状の種レーザ光を出力させる。具体的には、出力状態における励起光の強度R12の強度は、例えば6Wとされ、種レーザ光の尖塔値の強度Hは、例えば4Wとされる。
出力状態において、励起光源20から強度R12励起光が出力され、種レーザ光源10から種レーザ光が出力されると、増幅用光ファイバ30の希土類元素は、さらに高い励起状態とされながら誘導放出を起こして、種レーザ光の強度を増幅させる。このため、増幅用光ファイバ30からは、増幅されたパルス状のレーザ光が出力され、出力部50からは、この増幅されたパルス状のレーザ光が出力される。
ただし、時刻t2を経過して間もない時点においては、出力部50から出力されるレーザ光の強度は、出力設定部63により設定された強度P1には達しない。そして、時刻t2から期間Tbが経過する時刻t3になると、希土類元素の励起状態がS12とされる。こうして、出力部50から出力設定部63で設定された強度P1のレーザ光が出力され、レーザ光の出力が安定する。この時刻t2から時刻t3の期間(期間Tb)は、出力部50から出力されるレーザ光の立ち上がり期間となる。例えば、電源が投入されて最初のレーザ光の出力の場合に、上記のように予備励起光の強度R11が2Wとされ、一定期間Taが100μ秒とされ、出力状態における励起光の強度R12が6Wとされ、種レーザ光の尖塔値の強度Hが4Wされる場合、期間Tbは50μ秒以下となる。
ここで、予備励起状態において励起光源20から出力される予備励起光の強度について説明する。予備励起状態において、予め定められる一定の期間Ta(t1〜t2)だけ強度R11の予備励起光が出力されると、希土類元素は出力設定部63で設定したレーザ光の強度P1に基づく所定の励起状態S11とされる。この所定の励起状態S11とは、出力状態において出力設定部63で出力される強度P1のレーザ光を出力するために、励起光源20から強度R12の励起光が出力され、種レーザ光源から尖塔値が強度Hである種レーザ光が出力されるとき、一定期間Tbでレーザ光が立ち上がる様な励起状態である。そして、予備励起状態における予備励起光の強度R11は、予備励起状態が終了する時点t2において、希土類元素が所定の励起状態S11とされる強度である。つまり、予備励起状態において励起光源20から出力される予備励起光の強度R11は、立ち上がり期間Tbが、出力設定部63で設定されるレーザ光の強度によらず一定の期間となるような強度である。
このような予備励起光の強度R11は、出力状態において、尖塔値が強度Hである種レーザ光と強度R12の励起光とを増幅用光ファイバ30に入力したときに、立ち上がり期間がTbとなるように、出力設定部63により設定されるレーザ光の強度P1に基づいて、事前に求められ、上述のようにメモリ67に記憶されている。
次に時刻t4において、出力命令部65から出力命令が入力されなくなると、制御部60は、種レーザ光源10からの種レーザ光の出力と、励起光源20からの励起光の出力とを停止させる。このため、出力部50から出力されるレーザ光が停止される。そして、制御部60は、再び出力命令部65からの出力命令や、出力設定部63からの出力設定命令を待つ。
次に、時刻t3から時刻t4のレーザ出力の強度P1とは異なる強度のレーザ出力について説明する。
次に時刻t4から時刻t5の間に出力設定部63において、出力部50から出力されるレーザ光の強度が、時刻t3から時刻t4におけるレーザ光の強度と異なる強度P2に設定されると、この設定に基づいた出力設定命令が制御部60に入力される。このとき、制御部60は、この出力設定命令を記憶する。
次に、時刻t5において、出力命令部65から制御部60に出力命令が入力されると、制御部60は、励起光源20を予備励起状態として制御すると共に、出力設定命令に基づく予備励起光の強度R21をメモリ67から読み出す。そして、制御部60は、励起光源20を制御して、予め定められる一定期間Taだけ、メモリ67から読み出した強度R21の予備励起光を出力させる。さらに、制御部60は、種レーザ光源10を予備励起状態として制御し、種レーザ光が出力されないように制御する。このとき増幅用光ファイバ30には、予備励起光のみが入力されるため、増幅用光ファイバ30の希土類元素の励起状態は徐々に高くされる。なお、予備励起状態の期間Taの長さは、時刻t1〜時刻t2の予備励起状態の期間Taと同じ長さである。また、例えば、図3に示すように出力部50から出力されるレーザ光の強度P2が強度P1よりも弱い場合には、予備励起光の強度R21は、強度R11よりも弱い強度とされる。例えば、上述のように時刻t1からt2における予備励起光の強度R11が2Wである場合、強度R21は1.5Wとされる。
こうして、時刻t5から予め定められる一定期間Taが経過する予備励起状態の終了時点において、希土類元素の励起状態の高さは、出力されるレーザ光の強度P2に基づいて予め定められる励起状態S21とされる。なお、例えば、図3に示すように出力部50から出力されるレーザ光の強度P2が強度P1よりも弱い場合には、上述のように予備励起光の強度R21は、強度R11よりも弱い強度とされるため、予備励起状態の終了時点における希土類元素の励起状態S21は、励起状態S11よりも低い励起状態とされる。
次に、時刻t5から予め定められる一定期間Taが経過する時刻t6において、制御部60は、励起光源20を出力状態として、出力設定命令に対応する励起光の強度R22をメモリ67から読み出す。そして、励起光源20を制御して、強度R22の励起光を励起光源20から出力させる。さらに制御部60は、時刻t6において、種レーザ光源10を制御して、種レーザ光源10から尖塔値が強度Hで、波長λ1のパルス状の種レーザ光を出力させる。このときの励起光の強度R22と種レーザ光の尖塔値の強度Hは、出力部50から設定された強度P2のレーザ光が出力されるような強度である。具体的には、励起光の強度R12の強度は、例えば5Wとされ、種レーザ光の尖塔値の強度Hは、例えば4Wとされる。
出力状態において励起光源20から強度R22の励起光が出力され、種レーザ光源10から種レーザ光が出力されると、増幅用光ファイバ30の希土類元素は、さらに高い励起状態とされながら誘導放出を起こして、種レーザ光の強度を増幅させる。そして、出力部50からは増幅されたパルス状のレーザ光が出力される。
ただし、時刻t6を経過して間もない時点においては、出力部50から出力されるレーザ光の強度は、出力設定部63において設定した強度P2には達しない。そして、時刻t6から一定の期間Tbが経過する時刻t7になると、希土類元素の励起状態がR22とされる。こうして、出力部50からは、出力設定部63で設定した強度P2のレーザ光が出力され、レーザ光の出力が安定する。この時刻t6から時刻t7の期間が、出力部50から出力されるレーザ光の立ち上がり期間となる。
なお、予備励起状態において、予め定められる一定の期間Ta(t5〜t6)だけ強度R21の予備励起光が出力されると、希土類元素は出力設定部63で設定したレーザ光の強度P2に基づく所定の励起状態S21とされる。この所定の励起状態S21は、出力状態において出力設定部63で出力される強度P2のレーザ光を出力するために、励起光源20から強度R22の励起光を出力され、種レーザ光源10から尖塔値が強度Hである種レーザ光が出力されるとき、一定期間Tbでレーザ光が立ち上がる様な励起状態である。そして、予備励起状態における励起光の強度R21は、予備励起状態が終了する時点t6において、希土類元素が所定の励起状態をされる強度である。つまり、予備励起光の強度R21は、時刻t6〜時刻t7における立ち上がり期間Tbが、時刻t2〜時刻t3における立ち上がり期間と同じ長さとなる様に、出力設定部70で設定されるレーザ光の強度P2に基づいて設定される。
このような予備励起光の強度R21は、強度R11と同様に、出力状態において、種レーザ光と強度R22の励起光とが増幅用光ファイバ30に入力されたときに、立ち上がり期間がTbとなるように事前に求められている。
次に時刻t8において、出力命令部65から出力命令が入力されなくなると、制御部60は、種レーザ光源10からのレーザ光の出力と、励起光源20からの励起光の出力とを停止させる。このため、出力部50から出力されるレーザ光が停止される。
本実施形態におけるファイバレーザ装置100によれば、出力命令部65から出力命令が制御部60に入力されると、制御部60は、予備励起状態において、種レーザ光が出力されないように種レーザ光源10を制御すると共に、増幅用光ファイバ30に励起光が一定期間Ta入力されるように励起光源20を制御する。このため、増幅用光ファイバ30の希土類元素の励起状態は徐々に高くされる。次に制御部60は、種レーザ光源10及び励起光源20を出力状態として、励起光と種レーザ光とが増幅用光ファイバ30に入力されるようにする。このとき予備励起状態において増幅用光ファイバ30の希土類元素の励起状態が高くされているため、予備励起状態から出力状態になった際において、出力部から出力されるレーザ光の立ち上がり期間Tbを短くすることができる。
また、制御部60は、予備励起状態における励起光の強度を、出力設定部63により設定されるレーザ光の強度P1(P2)に基づいた強度R11(R21)とする。つまり、出力状態で出力部50から出力されるレーザ光の強度が強いため、出力状態における励起光の強度が強い場合には、予備励起状態における励起光の強度は強めに設定される。また、出力状態で出力部50から出力されるレーザ光の強度が弱いため、出力状態における励起光の強度が弱い場合には、予備励起状態における励起光の強度は弱めに設定される。このため、予備励起状態の終了時点t2(t6)における希土類元素の励起状態s11(s21)は、出力状態において出力部から出力されるレーザ光の強度が強い場合には、高い励起状態とされ、出力状態において出力部から出力されるレーザ光の強度が弱い場合には、低い励起状態とされる。よって、出力状態において、レーザ光と励起光とが増幅用光ファイバ30に入力されてから、出力部から出力されるレーザ光が立ち上がるまでの期間Tbのばらつきを抑制することができる。
このように、出力命令部65から出力命令が入力されてから、一定期間Taだけ予備励起状態となり、次にばらつきの抑制された期間Tbで出力部50から出力されるレーザ光は立ちあがる。つまり、出力設定部63で設定したレーザ光の強度によらず、出力命令部65に出力命令が入力されてから期間(Ta+Tb)後にレーザ光は安定した出力となる。この期間(Ta+Tb)は、ばらつきが抑制された期間であるため、ファイバレーザ装置100は取り扱いに優れる。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について図4を参照して詳細に説明する。なお、第1実施形態と同一又は同等の構成要素については、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。図4は、本発明の第2実施形態に係るファイバレーザ装置を示す図である。
図4に示すように、ファイバレーザ装置110は、増幅用光ファイバ30と出力部50との間に設けられ、増幅用光ファイバ30から出力される光が入力する波長変換器71と、波長変換器71と出力部50との間に設けられ、波長変換器71から出力される光が入力する波長選択フィルタ73とを備える点で第1実施形態と異なる。
波長変換器71は、誘導ラマン散乱を起こす光ファイバにより構成される。この波長変換器は、入力する光の強度の尖塔値が大きい場合には、この光をより波長の長い光に変換し出力し、入力する光の強度の尖塔値が小さい場合には、この光の波長を変換せずそのまま出力する。具体的には、予備励起状態において、励起光源20から予備励起光が増幅用光ファイバ30に入力されると、増幅用光ファイバ30において自然放出光が発生する。この自然放出光は、増幅用光ファイバ30において増幅されて出力され、波長変換器71に入力される。しかし、このとき増幅用光ファイバ30から出力される光の強度の尖塔値は小さく、波長変換器71は、このとき入力される光を波長変換しないように構成される。一方、出力状態においては、種レーザ光源10から種レーザ光が出力されると共に、励起光源20から励起光が出力され、増幅用光ファイバ30において種レーザ光が増幅されてレーザ光として出力され、波長変換器71に入力される。そして、このとき入力されたレーザ光の強度の尖塔値は大きく、波長変換器71は、このとき入力されるレーザ光を波長変換するように構成される。
また、波長変換器71は、波長変換をする場合、波長がλ1のレーザ光が入力すると、誘導ラマン散乱により波長変換器71に入力した光を波長λ1より長波長の波長λ2の光に変換する。このため波長変換器71からは、入力する光よりも長波長の光が出力される。
このような波長変換用の光ファイバとしては、コア及びクラッドから構成される光ファイバであって、コアに非線形光学定数を上昇させるドーパントが添加される光ファイバが挙げられる。このようなドーパントとしては、ゲルマニウムやリンが挙げられる。例えば、波長変換器71は、コアにゲルマニウムが7〜8質量%添加され、コアの直径が5μmで、長さが20mのシングルモードファイバであり、パルス光の尖塔値の強度が70W以上で波長λ1が1064nmの光が入力すると、波長λ2が1120nmの光が出力され、強度が70Wより低い光が入力すると波長変換されないように構成される。この波長変換器71の波長変換の尖塔値の閾値は、コアの直径、ドーパントの添加濃度、長さ等によって変えることができる。したがって、本実施形態の波長変換器71のコアの直径、ドーパントの添加濃度、長さは、波長1120nmの光の尖塔値が、70Wより大きい場合に波長変換が起こり、それより小さい尖塔値の場合に波長変換が起きないように設定される。逆に、波長変換器71のコアの直径、ドーパントの添加濃度、長さが予め決まっている場合には、予備励起状態では、波長変換が起こらず、出力状態で波長変換が起こるような入力光の尖塔値となるように種レーザ光源10及び励起光源20の出力が設定される。
波長選択フィルタ73は、種レーザ光源10から出力される波長のλ1の種レーザ光と同じ波長帯域の光が波長変換器71を介して入力される場合、波長変換器71において波長変換されて入力する波長λ2の光を透過させ、波長変換器71において波長変換されずに入力する波長λ1の光の透過を抑制する。従って、増幅用光ファイバ30から強度の強い波長λ1のレーザ光が出力され、波長変換器71においてレーザ光が波長λ2に波長変換される場合、波長選択フィルタ73に入力するレーザ光は、波長選択フィルタ73を透過する。一方、増幅用光ファイバ30から強度の弱い波長λ1のレーザ光が出力され、波長変換器71においてレーザ光が波長変換されない場合、波長選択フィルタ73に入力するレーザ光は、波長選択フィルタ73において透過が抑制される。
波長選択フィルタ73は、例えば、誘電体多層膜フィルタやフォトニック・バンド・ギャップ・ファイバ等により構成される。例えば、波長変換器71に波長λ1が1064nmであるレーザ光が入力し、波長変換器71において波長変換されて、波長λ2が1120nmであるレーザ光が波長選択フィルタ73に入力する場合、レーザ光は波長選択フィルタ73を透過する。一方、波長変換器71に波長λ1が1064nmであるレーザ光が入力し、波長変換器71において波長変換されずに1064nmのレーザ光が波長選択フィルタ73に入力する場合、レーザ光は波長選択フィルタ73において、透過が抑制される。
次にファイバレーザ装置110の動作について説明する。
ファイバレーザ装置110においては、予備励起状態において、予め定められる一定の期間Ta(t1〜t2、t5〜t6)だけ予備励起光が出力され、その後、出力状態において、期間Tb(t2〜t3、t6〜t7)において出力部50から出力されるレーザ光が立ち上がる。このときの予備励起光の強度は、出力状態において出力部50から出力されるレーザ光が安定するまでの期間Tbが、出力部50から出力されるレーザ光の強度によらず、一定となるような強度とされる。
上記の予備励起状態において、増幅用光ファイバ30に入力される予備励起光により、増幅用光ファイバ30においては自然放出光が発生する。この自然放出光は、増幅用光ファイバ30において増幅されて出力され、波長変換器71に入力される。しかし、このとき増幅用光ファイバ30から出力される光は、上記のように波長変換器71において波長変換されない。従って、波長変換器71から波長選択フィルタ73に入力される光は、波長選択フィルタにおいて透過が抑制される。このため、予備励起状態においては、出力部50から光が出力されない。
上述のように波長変換器71が、長さが20mのシングルモードファイバで、コアはゲルマニウムが7〜8質量%添加された石英から構成され、コアの直径が5μmである場合、例えば予備励起光の強度R1が2Wであれば、予備励起状態において、増幅用光ファイバ30において増幅されて出力され、波長変換器71に入力される光は、波長変換器71で波長変換されない。
次に、励起光源及び種レーザ光源が出力状態とされる期間(t2〜t4、t6〜t8)においては、励起光源20から強度R12、R22の励起光が出力されると共に、種レーザ光源10から尖塔値が強度Hで波長λ1のパルス状の種レーザ光が出力される。このとき増幅用光ファイバ30から出力されるレーザ光は、上述のように波長変換器71において波長変換される。従って、波長変換器71から波長選択フィルタ73に入力されるレーザ光は、波長選択フィルタを透過して、出力部50から出力される。例えば、上述のように、波長変換器71が、長さが20mのシングルモードファイバで、コアがゲルマニウムが7〜8質量%添加された石英から構成され、コアの直径が5μmである場合、出力状態における励起光の強度R12の強度は6Wとされ、種レーザ光の尖塔値の強度Hは4Wとされると、波長変換器71に入力するレーザ光の尖塔値は185Wとなり、波長変換される。
このようなファイバレーザ装置110によれば、出力状態において、増幅用光ファイバ30で増幅されたレーザ光が出力されると、レーザ光は波長変換器71において波長変換される。波長変換器71において波長変換されたレーザ光は、波長選択フィルタ73に入力され、波長選択フィルタ73を透過して出力部50から出力される。一方、予備励起状態においては、予備励起光により増幅用光ファイバ30の希土類元素が励起状態とされる。ところで、増幅用光ファイバ30は、励起光により励起状態とされる希土類元素の誘導放出により、種レーザ光源10から出力される種レーザ光が増幅されるよう構成される。しかし、予備励起状態においては、種レーザ光が増幅用光ファイバ30に入力されないため、増幅用光ファイバ30からは、励起された希土類元素による自然放出光のみが出力される。この自然放出光は、スペクトルの幅が広く、強度の尖塔値が小さい。そして、波長変換器71は、予備励起状態において、この自然放出光が増幅された光が増幅用光ファイバ30から入力されても、波長変換しないように構成される。このため、増幅用光ファイバ30から自然放出光が増幅された光が出力される場合であっても、波長変換器71から出力され波長選択フィルタ73に入力される波長λ1の光は、波長選択フィルタ73において透過が抑制される。こうして、予備励起状態においては、出力部50から不要な光が出力されることが抑制される。
なお、本実施形態では、第1実施形態と同様に、時刻t4において、制御部60は種レーザ光源10からの種レーザ光の出力と、励起光源20からの励起光の出力とを停止させるものであるが、時刻t4からt6までの間に種レーザ光源10からの種レーザ光の出力と、励起光源20からの励起光の出力するものとしてもよい。ただし、種レーザ光源10からの種レーザ光の出力強度と励起光源20からの励起光の出力強度は、波長変換器71に入力する光が波長変換器71において波長変換が起こる尖塔値より小さい強度とされる。このような種レーザ光源10からの種レーザ光の出力強度と励起光源20からの励起光の出力強度とにすることにより、時刻t4からt6までの間において、出力部50からレーザ光が出力することがない。このように種レーザ光源10及び励起光源20の出力を完全に停止しないことにより、種レーザ光源10及び励起光源20の動作安定性を向上させることができる。
また、本実施形態において、波長変換器71は、誘導ラマン散乱を起こす光ファイバにより構成されるものとしたが、この波長変換器は、入力する光の強度の尖塔値が大きい場合には、この光を異なる波長の光に変換し出力し、入力する光の強度の尖塔値が小さい場合には、この光の波長を変換せずそのまま出力する機能を有するものであれば、光ファイバに限らない。例えば、波長変換器71は、リチウム・トリボレート(LiB)等の第2高調波を発生する非線形光学結晶であってもよい。このような非線形光学結晶は、所定の尖塔値以上の強度の光入力された場合に、第2高調波(波長が1/2の光)を出力する。波長変換器71として、第2高調波を発生する非線形光学結晶を用いた場合には、後段の波長選択フィルタ73は、波長変換器71に入力される光の波長の透過が抑制され、その第2高調波の波長の透過をするフィルタを用いる。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について図5を参照して詳細に説明する。なお、第1実施形態、第2実施形態と同一又は同等の構成要素については、同一の参照符号を付して重複する説明は省略する。本実施形態は、第2実施形態において説明したファイバレーザ装置110を用いたファイバレーザ装置である。
図5は、本発明の第3実施形態に係るファイバレーザ装置110の動作を表すタイミングチャートである。本実施形態のファイバレーザ装置110は、予備励起状態において、励起光源20から予備励起光が出力されると共に、種レーザ光源10から微弱な種レーザ光が出力される点において、第2実施形態のファイバレーザ装置110と異なる。
具体的には、図5に示すように、時刻t1(t5)において、出力命令部65から出力命令が入力されると、制御部60は、予備励起状態として、記憶している出力設定命令に基づいた予備励起光の強度R11(R21)をメモリ67から読み出す。そして、制御部60は、励起光源20から、予め定められる一定期間Taだけ、メモリ67から読み出した強度R11の予備励起光を出力させる。さらに、制御部60は、種レーザ光源10を制御して、予め定められる一定の強度Lの微弱な種レーザ光を出力させる。この微弱な種レーザ光は連続光である。
励起光源20から出力された励起光、及び、種レーザ光源から出力された微弱な種レーザ光は、増幅用光ファイバ30に入力される。そして、増幅用光ファイバ30において、微弱な種レーザ光による希土類元素の誘導放出により、この微弱な種レーザ光が増幅されて増幅用光ファイバ30から出力され、波長変換器71に入力される。しかし、種レーザ光が増幅用光ファイバ30において増幅されて出力される光が波長変換器71に入力されても、波長変換器71は、入力した光を波長変換しないよう構成される。従って、波長変換器71から波長選択フィルタ73に入力される光は、波長選択フィルタにおいて透過が抑制される。このため、予備励起状態においては、出力部50から光が出力されない。例えば、上述のように、波長変換器71が、長さが20mのシングルモードファイバで、コアがゲルマニウムが7〜8質量%添加された石英から構成され、コアの直径が5μmである場合、予備励起状態における微弱な種レーザ光の強度Lは1Wとされ、予備励起光の強度が2Wであれば、波長変換器71において波長変換されないように構成される。
本実施形態におけるファイバレーザ装置110によれば、予備励起状態において、増幅用光ファイバ30に種レーザ光が入力されるため、励起光による希土類元素の励起と種レーザ光による希土類元素の緩和とのバランスを取ることができる。従って、希土類元素が不安定になるほど励起されてしまうことを抑制でき、予備励起状態において、意図しないレーザ発振を抑制することができる。
さらに、出力状態においては、増幅用光ファイバ30から増幅されたレーザ光が出力されると、波長変換器71において波長変換される。波長変換されたレーザ光は、波長選択フィルタ73に入力され、波長選択フィルタ73を透過して出力部50から出力される。一方、予備励起状態においては、増幅用光ファイバ30から誘導放出光が放出され、微弱な種レーザ光が増幅されて波長λ1のレーザ光が出力される。しかし、予備励起状態において、増幅用光ファイバ30から出力されるレーザ光は、波長変換器71において波長変換されない。よって、波長変換器71から波長選択フィルタ73に入力されるレーザ光は、波長選択フィルタ73において透過が抑制される。このため、予備励起状態において、不要なレーザ光の出力が抑制できる。
以上、本発明について、第1、第2、第3実施形態を例に説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
たとえば、第1実施形態において、予備励起状態では、制御部60は、種レーザ光源10からレーザ光が出力されないよう制御するものとしたが、本発明はこれに限らない。例えば、予備励起状態において、制御部60は、種レーザ光源10から微弱な種レーザ光が出力されるように制御しても良い。このように構成することで、予備励起状態において、増幅用光ファイバ30に種レーザ光が入力されるため、励起光による希土類元素の励起と種レーザ光による希土類元素の緩和とのバランスを取ることができる。従って、希土類元素が不安定になるほど励起されてしまうことを抑制でき、予備励起状態において、意図しないレーザ発振を抑制することができる。
この場合、予備励起状態で励起光と微弱な種レーザ光が増幅用光ファイバ30に入力されるため、増幅用光ファイバ30からは、微弱な種レーザ光が増幅されたレーザ光が出力される。しかし、増幅用光ファイバ30に入力される微弱な種レーザ光の強度は非常に弱いため、増幅用光ファイバ30から出力されるレーザ光も弱く、ファイバレーザ装置100を扱う上で問題とはならない。
また、第1、第2、第3実施形態において、種レーザ光源10は、ファブリペロー型のレーザ出力装置が用いられたが、ファイバリング型のレーザ出力装置でも良い。さらに出力状態において、種レーザ光源10から出力される種レーザ光は、パルス光とされたが、連続光でも良い。
また、第1、第2、第3実施形態において、予備励起状態において、励起光源20から出力される励起光の強度は、出力状態において励起光源20から出力される励起光よりも弱い強度とされたが、本発明はこれに限らない。例えば、レーザ光の立ち上がり期間Tbにばらつきが生じない範囲において、予備励起状態において励起光源20から出力される励起光と、出力状態において励起光源20から出力される励起光とが、同じ強度の励起光であってもよい。この場合、出力準備状態と出力状態とで、励起光源21を同じ状態とすればよいため、制御部の負荷を軽くすることができる。
さらに、増幅用光ファイバ30は、レーザ光をシングルモード光として伝播するものとしたが、数モードの光を伝播できる構成であっても良い。
また、出力設定部63は、出力設定命令を制御部60に入力する構成であればよく、出力設定命令がファイバレーザ装置の外部において生成され、出力設定部63を介して、制御部60に入力されるものであっても良い。
同様に、出力命令部65は、出力命令を制御部60に入力する構成であればよく、出力命令がファイバレーザ装置の外部において生成され、出力命令部65を介して、制御部60に入力されるものであっても良い。
また、励起光源20から出力される励起光の制御方法は、例えば、次のようにして行うことができる。図6は、制御部60における励起光源20の制御を行うブロックのブロック図である。この励起光源20の制御を行うブロックにおいて、マルチプレクサ90には、出力設定部63の設定に基づいた電圧が、電圧Vaとして入力すると共に、抵抗r1、r2により分圧Vbが入力する。さらにマルチプレクサ90には、制御部60から電圧Va、Vbを選択する選択信号A、Bが入力される。なお、分圧Vbは、
Vb=Va×(r1/(r1+r2))
となる。
このマルチプレクサ90の出力は、励起光源20のLD駆動回路91に接続されており、マルチプレクサ90の出力電圧に応じて、LD駆動回路91はLD駆動電流を出力し、この駆動電流により励起光源20のLDが出力する励起光強度が変化する。
そして、制御部60からマルチプレクサに選択信号が入力されると、この信号の論理に応じてマルチプレクサ90は、出力電圧をVa、Vb、0Vのいずれかを出力する。なお、電圧Vbは、抵抗r1とr2の値を変えることで適宜設定できる。
次に、この様な励起光源20の制御を行うブロックの動作について説明する。図7は、出力命令部65からの出力命令と、制御部60がマルチプレクサ90に入力する選択信号A、Bと、マルチプレクサ90が出力する電圧との関係を示すタイミングチャートである。
図7において、出力命令部65から制御部60に出力命令が入力されるまで(時刻t1まで)は、制御部60は、選択信号A、Bを共に出力せず、マルチプレクサ90には選択信号が入力されない。従って、マルチプレクサ90からの出力電圧は、0Vとなり、励起光源20のLDからは励起光が出力されない。
次に、時刻t1において、出力命令部65から制御部60に出力命令が入力されると、制御部60は、マルチプレクサ90に一定期間Ta(時刻t1〜t2)だけ、選択信号Bのみを入力する。従って、マルチプレクサ90からは、電圧Vbが出力される。こうして電圧Vbが入力されたLD駆動回路91は、励起光源20のLDから予備励起光を出力させる。
次に、時刻t1から一定期間が経過する時刻t2において、制御部60は、マルチプレクサ90に選択信号Aのみを入力する。従って、マルチプレクサ90からは、電圧Vbよりも高い電圧Vaが出力される。こうして電圧Vaが入力されたLD駆動回路91は、励起光源20のLDから強度の強い励起光を出力させる。
本発明によれば、出力されるレーザ光の立ち上がり期間短くしつつ、出力されるレーザ光の立ち上がり期間のばらつきを抑制することができるファイバレーザ装置が提供される。
10・・・レーザ光源
11・・・励起光源
12・・・第1FBG
13・・・希土類添加ファイバ
14・・・AOM
15・・・第2FBG
20・・・励起光源
30・・・増幅用光ファイバ
40・・・光カプラ
50・・・出力部
60・・・制御部
63・・・出力設定部
65・・・出力命令部
67・・・メモリ
71・・・波長変換器
73・・・波長選択フィルタ

Claims (6)

  1. 種レーザ光を出力する種レーザ光源と、
    励起光を出力する励起光源と、
    前記種レーザ光と前記励起光とが入力され、前記励起光により励起状態とされる希土類元素が添加され、前記種レーザ光を増幅してレーザ光として出力する増幅用光ファイバと、
    前記増幅用光ファイバから出力される前記レーザ光を出力する出力部と、
    少なくとも前記種レーザ光源と前記励起光源とを制御する制御部と、
    前記出力部から出力される前記レーザ光の強度を設定する出力設定命令を前記制御部に入力する出力設定部と、
    前記出力部から前記レーザ光を出力させる出力命令を前記制御部に入力する出力命令部と、
    を備え、
    前記出力命令が前記制御部に入力されるとき、前記制御部は、前記種レーザ光源及び前記励起光源が予備励起状態から出力状態になるように、前記種レーザ光源及び前記励起光源を制御し、
    前記予備励起状態においては、前記種レーザ光が前記種レーザ光源から出力されず、前記出力設定部により設定されるレーザ光の強度に基づいた所定の強度の励起光が前記励起光源から一定期間出力され、
    前記出力状態においては、前記出力設定部により設定される強度のレーザ光が前記出力部から出力されるように、前記種レーザ光が前記種レーザ光源から出力されると共に前記励起光が前記励起光源から出力される
    ことを特徴とするファイバレーザ装置。
  2. 前記増幅用光ファイバと前記出力部との間に設けられ、前記予備励起状態における前記励起光により前記増幅用光ファイバで発生して出力される光を波長変換せず、前記出力状態における前記種レーザ光及び前記励起光により前記増幅用光ファイバから出力される前記レーザ光を波長変換する波長変換器と、
    前記波長変換器と前記出力部との間に設けられ、前記種レーザ光と同じ波長帯域の光が前記波長変換器に入力されるとき、前記波長変換器において波長変換される光を透過し、前記波長変換器において波長変換されない光の透過が抑制される波長選択フィルタと、
    を更に備える
    ことを特徴とする請求項1に記載のファイバレーザ装置。
  3. 種レーザ光を出力する種レーザ光源と、
    励起光を出力する励起光源と、
    前記種レーザ光と前記励起光とが入力され、前記励起光により励起状態とされる希土類元素が添加され、前記種レーザ光を増幅してレーザ光として出力する増幅用光ファイバと、
    前記増幅用光ファイバから出力される前記レーザ光を出力する出力部と、
    少なくとも前記種レーザ光源と前記励起光源とを制御する制御部と、
    前記出力部から出力される前記レーザ光の強度を設定する出力設定命令を前記制御部に入力する出力設定部と、
    前記出力部から前記レーザ光を出力させる出力命令を前記制御部に入力する出力命令部と、
    を備え、
    前記出力命令が前記制御部に入力されるとき、前記制御部は、前記種レーザ光源及び前記励起光源が予備励起状態から出力状態になるように、前記種レーザ光源及び前記励起光源を制御し、
    予備励起状態においては、一定期間、微弱な強度の種レーザ光が前記種レーザ光源から出力されると共に、前記出力設定部により設定されるレーザ光の強度に基づいた所定の強度の励起光が前記励起光源から出力され、
    前記出力状態においては、前記出力設定部により設定される強度のレーザ光が前記出力部から出力されるように、前記種レーザ光が前記種レーザ光源から出力されると共に前記励起光が前記励起光源から出力される
    ことを特徴とするファイバレーザ装置。
  4. 前記出力状態における前記種レーザ光源から出力される前記種レーザ光はパルス光であり、前記予備励起状態における前記種レーザ光源から出力される前記種レーザ光は連続光であることを特徴とする請求項3に記載のファイバレーザ装置。
  5. 前記増幅用光ファイバと前記出力部との間に設けられ、前記予備励起状態における前記種レーザ光及び前記励起光により前記増幅用光ファイバから出力される光を波長変換せず、前記出力状態における前記種レーザ光及び前記励起光により前記増幅用光ファイバから出力される前記レーザ光を波長変換する波長変換器と、
    前記波長変換器と前記出力部との間に設けられ、前記種レーザ光と同じ波長帯域の光が前記波長変換器に入力されるとき、前記波長変換器において波長変換される光を透過し、前記波長変換器において波長変換されない光の透過が抑制される波長選択フィルタと、
    を更に備える
    こと特徴とする請求項3または4に記載のファイバレーザ装置。
  6. 前記予備励起状態における前記励起光の強度は、前記出力状態における前記励起光の強度以下とされることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のファイバレーザ装置。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012253099A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd レーザ装置
JP2012253098A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd レーザ装置
JP2012253100A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd レーザ装置
JP2012253103A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd レーザ装置
WO2013012016A1 (ja) * 2011-07-20 2013-01-24 株式会社フジクラ 高パワーパルス光発生装置
CN103078244A (zh) * 2011-09-06 2013-05-01 株式会社藤仓 高功率脉冲光产生装置
JP2013128948A (ja) * 2011-12-21 2013-07-04 Nippon Sharyo Seizo Kaisha Ltd レーザ加工装置
JP2014053500A (ja) * 2012-09-07 2014-03-20 Furukawa Electric Co Ltd:The レーザ装置および光増幅方法
JP2016180844A (ja) * 2015-03-24 2016-10-13 株式会社フジクラ ファイバレーザ装置
JP2017535951A (ja) * 2014-10-31 2017-11-30 レイセオン カンパニー 高ピークパワーのパルスバースト又は他の時間変化するレーザー出力波形の生成をサポートするようポンプパワーを時間的に凝縮する方法及び装置
JP2018064004A (ja) * 2016-10-11 2018-04-19 株式会社フジクラ レーザ装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011216707A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Fujikura Ltd 光源駆動装置およびファイバレーザー装置
US9535273B2 (en) * 2011-07-21 2017-01-03 Photon Dynamics, Inc. Apparatus for viewing through optical thin film color filters and their overlaps
WO2013111271A1 (ja) 2012-01-24 2013-08-01 株式会社フジクラ ファイバレーザ装置
WO2014105653A2 (en) 2012-12-31 2014-07-03 Nlight Photonics Corporation Pulsed bias current for gain switched semiconductor lasers for amplified spontaneous emission reduction
CN109524877A (zh) * 2018-12-26 2019-03-26 深圳市杰普特光电股份有限公司 控制装置、控制方法及激光设备
CN114144711B (zh) * 2019-07-19 2024-06-14 公益财团法人激光技术综合研究所 发光装置和光纤
US11309678B2 (en) * 2019-10-09 2022-04-19 Molex, Llc Spectrum and power tunable ASE light source
JP7390674B2 (ja) * 2020-04-24 2023-12-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 投影システム
WO2021215432A1 (ja) 2020-04-24 2021-10-28 パナソニックIpマネジメント株式会社 発光システム
TWI807570B (zh) * 2022-01-03 2023-07-01 美康生物科技有限公司 皮秒雷射系統的調校方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010115698A (ja) * 2008-11-14 2010-05-27 Miyachi Technos Corp ファイバレーザ加工装置及びファイバレーザ加工方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5867305A (en) * 1996-01-19 1999-02-02 Sdl, Inc. Optical amplifier with high energy levels systems providing high peak powers
JP4107532B2 (ja) * 1999-01-12 2008-06-25 ミヤチテクノス株式会社 レーザ装置
JP3411852B2 (ja) * 1999-05-31 2003-06-03 サンクス株式会社 レーザマーキング装置
JP4445217B2 (ja) * 2003-03-14 2010-04-07 サンクス株式会社 レーザマーキング装置
US7940453B2 (en) * 2006-08-07 2011-05-10 Pyrophotonics Lasers Inc. Fiber amplifiers and fiber lasers with reduced out-of-band gain
JP2008091773A (ja) * 2006-10-04 2008-04-17 Fujikura Ltd ファイバレーザ及びファイバレーザの動作方法
JP5340545B2 (ja) * 2007-01-23 2013-11-13 株式会社フジクラ パルスレーザ装置及びそのパルス出力制御方法
US8009705B2 (en) * 2007-07-05 2011-08-30 Mobius Photonics, Inc. Fiber MOPA system without stimulated brillouin scattering
US20090103576A1 (en) * 2007-10-17 2009-04-23 Martin Achtenhagen System and Method of Providing Second Harmonic Generation (SHG) Light in a Single Pass
JP4647696B2 (ja) * 2009-07-07 2011-03-09 株式会社フジクラ ファイバレーザ装置
US8160113B2 (en) * 2009-07-21 2012-04-17 Mobius Photonics, Inc. Tailored pulse burst

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010115698A (ja) * 2008-11-14 2010-05-27 Miyachi Technos Corp ファイバレーザ加工装置及びファイバレーザ加工方法

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012253099A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd レーザ装置
JP2012253098A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd レーザ装置
JP2012253100A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd レーザ装置
JP2012253103A (ja) * 2011-05-31 2012-12-20 Panasonic Industrial Devices Sunx Co Ltd レーザ装置
CN103650262A (zh) * 2011-07-20 2014-03-19 株式会社藤仓 高功率脉冲光产生装置
JP2013026377A (ja) * 2011-07-20 2013-02-04 Fujikura Ltd 高パワーパルス光発生装置
WO2013012016A1 (ja) * 2011-07-20 2013-01-24 株式会社フジクラ 高パワーパルス光発生装置
EP2736129A4 (en) * 2011-07-20 2015-03-11 Fujikura Ltd PULSED HIGH-PERFORMANCE LIGHT GENERATOR
US9048622B2 (en) 2011-07-20 2015-06-02 Fujikura Ltd. High power pulsed light generation device
CN103078244A (zh) * 2011-09-06 2013-05-01 株式会社藤仓 高功率脉冲光产生装置
US8867123B2 (en) 2011-09-06 2014-10-21 Fujikura Ltd. High-power pulsed light generator
JP2013128948A (ja) * 2011-12-21 2013-07-04 Nippon Sharyo Seizo Kaisha Ltd レーザ加工装置
JP2014053500A (ja) * 2012-09-07 2014-03-20 Furukawa Electric Co Ltd:The レーザ装置および光増幅方法
JP2017535951A (ja) * 2014-10-31 2017-11-30 レイセオン カンパニー 高ピークパワーのパルスバースト又は他の時間変化するレーザー出力波形の生成をサポートするようポンプパワーを時間的に凝縮する方法及び装置
JP2016180844A (ja) * 2015-03-24 2016-10-13 株式会社フジクラ ファイバレーザ装置
JP2018064004A (ja) * 2016-10-11 2018-04-19 株式会社フジクラ レーザ装置
WO2018070412A1 (ja) * 2016-10-11 2018-04-19 株式会社フジクラ レーザ装置

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