JP2011096616A - プラズマ表面処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】大気圧近傍の圧力下において、電圧印加電極6と接地電極7との間に処理ガスを導入しつつ高周波電界を印加することにより得られる放電プラズマを、放電空間Gの外に配置された被処理基板wに導いて表面処理を行うプラズマ表面処理装置において、電圧印加電極6を円筒状に一体成形された固体誘電体62の内部に金属電極61を挿入する構造にし、接地電極7を、電圧印加電極6の外周面に対応する断面円弧状の電極対向面7aを有する一対の金属電極71,71で構成し、これら一対の金属電極71,71の電極対向面7a,7aがそれぞれ電圧印加電極6の外周面と平行に対面するように水平に配置する。
【選択図】 図2
Description
実施形態1
本発明に係るプラズマ表面処理装置は、大気圧近傍の圧力下において、電圧印加電極と接地電極との間に処理ガスを導入しつつ高周波電界を印加することにより得られる放電プラズマ(プラズマ活性化した処理ガス)を、放電空間外に配置された被処理体に導いて被処理体の表面処理を行うプラズマ表面処理装置である。
次に本発明の他の実施形態について図4に基づいて説明する。この実施形態に示すプラズマ表面処理装置は、上述した実施形態1に係るプラズマ表面処理装置1における接地電極7の構成を改変している。具体的には、実施形態1では接地電極7の電極対向面7aに耐プラズマ性の向上を図るための保護部材73を装着する場合を示したが、この実施形態では保護部材73の装着に代えて、金属電極71の電極対向面7aに陽極酸化処理を施している。
2 コンベア
3 装置カバー
4 リアクタ
5 装置基台
6 電圧印加電極
61,71 金属電極
62 固体誘電体
63 電極本体部
64 電極蓋部
65 冷却液配管
7 接地電極
7a 電極対向面
72 冷却液流路
74 電極保持部
75 処理ガスの導入口
76 処理ガスの吹出口
8 ガス導入ブロック
81 ブロック本体
82 ガス拡散板
83 ガス導入路
84 ガス導入空間
G 放電空間
w 被処理基板(被処理体)
Claims (9)
- 大気圧近傍の圧力下において、電圧印加電極と接地電極との間に処理ガスを導入しつつ高周波電界を印加することにより得られる放電プラズマを、放電空間外に配置された被処理体に導いて前記被処理体の表面処理を行うプラズマ表面処理装置であって、
前記電圧印加電極は、筒状に一体成形された固体誘電体に金属電極を挿入してなる構造からなり、
前記接地電極は、前記電圧印加電極の外周面に対応する形状の電極対向面を有する一対の金属電極で構成され、これら一対の金属電極の電極対向面がそれぞれ前記電圧印加電極の外周面と平行に対面するように配置されていることを特徴とするプラズマ表面処理装置。 - 前記電圧印加電極は円筒状の外周面を有し、前記接地電極の電極対向面は前記電圧印加電極の円筒状外周面の軸方向に沿って延びる断面円弧状の形態とされ、この電極対向面が前記電圧印加電極を前後から挟み込むように配置されることにより、前記電圧印加電極の頂上側に処理ガスの導入口が形成されるとともに、電圧印加電極の底部側に処理ガスの吹出口が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記電圧印加電極を構成する固体誘電体としてセラミックス製の円筒パイプが用いられていることを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記電圧印加電極を構成する金属電極として金属製の円筒パイプが用いられていることを特徴とする請求項3に記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記電圧印加電極を構成する筒状の固体誘電体と該固体誘電体内に挿入される金属電極との間には、その隙間を埋める充填材が充填されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記接地電極を構成する金属電極としてアルミニウム製の電極が用いられ、前記電極対向面は陽極酸化処理が施されていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記接地電極を構成する金属電極としてアルミニウム製の電極が用いられ、前記電極対向面には耐プラズマ性を有する金属製の部材が装着されていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記接地電極を構成する金属電極としてアルミニウム製の電極が用いられ、前記電極対向面にはセラミックス製の部材が装着されていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のプラズマ表面処理装置。
- 前記接地電極を構成する金属電極の前記電極対向面は切削加工によって形成されていることを特徴とする請求項6から8のいずれかに記載のプラズマ表面処理装置。
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