JP2011085869A - 光学材料および多層回折光学素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】可視光域の吸収が少なく、かつ２次分散の小さい光学特性を有する光学材料を提供する。
【解決手段】少なくともインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子と、光学樹脂を含有する樹脂組成物の硬化物からなる光学材料であって、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０の関係を満足する値を示す。ただし、ｎ：屈折率、λ：光の波長、ｄｎ／ｄλ：光の波長に対する屈折率の１次微分、ｄ２ｎ／ｄλ２：光の波長に対する屈折率の２次微分を表す。）を有する光学材料。前記インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の平均粒径が６０ｎｍ以下で、インジウムと錫の合計に対する錫の原子の割合が３％以上１５％以下である。
【選択図】図１
【解決手段】少なくともインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子と、光学樹脂を含有する樹脂組成物の硬化物からなる光学材料であって、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０の関係を満足する値を示す。ただし、ｎ：屈折率、λ：光の波長、ｄｎ／ｄλ：光の波長に対する屈折率の１次微分、ｄ２ｎ／ｄλ２：光の波長に対する屈折率の２次微分を表す。）を有する光学材料。前記インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の平均粒径が６０ｎｍ以下で、インジウムと錫の合計に対する錫の原子の割合が３％以上１５％以下である。
【選択図】図１
Description
本発明は、ＩＴＯ微粒子を分散した光学材料およびその光学材料を用いた多層回折光学素子に関するものである。
従来から光の屈折を利用した屈折光学系では、分散特性の異なる硝材からなるレンズを組み合わせることによって色収差を減らしている。例えば、望遠鏡等の対物レンズでは分散の小さい硝材を正レンズ、分散の大きい硝材を負レンズとし、これらを組み合わせて用いることで軸上に現れる色収差を補正している。しかしながら、レンズの構成や枚数が制限される場合や、使用される硝材が限られている場合などでは、色収差を十分に補正することが困難な場合があった。
非特許文献１には、屈折面を有する屈折光学素子と回折格子を有する回折光学素子とを組み合わせて用いることで、少ないレンズの枚数で色収差を抑制することが開示されている。
これは、光学素子としての屈折面と回折面とでは、ある基準波長の光線に対する色収差の発生する方向が、逆になるという物理現象を利用したものである。また回折光学素子に連続して形成された回折格子の周期を変化させることで、非球面レンズと同等の特性を発現することができる。しかしながら、回折光学素子に入射した１本の光線は、回折作用により各次数の複数の光に分かれる。この時、設計次数以外の回折光は、設計次数の光線とは別な所に結像してしまいフレアの発生要因となる。
特許文献１には、各光学素子の屈折率分散と、光学素子の境界面に形成される格子の形状を最適化することで、広波長範囲で高い回折効率を実現することが開示されている。使用波長領域の光束を特定の次数（以後、設計次数と言う）に集中させることで、それ以外の回折次数の回折光の強度を低く抑え、フレアの発生を防止している。
また、特許文献１、特許文献２には、広い波長範囲で高い回折効率を有する構成を得るために、相対的に屈折率分散の低い材料で形成された回折光学素子と、屈折率分散の高い材料で形成された回折光学素子を組み合わせて使用することも開示されている。
すなわち、屈折率分散の高い材料と低い材料との屈折率分散の差が大きいほど、構成される光学素子の回折効率は高くなり、光学素子の画角は広くなる。従って、色収差を高精度に補正するには、より屈折率分散の高い（アッベ数が小さい）材料及びより屈折率分散の低い（アッベ数が大きい）材料を使用する事が必要である。
特許文献３には、屈折率（ｎｄ）とアッベ数（νｄ）の関係が、ｎｄ＞−６．６６７×１０−３νｄ＋１．７０であり、屈折率の２次分散（θｇ，Ｆ）とアッベ数（νｄ）と関係が、θｇ，Ｆ≦−２νｄ×１０−３＋０．５９である光学材料が開示されている。これらの式を満足することで、可視領域全域における回折効率を向上させることができる。
また、特許文献３における光学材料は、屈折率分散が高く、２次分散特性の低い性質を示す透明導電性金属酸化物を、バインダー樹脂に微粒子として混合・分散させた複合材料である。また透明導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の透明導電性金属酸化物が開示されている。
また、特許文献３には、高屈折高分散の材料として樹脂に無機微粒子を分散させた例が示されている。具体的には、高屈折高分散材料として有機樹脂中にＩＴＯ微粒子を分散した材料で、ｄ線の屈折率ｎｄ＝１．６０６から１．６４８、アッべ数νｄ＝１３．３から２２．７の光硬化樹脂材料が記載されている。またこの時に低屈折低分散材料として、ｄ線の屈折率ｎｄ＝１．５１３、アッべ数νｄ＝５１．０の光硬化樹脂材料が記載されている。
また、特許文献３の実施例には、高屈折高分散の材料からなる回折光学素子と、低屈折低分散の材料からなる回折光学素子とを、空間を空けて対向して配置した積層型回折光学素子も記載されている。
Ａ．Ｄ．Ｋａｔｈｍａｎ ａｎｄ Ｓ．Ｋ．Ｐｉｔａｌｏ、「Ｂｉｎａｒｙ Ｏｐｔｉｃｓ ｉｎ Ｌｅｎｓ Ｄｅｓｉｇｎ」、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｌｅｎｓ Ｄｅｓｉｇｎ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ、１９９０、ＳＰＩＥ Ｖｏｌ．１３５４、ｐ２９７から３０９
通常、光学樹脂、光学ガラス、ＴｉＯ２等の高屈折率なナノ微粒子を分散した光学材料は、通常、屈折率の分散が大きくなる（指標であるアッペ数νｄは定義上小さくなる。）につれて、２次分散（θｇＦ）は大きくなる。しかし、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子を分散した材料は他の金属酸化物と異なり、屈折率分散（アッペ数νｄは小）が大きく、かつ２次分散（θｇＦ）が小さい特性を示す。このことは特許文献３で確認されている。この２次分散（θｇＦ）が小さい特性を用いることにより、多層回折光学素子において、可視光全域で、９９パーセント以上の効率で集光することが可能となり、レンズ系で生じた色収差補正することが可能となる。以後、多層回折光学素子等の色収差補正に用いる光学材料を色収差補正光学材料とする。しかし、そのＩＴＯの光学特性はドーピング剤であるＳｎ濃度および微粒子の製造過程における還元状態により、大きく変化する。その為、光学特性を制御することが難しい。また、ＩＴＯ微粒子は特性を得る為に過剰に還元すると、得られる２次分散が小さいなる以上に吸収が増大するといった課題がある。
本発明は、この様な背景技術に鑑みてなされたものであり、可視光域の吸収が少なく、かつ２次分散が小さい光学特性を有する光学材料を提供するものである。
また、本発明は、前記光学材料を用いることにより、可視域全域の回折効率が高く、かつ光吸収を減少させることが可能な多層回折光学素子を提供するものである。
また、本発明は、前記光学材料を用いることにより、可視域全域の回折効率が高く、かつ光吸収を減少させることが可能な多層回折光学素子を提供するものである。
上記の課題を解決する光学材料は、少なくともインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子と、光学樹脂を含有する樹脂組成物の硬化物からなる光学材料であって、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０の関係を満足する値を示す。ただし、ｎ：屈折率、λ：光の波長、ｄｎ／ｄλ：光の波長に対する屈折率の１次微分、ｄ２ｎ／ｄλ２：光の波長に対する屈折率の２次微分を表す。）を有することを特徴とする。
上記の課題を解決する多層回折光学素子は、透明基板の表面に、少なくとも表面に回折格子形状を有する光学材料からなる第１の層と、少なくとも片側に回折格子形状を有する上記の光学材料からなる第２の層とが互いの回折格子形状が対向するように積層されており、前記第１の層の光学材料が、前記第２の層の光学材料よりも高屈折低分散であることを特徴とする。
本発明によれば、可視光域の吸収が少なく、かつ２次分散が小さい光学特性を有する光学材料を提供することができる。
また、本発明は、前記光学材料を用いることにより、可視域全域の回折効率が高く、かつ光吸収を減少させることが可能な多層回折光学素子を提供することができる。
また、本発明は、前記光学材料を用いることにより、可視域全域の回折効率が高く、かつ光吸収を減少させることが可能な多層回折光学素子を提供することができる。
以下、本発明の好適な実施の形態について説明する。
本発明に係る光学材料は、少なくともインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子と、光学樹脂を含有する樹脂組成物の硬化物からなる光学材料であって、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０の関係を満足する値を示す。ただし、ｎ：屈折率、λ：光の波長、ｄｎ／ｄλ：光の波長に対する屈折率の１次微分、ｄ２ｎ／ｄλ２：光の波長に対する屈折率の２次微分を表す。）を有することを特徴とする。
本発明に係る光学材料は、少なくともインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子と、光学樹脂を含有する樹脂組成物の硬化物からなる光学材料であって、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０の関係を満足する値を示す。ただし、ｎ：屈折率、λ：光の波長、ｄｎ／ｄλ：光の波長に対する屈折率の１次微分、ｄ２ｎ／ｄλ２：光の波長に対する屈折率の２次微分を表す。）を有することを特徴とする。
本発明に係る光学材料は、少なくともインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子、光学樹脂、分散剤等を含有する樹脂組成物の硬化物から構成される。
前記インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の平均粒径は６０ｎｍ以下、好ましくは３ｎｍ以上６０ｎｍ以下が望ましい。平均粒径が６０ｎｍより大きいと光散乱が大きくなる。
前記インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子は、インジウムと錫の合計に対する錫の原子の割合が３％以上１５％以下、好ましくは５％以上１０％以下である事が望ましい。錫原子の割合が３％未満の場合、微粒子の還元を大きくしても光学材料の屈折率を１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）にすることができない。錫原子の割合が１５％をこえる場合、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の結晶化度が低下し、光学材料の屈折率を１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）にした場合、可視域での吸収が増大する。
前記インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子は、インジウムと錫の合計に対する錫の原子の割合が３％以上１５％以下、好ましくは５％以上１０％以下である事が望ましい。錫原子の割合が３％未満の場合、微粒子の還元を大きくしても光学材料の屈折率を１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）にすることができない。錫原子の割合が１５％をこえる場合、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の結晶化度が低下し、光学材料の屈折率を１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）にした場合、可視域での吸収が増大する。
本発明においては、光学材料に含有されるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子は、還元雰囲気中で還元処理して還元割合を調整したものを用いるのが好ましい。
還元雰囲気を調整するには、還元するための温度、還元気体濃度、時間等のパラメーターがあり、このパラメーターの少なくとも一つを調整する事が好ましい。このパラメーターは組合せてもよい。同一条件で製造された未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子は、還元条件を同一にすれば、それを光学樹脂に混合した光学材料において、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）を誤差±１０ｎｍの範囲に納める事が可能である。
還元雰囲気を調整するには、還元するための温度、還元気体濃度、時間等のパラメーターがあり、このパラメーターの少なくとも一つを調整する事が好ましい。このパラメーターは組合せてもよい。同一条件で製造された未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子は、還元条件を同一にすれば、それを光学樹脂に混合した光学材料において、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）を誤差±１０ｎｍの範囲に納める事が可能である。
しかし、製造条件は同一でも、別の製造ロット（同一の装置で別の日に作製した場合など）の場合、完全に同じ特性の未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子を製造することは難しい。その為、未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子において、製造ロットが異なれば、同一の条件還元条件で還元しても、それを光学樹脂に混合した光学材料において、屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）が場合によっては５０ｎｍ以上の違いが生じ、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲から逸脱することがある。その為、最初に、同一条件で製造された未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の一部を還元し、光学樹脂との混合物である光学材料において屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長を測定し、その値を元に還元割合を調整し、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲の任意の波長へ±１０ｎｍ誤差であわせることが可能である。
本発明の光学材料に含有されるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の含有量は、体積分率で５％以上２５％以下、好ましくは７％以上２０％以下であることが望ましい。体積分率が５％未満の場合、アッペ数は３０以上及び２次分散（θｇＦ）は０．４８以上と大きくなり、光学材料としての光学特性は小さくなる。体積分率が２５％をこえる場合、光散乱が大きくなり、光学材料として用いる事ができない。
本発明に用いられる光学樹脂は、少なくともエネルギー硬化するモノマーまたはオリゴマーからなる樹脂である。光学素子としてガラスレンズ表面への形状を与える事を考慮した場合、前記エネルギー硬化が紫外線硬化であることが好ましい。
光学樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
本発明に用いられる光学樹脂は、特に限定しないが、設計する光学素子により、屈折率が決定される。通常の光学樹脂のｄ線における屈折率は１．２９以上１．７０以下の範囲に存在する。
本発明の光学材料に含有される光学樹脂の含有量は、体積分率で３５％以上９５％以下、好ましくは５０％以上９０％以下であることが望ましい。
本発明に用いられる光学樹脂は、特に限定しないが、設計する光学素子により、屈折率が決定される。通常の光学樹脂のｄ線における屈折率は１．２９以上１．７０以下の範囲に存在する。
本発明の光学材料に含有される光学樹脂の含有量は、体積分率で３５％以上９５％以下、好ましくは５０％以上９０％以下であることが望ましい。
本発明に用いられる分散剤は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子を分散するために用いられる。分散剤としては、カチオン系、弱カチオン系、ノニオン系あるいは両性界面活性剤が有効である。特にポリエステル系、ε−カプロラクトン系、ポリカルボン酸塩、ポリリン酸塩、ハイドロステアリン酸塩、アミドスルホン酸塩、ポリアクリル酸塩、オレフィンマレイン酸塩共重合物、アクリル−マレイン酸塩共重合物、アルキルアミン酢酸塩、アルキル脂肪酸塩、脂肪酸ポリエチレングリコールエステル系、シリコーン系、フッ素系を用いることができるが、本発明においてはアンモニアよび有機アミン類から選択される少なくとも一種の塩基系のものを用いることが好適である。具体的にはディスパービックシリーズ（ビッグケミー・ジャパン社製）の中ではディスパービック１６１、１６２、１６３、１６４、ソルスパースシリーズ（ゼネガ社製）の中ではソルスパース３０００、９０００、１７０００、２００００、２４０００、４１０９０あるいはＴＡＭＮシリーズ（日光ケミカル社製）の中ではＴＡＭＮ−１５等のアルキルアミンのＰＯ若しくはＥＯ変成物がある。
本発明の光学材料に含有される分散剤の含有量は、体積分率で４％以上４０％以下、好ましくは５％以上３０％以下であることが望ましい。
本発明の光学材料に含有される分散剤の含有量は、体積分率で４％以上４０％以下、好ましくは５％以上３０％以下であることが望ましい。
本発明の光学材料は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子が同一条件で製造され、同一条件で還元され、同一濃度であっても、光学樹脂の屈折率が異なれば、光学材料の光学定数（ｎｄ、νｄ、θｇＦ）は異なる。しかし、本発明の光学材料の屈折率は１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の波長の範囲で極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）が存在し、その波長の誤差は±１０ｎｍである。
本発明は、上記の構成を特徴とする事により、可視光域の吸収が少ない、かつ、２次分散が小さい光学特性を有する光学材料を得ることができる。
同一のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子濃度で、同一の光学樹脂で比較した場合、１６００ｎｍよりも短波長域に屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）が存在した場合、アッペ数（νｄ）及び２次分散（θｇＦ）は小さくなり、光学材料としての光学特性は向上するが、可視域の吸収は特に長波長域で急激に大きくなる。
同一のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子濃度で、同一の光学樹脂で比較した場合、１６００ｎｍよりも短波長域に屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）が存在した場合、アッペ数（νｄ）及び２次分散（θｇＦ）は小さくなり、光学材料としての光学特性は向上するが、可視域の吸収は特に長波長域で急激に大きくなる。
また、１８００ｎｍよりも長波長域に屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）が存在した場合、アッペ数（νｄ）及び２次分散（θｇＦ）は大きくなり、光学材料としての光学特性が減少し、またバーンシュタイン・モス効果がなくなり、短波長域の吸収が急激に上昇する。
本発明の光学材料は、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）を有する。
本発明の光学材料は、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）を有する。
次に、本発明に係る多層回折光学素子は、透明基板の表面に、少なくとも表面に回折格子形状を有する光学材料からなる第１の層と、少なくとも片側に回折格子形状を有する上記の光学材料からなる第２の層とが互いの回折格子形状が対向するように積層されており、前記第１の層の光学材料が、前記第２の層の光学材料よりも高屈折低分散であることを特徴とする。
光学材料は、色収差補正の為の多層回折光学素子の材料の一部として用いられる。
図８は、本発明の多層回折光学素子の多層回折格子の構成を示す模式的図である。例えば、図８の様に、透明基板であるガラス１０、１１の間に、お互いの回折格子形状が対向するように相対的に高屈折率低分散材料８からなる第１の層と、相対的に低屈折高分散材料からなる第２の層を（空間無く）積層された多層回折光学素子において、相対的に低屈折高分散材料からなる第２の層の方に本発明の光学材料９が用いられる。この場合、光学材料中の光学樹脂はフッ素系やシリコーン系、ＰＭＭＡなどの比較的、屈折率の低い光学樹脂（ｎｄ＝１．２９から１．５１）であることが好ましい。
図８は、本発明の多層回折光学素子の多層回折格子の構成を示す模式的図である。例えば、図８の様に、透明基板であるガラス１０、１１の間に、お互いの回折格子形状が対向するように相対的に高屈折率低分散材料８からなる第１の層と、相対的に低屈折高分散材料からなる第２の層を（空間無く）積層された多層回折光学素子において、相対的に低屈折高分散材料からなる第２の層の方に本発明の光学材料９が用いられる。この場合、光学材料中の光学樹脂はフッ素系やシリコーン系、ＰＭＭＡなどの比較的、屈折率の低い光学樹脂（ｎｄ＝１．２９から１．５１）であることが好ましい。
本発明の多層回折光学素子により、必要な光学材料の光学特性を微調整することにより、透明で高効率な色収差補正素子を提供することが可能となる。
本発明の多層回折光学素子は、カメラ、ビデオカメラのレンズ群の色収差補正に用いられる。
本発明の多層回折光学素子は、カメラ、ビデオカメラのレンズ群の色収差補正に用いられる。
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明がそれらによって何ら制約されるものではない。
・未還元のインジウム酸化物（ＩＴＯ）微粒子
本発明の実施例の実施にあたり、同一条件で作成した未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子を３ロット用意した。それぞれ、ロットＡ，ロットＢ、ロットＣとする。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
・未還元のインジウム酸化物（ＩＴＯ）微粒子
本発明の実施例の実施にあたり、同一条件で作成した未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子を３ロット用意した。それぞれ、ロットＡ，ロットＢ、ロットＣとする。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のインジウム酸化物（ＩＴＯ）微粒子のロットＡ，ロットＢ、ロットＣの一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製、ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合はロットＡは９．８ａｔｏｍ％、ロットＢは８.０ａｔｏｍ％、ロットＣは６.８０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積はロットＡは５４ｍ２／ｇ、ロットＢは５２ｍ２／ｇ、ロットＣは５４ｍ２／ｇであった。
上記のインジウム酸化物（ＩＴＯ）微粒子のロットＡ，ロットＢ、ロットＣの一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製、ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合はロットＡは９．８ａｔｏｍ％、ロットＢは８.０ａｔｏｍ％、ロットＣは６.８０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積はロットＡは５４ｍ２／ｇ、ロットＢは５２ｍ２／ｇ、ロットＣは５４ｍ２／ｇであった。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の還元
未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＡとする）を小型チューブ炉にて、焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、２００分）にて還元を行った。
未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＡとする）を小型チューブ炉にて、焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、２００分）にて還元を行った。
以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＡ−１−ＩＴＯ微粒子とする。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＡ−１−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製、ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は９．８ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５３ｍ２／ｇとなり、平均粒径は１７ｎｍと推測される。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＡ−１−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製、ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は９．８ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５３ｍ２／ｇとなり、平均粒径は１７ｎｍと推測される。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子分散液の作製
上記のＡ−１−ＩＴＯ微粒子と分散剤としてディスパービッグ１６４（ビックケーミー社製）をキシレン溶液に相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ａ−１−１）を得た。
上記のＡ−１−ＩＴＯ微粒子と分散剤としてディスパービッグ１６４（ビックケーミー社製）をキシレン溶液に相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ａ−１−１）を得た。
・溶液の評価
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ａ−１−１）の一部を取り出し、エバボレーターにて溶媒を除去し、残った固形分から、熱重量測定装置（Ｐｙｒｉｓ １ ＴＧＡ： パーキンエルマー社製）により、微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は５．２３ｗ％，分散剤濃度は０．９４ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ａ−１−１）の一部を取り出し、エバボレーターにて溶媒を除去し、残った固形分から、熱重量測定装置（Ｐｙｒｉｓ １ ＴＧＡ： パーキンエルマー社製）により、微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は５．２３ｗ％，分散剤濃度は０．９４ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ａ−１−１）を粒度分布計（動的光散乱法 ゼータサイザーナノ：シスメックス社製）にて測定を行った。その結果、平均粒径は３１ｎｍであった。
・光学樹脂の作製
紫外線硬化型アクリル系樹脂として、ポリエステルアクリレート１３ｗ％、トリス（２―アクリロキシエチル）イソシアヌレート２０ｗ％、ペンタエリスリトールトリアクリレート２５ｗ％、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート４０ｗ％、１―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２ｗ％の混合物を用いた。以後、紫外線硬化型アクリル系樹脂を紫外線硬化型樹脂Ｉとする。硬化後の光学樹脂は、屈折率ｎｄ＝１.５２８、νｄ＝５１.１、θｇＦ＝０．５６である。
紫外線硬化型アクリル系樹脂として、ポリエステルアクリレート１３ｗ％、トリス（２―アクリロキシエチル）イソシアヌレート２０ｗ％、ペンタエリスリトールトリアクリレート２５ｗ％、ジシクロペンテニルオキシエチルメタアクリレート４０ｗ％、１―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン２ｗ％の混合物を用いた。以後、紫外線硬化型アクリル系樹脂を紫外線硬化型樹脂Ｉとする。硬化後の光学樹脂は、屈折率ｎｄ＝１.５２８、νｄ＝５１.１、θｇＦ＝０．５６である。
・光学材料の前駆体Ａ−１の作製
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ａ−１−１）１８０．５０ｇに上記の紫外線硬化型樹脂Ｉを８．６９ｇ混合した。この混合溶液をエバポレーターに入れ、４５℃、１００ヘクトパスカルから徐々に圧力を下げ、最終的には２ヘクトパスカルとした。キシレン溶媒を１２時間かけて十分に気散させ、光学材料前駆体Ａ−１を作製した。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ａ−１−１）１８０．５０ｇに上記の紫外線硬化型樹脂Ｉを８．６９ｇ混合した。この混合溶液をエバポレーターに入れ、４５℃、１００ヘクトパスカルから徐々に圧力を下げ、最終的には２ヘクトパスカルとした。キシレン溶媒を１２時間かけて十分に気散させ、光学材料前駆体Ａ−１を作製した。
・光学材料の評価
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
熱重量測定装置（Ｐｙｒｉｓ １ ＴＧＡ： パーキンエルマー社製）にて、大気雰囲気下で５００℃まで加熱した後の無機酸化物の残量より、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の重量分率を測定した。その後、比重（ＩＴＯ：６．７０、分散剤１．１４、紫外線硬化型樹脂Ｉ １．２７）より、体積分率を計算した。光学材料前駆体Ａ−１の重量分率は４７．２重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
熱重量測定装置（Ｐｙｒｉｓ １ ＴＧＡ： パーキンエルマー社製）にて、大気雰囲気下で５００℃まで加熱した後の無機酸化物の残量より、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の重量分率を測定した。その後、比重（ＩＴＯ：６．７０、分散剤１．１４、紫外線硬化型樹脂Ｉ １．２７）より、体積分率を計算した。光学材料前駆体Ａ−１の重量分率は４７．２重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（２）屈折率の測定
各光学素子の屈折率は、次のようにしてサンプルを作製して測定した。
まず、図１に示すように、厚さ１ｍｍの高屈折ガラス１の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー４とサンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を配置した。その上に厚さ１ｍｍの合成石英３をスペーサー４を介して載せ、サンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を押し広げてサンプルとした。このサンプルに、２０ｍＷ／ｃｍ２、１０００秒の条件で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、サンプルを硬化し光学材料Ａ−１の屈折率測定サンプルを作製した。
各光学素子の屈折率は、次のようにしてサンプルを作製して測定した。
まず、図１に示すように、厚さ１ｍｍの高屈折ガラス１の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー４とサンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を配置した。その上に厚さ１ｍｍの合成石英３をスペーサー４を介して載せ、サンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を押し広げてサンプルとした。このサンプルに、２０ｍＷ／ｃｍ２、１０００秒の条件で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、サンプルを硬化し光学材料Ａ−１の屈折率測定サンプルを作製した。
光学材料Ａ−１の屈折率測定サンプルは、屈折計（ＫＰＲ−３０、（株）島津製作所）を用いて、ｇ線４３５．８ｎｍの屈折率（ｎｇ）、Ｆ線４８６．１ｎｍの屈折率（ｎＦ）、ｄ線５８７．６ｎｍの屈折率（ｎｄ）、Ｃ線６５６．３ｎｍの屈折率（ｎＣ）を測定した。また、測定した屈折率より、
アッペ数の定義：νｄ＝（ｎｄ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）・・・・（式１）
２次分散：θｇＦ＝（ｎｇ−ｎＦ）／（ｎＦ−ｎＣ） ・・・・（式２）
より、アッペ数（νｄ）、２次分散（θｇＦ）を算出した。
アッペ数の定義：νｄ＝（ｎｄ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）・・・・（式１）
２次分散：θｇＦ＝（ｎｇ−ｎＦ）／（ｎＦ−ｎＣ） ・・・・（式２）
より、アッペ数（νｄ）、２次分散（θｇＦ）を算出した。
その結果を表１に示す。
光学材料Ａ−１の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６５，２０．９±０．２，０．４２±０．０２）であり、アッペ数νｄおよび２次分散（θｇＦ）が小さい特性を示す。
光学材料Ａ−１の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６５，２０．９±０．２，０．４２±０．０２）であり、アッペ数νｄおよび２次分散（θｇＦ）が小さい特性を示す。
（３）透過率の測定
図２に示すように、厚さ１ｍｍのガラス基板５の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー４とサンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を配置した。その上に厚さ１ｍｍの合成石英板３を載せ、サンプル２（光学材料前駆体１−１）を押し広げてサンプルとした。このサンプルに、２０ｍＷ／ｃｍ２、１０００秒の条件で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、サンプルを硬化した後、合成石英板３を外し、光学材料Ａ−１の透過率測定用サンプルとした。測定用サンプルは、分光光度計（Ｕ４０００、日立製作所）にて、波長４００ｎｍから７００ｎｍまで１０ｎｍ間隔で透過率を測定した。その後、膜厚を測定し、減衰係数ｋを求め、１０μｍの膜厚の内部透過率に変換した。
図２に示すように、厚さ１ｍｍのガラス基板５の上に、厚さ１２．５μｍのスペーサー４とサンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を配置した。その上に厚さ１ｍｍの合成石英板３を載せ、サンプル２（光学材料前駆体１−１）を押し広げてサンプルとした。このサンプルに、２０ｍＷ／ｃｍ２、１０００秒の条件で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、サンプルを硬化した後、合成石英板３を外し、光学材料Ａ−１の透過率測定用サンプルとした。測定用サンプルは、分光光度計（Ｕ４０００、日立製作所）にて、波長４００ｎｍから７００ｎｍまで１０ｎｍ間隔で透過率を測定した。その後、膜厚を測定し、減衰係数ｋを求め、１０μｍの膜厚の内部透過率に変換した。
図３に、光学材料Ａ−１の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８４．９％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９２．５％％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８２．５％ですべての領域で８１％以上となり良好な透過率を示す。
（４）屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長の測定
図４に示すように、厚さ１ｍｍで両面を反射しない様に荒らしたガラス基板６の上に、厚さ５０μｍのスペーサー７とサンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を配置した。その上に厚さ１ｍｍの合成石英板３を載せ、サンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を押し広げてサンプルとした。このサンプルに、２０ｍＷ／ｃｍ２、１０００秒の条件で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、サンプルを硬化した後、合成石英板３を外し、光学材料Ａ−１の分光偏光解析用サンプルとした。
図４に示すように、厚さ１ｍｍで両面を反射しない様に荒らしたガラス基板６の上に、厚さ５０μｍのスペーサー７とサンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を配置した。その上に厚さ１ｍｍの合成石英板３を載せ、サンプル２（光学材料前駆体Ａ−１）を押し広げてサンプルとした。このサンプルに、２０ｍＷ／ｃｍ２、１０００秒の条件で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、サンプルを硬化した後、合成石英板３を外し、光学材料Ａ−１の分光偏光解析用サンプルとした。
分光偏光解析用サンプルは、分光エリプソメーター（ＶＡＳＥ：ジェー・エー・ウーラム社製）にて波長６００ｎｍから２２００ｎｍまで測定した後、各波長の屈折率を計算した。図５にその解析結果を示す。その図５のグラフから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は１６３８ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲の内に存在する。屈折率の極小値の値は、１.３４２である。
＜比較例１＞
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の還元
実施例１とは異なるロットからなる未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＢとする）を小型チューブ炉にて、実施例１と同様の焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１．０Ｐａ）、２００分）にて行った。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の還元
実施例１とは異なるロットからなる未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＢとする）を小型チューブ炉にて、実施例１と同様の焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１．０Ｐａ）、２００分）にて行った。
以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＢ−１−ＩＴＯ微粒子とする。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＢ−１−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製、ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は８．０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５１ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７．５ｎｍと推測される。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＢ−１−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製、ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は８．０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５１ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７．５ｎｍと推測される。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子分散液の作製
上記のＢ−１−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−１−１）を得た。
上記のＢ−１−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−１−１）を得た。
・溶液の評価
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−１−１）の一部を取り出し、実施例１と同様な方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は５．３０ｗ％，分散剤濃度は０．９９ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−１−１）の一部を取り出し、実施例１と同様な方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は５．３０ｗ％，分散剤濃度は０．９９ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−１−１）を粒度分布計（動的光散乱法 ゼータサイザーナノ：シスメックス社製）にて測定を行った。その結果、平均粒径は３０ｎｍであった。
・光学材料前駆体Ｂ−１の作製
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−１−１）１９１．４４ｇに実施例１で作成した紫外線硬化型樹脂Ｉを８．７４ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｂ−１を作製した。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−１−１）１９１．４４ｇに実施例１で作成した紫外線硬化型樹脂Ｉを８．７４ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｂ−１を作製した。
・光学材料の評価
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ｂ−１中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｂ−１の重量分率は４７．３重量％、体積分率に換算すると１４．３体積％であった。
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ｂ−１中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｂ−１の重量分率は４７．３重量％、体積分率に換算すると１４．３体積％であった。
（２）屈折率の測定
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成し、屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｂ−１の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６５，２０．２±０．２，０．４２±０．０２）であり、実施例１よりもアッペ数νｄはやや小さく、２次分散特性は、ほぼ同等な値を示す。
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成し、屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｂ−１の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６５，２０．２±０．２，０．４２±０．０２）であり、実施例１よりもアッペ数νｄはやや小さく、２次分散特性は、ほぼ同等な値を示す。
（３）透過率の測定
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｂ−１の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。
図３に、その結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝７９．８％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝８７．８％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝７８．９％となり、実施例１に比べ、それぞれ、５．２％、４．７％、３．６％透過率の減少が見られる。
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｂ−１の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。
図３に、その結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝７９．８％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝８７．８％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝７８．９％となり、実施例１に比べ、それぞれ、５．２％、４．７％、３．６％透過率の減少が見られる。
（４）屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長の測定
実施例１と同様な方法にて光学材料Ｂ−１の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は１５６５ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲よりも短波長側に存在する。屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長が１６００ｎｍよりも短波長域にあると吸収が急激に増加する。屈折率の極小値の値は、１.３５３である。
実施例１と同様な方法にて光学材料Ｂ−１の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は１５６５ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲よりも短波長側に存在する。屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長が１６００ｎｍよりも短波長域にあると吸収が急激に増加する。屈折率の極小値の値は、１.３５３である。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の還元
比較例１と同じロットの未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＢとする）を小型チューブ炉にて、実施例１及び比較例１の焼成条件よりも時間を短くし。焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、１４０分）にて行った。以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＢ−２−ＩＴＯ微粒子とする。
比較例１と同じロットの未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＢとする）を小型チューブ炉にて、実施例１及び比較例１の焼成条件よりも時間を短くし。焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、１４０分）にて行った。以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＢ−２−ＩＴＯ微粒子とする。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＢ−１−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は８．０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積が５２ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７．３ｎｍと推測される。
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＢ−１−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は８．０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積が５２ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７．３ｎｍと推測される。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子分散液の作製
上記、Ｂ−２−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−２−１）を得た。
上記、Ｂ−２−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−２−１）を得た。
・溶液の評価
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−２−１）の一部を取り出し、実施例１と同様な方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は４．９６ｗ％，分散剤濃度は０．７７ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−２−１）の一部を取り出し、実施例１と同様な方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は４．９６ｗ％，分散剤濃度は０．７７ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−２−１）を粒度分布計（動的光散乱法 ゼータサイザーナノ：シスメックス社製）にて測定を行った。その結果、平均粒径は３０ｎｍであった。
・光学材料前駆体Ｂ−２の作製
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−２−１）１９０．５１ｇに実施例１で作成したの紫外線硬化型樹脂Ｉを９．００ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｂ−２を作製した。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−２−１）１９０．５１ｇに実施例１で作成したの紫外線硬化型樹脂Ｉを９．００ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｂ−２を作製した。
・光学材料の評価
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ｂ−２中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｂ−２の重量分率は４７．２重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ｂ−２中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｂ−２の重量分率は４７．２重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（２）屈折率の測定
実施例１と同様な方法で屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１と同様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｂ−２の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６８，２０．８±０．２，０．４２±０．０２）であり、実施例１とほぼ同等の分散特性、２次分散特性を示す。
実施例１と同様な方法で屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１と同様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｂ−２の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６８，２０．８±０．２，０．４２±０．０２）であり、実施例１とほぼ同等の分散特性、２次分散特性を示す。
（３）透過率の測定
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｂ−２の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図３に、その結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８５．１％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９１．７％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８２．６％となり、実施例１と同様な光学特性を示す。
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｂ−２の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図３に、その結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８５．１％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９１．７％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８２．６％となり、実施例１と同様な光学特性を示す。
（４）屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長の測定
実施例１と同様な方法で光学材料Ｂ−２の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は１６６３ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲内であり、実施例１の１６３８ｎｍと同等の値を示す。屈折率の極小値の値は、１.３６５である。
実施例１と同様な方法で光学材料Ｂ−２の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は１６６３ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲内であり、実施例１の１６３８ｎｍと同等の値を示す。屈折率の極小値の値は、１.３６５である。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の還元
比較例１と同じロットの未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＢとする）を小型チューブ炉にて、実施例２の焼成条件よりも時間を短くし、焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、１２０分）にて行った。以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＢ−３−ＩＴＯ微粒子とする。
比較例１と同じロットの未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＢとする）を小型チューブ炉にて、実施例２の焼成条件よりも時間を短くし、焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、１２０分）にて行った。以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＢ−３−ＩＴＯ微粒子とする。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＢ−３−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は８．０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５３ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７ｎｍと推測される。
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＢ−３−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は８．０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５３ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７ｎｍと推測される。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子分散液の作製
上記のＢ−３−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−３−１）を得た。
上記のＢ−３−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−３−１）を得た。
・溶液の評価
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−３−１）の一部を取り出し、実施例１と同様の方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は４．９３ｗ％，分散剤濃度は０．７７ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−３−１）の一部を取り出し、実施例１と同様の方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は４．９３ｗ％，分散剤濃度は０．７７ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−３−１）を粒度分布計（動的光散乱法 ゼータサイザーナノ：シスメックス社製）にて測定を行った。その結果、平均粒径は３０ｎｍであった。
・光学材料前駆体Ｂ−３の作製
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−３−１）１９２．６６ｇに実施例１で作成した紫外線硬化型樹脂Ｉを９．０２ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｂ−３を作製した。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−３−１）１９２．６６ｇに実施例１で作成した紫外線硬化型樹脂Ｉを９．０２ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｂ−３を作製した。
・光学材料の評価
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様の方法で光学材料前駆体Ｂ−３中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｂ−３の重量分率は４７．２重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様の方法で光学材料前駆体Ｂ−３中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｂ−３の重量分率は４７．２重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（２）屈折率の測定
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｂ−３の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６９，２１．８±０．２，０．４３±０．０２）であり、実施例２に比べ、νｄは＋１、θｇＦ＋０．０１と、アッペ数（νｄ）および、２次分散特性（θｇＦ）はやや大きい値を示す。
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｂ−３の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６９，２１．８±０．２，０．４３±０．０２）であり、実施例２に比べ、νｄは＋１、θｇＦ＋０．０１と、アッペ数（νｄ）および、２次分散特性（θｇＦ）はやや大きい値を示す。
（３）透過率の測定
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｂ−３の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図３にその結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８８．３％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９３．４％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８３．７％となり、実施例２にくらべ、それぞれ、３．３％、０．９％、１．２％透過率は増加する。
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｂ−３の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図３にその結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８８．３％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９３．４％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８３．７％となり、実施例２にくらべ、それぞれ、３．３％、０．９％、１．２％透過率は増加する。
（４）屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長の測定
実施例１に示すのと同様な方法にて光学材料Ｂ−３の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は１７９３ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲内である。屈折率の極小値の値は、１.３７１である。
実施例１に示すのと同様な方法にて光学材料Ｂ−３の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は１７９３ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲内である。屈折率の極小値の値は、１.３７１である。
＜比較例２＞
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の還元
比較例１と同じロットの未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＢとする）を小型チューブ炉にて、実施例３の焼成条件よりも更に時間を短くし、焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝５：９５）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、１００分）にて行った。以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＢ−４−ＩＴＯ微粒子とする。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の還元
比較例１と同じロットの未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＢとする）を小型チューブ炉にて、実施例３の焼成条件よりも更に時間を短くし、焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝５：９５）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、１００分）にて行った。以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＢ−４−ＩＴＯ微粒子とする。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＢ−４−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は８．０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５１ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７．６ｎｍと推測される。
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＢ−４−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は８．０ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５１ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７．６ｎｍと推測される。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子分散液の作製
上記のＢ−４−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−４−１）を得た。
上記のＢ−４−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−４−１）を得た。
・溶液の評価
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−４−１）の一部を取り出し、実施例１と同様な方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は４．９９ｗ％，分散剤濃度は０．７４ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−４−１）の一部を取り出し、実施例１と同様な方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は４．９９ｗ％，分散剤濃度は０．７４ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−４−１）を粒度分布計（動的光散乱法 ゼータサイザーナノ：シスメックス社製）にて測定を行った。その結果、平均粒径は２９ｎｍであった。
・光学材料前駆体Ｂ−４の作製
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−４−１）１９０．２４ｇに実施例１で作成したの紫外線硬化型樹脂Ｉを９．０６ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｂ−４を作製した。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−４−１）１９０．２４ｇに実施例１で作成したの紫外線硬化型樹脂Ｉを９．０６ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｂ−４を作製した。
・光学材料の評価
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ｂ−４中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｂ−３の重量分率は４７．１重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ｂ−４中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｂ−３の重量分率は４７．１重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（２）屈折率の測定
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｂ−４の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５７６，２３．９±０．２，０．４６±０．０２）であり、実施例２に比べ、νｄは＋３．１、θｇＦ＋０．０３はとなり、アッペ数（νｄ）及び、２次分散特性(θｇＦ)は大きくなる。
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｂ−４の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５７６，２３．９±０．２，０．４６±０．０２）であり、実施例２に比べ、νｄは＋３．１、θｇＦ＋０．０３はとなり、アッペ数（νｄ）及び、２次分散特性(θｇＦ)は大きくなる。
（３）透過率の測定
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｂ−４の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図３に、その結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝９２．２％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９４．７％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８０．０％となり、実施例２にくらべ、それぞれ、７．１％、３．０％の透過率の増加が、λ＝４００ｎｍにおいては２．６％の低下が観察される。短波長側のバーンシュタイン・モス効果が小さくなり、吸収が増大していると考えられる。
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｂ−４の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図３に、その結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝９２．２％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９４．７％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８０．０％となり、実施例２にくらべ、それぞれ、７．１％、３．０％の透過率の増加が、λ＝４００ｎｍにおいては２．６％の低下が観察される。短波長側のバーンシュタイン・モス効果が小さくなり、吸収が増大していると考えられる。
（４）屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長の測定
実施例１に示すのと同様な方法にて光学材料Ｂ−４の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は２００５ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲から大きく外れている。
実施例１に示すのと同様な方法にて光学材料Ｂ−４の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は２００５ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲から大きく外れている。
１８００ｎｍよりも長波長域に屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）を示す波長が存在する場合、光学特性が劣化し、かつ短波長の吸収が増加する。屈折率の極小値の値は、１.３９８である。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の還元
実施例１および２と異なるロットの未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＣとする）を小型チューブ炉にて、実施例２と同様の焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、１４０分）にて行った。以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＣ−１−ＩＴＯ微粒子とする。
実施例１および２と異なるロットの未還元のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子（ロットＣとする）を小型チューブ炉にて、実施例２と同様の焼成条件（温度３００℃、雰囲気ガス（Ｈ２：Ｎ２＝２:９８）、圧力 １気圧（１.０Ｐａ）、１４０分）にて行った。以後、還元したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子をＣ−１−ＩＴＯ微粒子とする。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の評価
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＣ−１−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製、ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は６．８ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５３ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７ｎｍと推測される。
（１）Ｓｎ濃度の測定
上記のＣ−１−ＩＴＯ微粒子の一部を取り出し、ＩＣＰ 発光分光分析装置（エスアイアイ・ナノテクノロジー製、ＳＰＳ４０００）にて錫の濃度の測定を行った。インジウムと錫の総和に対する錫原子の割合は６．８ａｔｏｍ％であった。
（２）粒径の測定
ＢＥＴ法にて測定を行った。窒素の吸着量により比表面積は５３ｍ２／ｇとなった。平均粒径は１７ｎｍと推測される。
・インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子分散液の作製
上記のＣ−１−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｃ−１−１）を得た。
上記のＣ−１−ＩＴＯ微粒子を実施例１と同じ手法にて相溶分散させた。これによりキシレン溶媒のＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｃ−１−１）を得た。
・溶液の評価
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−２−１）の一部を取り出し、実施例１と同様の方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は５．００ｗ％，分散剤濃度は０．８０ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｂ−２−１）の一部を取り出し、実施例１と同様の方法で微粒子の濃度と分散剤の濃度を求めた。微粒子の濃度は５．００ｗ％，分散剤濃度は０．８０ｗ％であった。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｃ−１−１）を粒度分布計（動的光散乱法 ゼータサイザーナノ：シスメックス社製）にて測定を行った。その結果、平均粒径は３１ｎｍであった。
・光学材料前駆体Ｖ−１の作製
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｃ−１−１）１９１．７２ｇに実施例１で作成した紫外線硬化型樹脂Ｉを９．０６ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｃ−１を作製した。
ＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ｃ−１−１）１９１．７２ｇに実施例１で作成した紫外線硬化型樹脂Ｉを９．０６ｇ混合した。実施例１と同様な方法で、光学材料前駆体Ｃ−１を作製した。
・光学材料の評価
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ｃ−１中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｃ−１の重量分率は４７．２重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ｃ−１中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ｃ−１の重量分率は４７．２重量％、体積分率に換算すると１４．２体積％であった。
（２）屈折率の測定
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｃ−１の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６８，２１．３±０．２，０．４２±０．０２）であり、実施例２に比べ、アッペ数（νｄ）は＋０．５、若干大きい値を示す。
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表１に示す。
光学材料Ｃ−１の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５６８，２１．３±０．２，０．４２±０．０２）であり、実施例２に比べ、アッペ数（νｄ）は＋０．５、若干大きい値を示す。
（３）透過率の測定
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｃ−１の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図３に、その結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８６．９％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９３．０％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８４．６％となり、実施例２にくらべ、それぞれ、１．８％、１．４％、２．０％透過率は増加する。特に透過率（λ＝４００ｎｍ）は同一の濃度（１４．２ｖ％、実施例１から４、比較例１から２）の光学材料の中で最も透過率の高い値を示す。
実施例１と同様な方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ｃ−１の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図３に、その結果を示す。表１に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８６．９％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９３．０％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８４．６％となり、実施例２にくらべ、それぞれ、１．８％、１．４％、２．０％透過率は増加する。特に透過率（λ＝４００ｎｍ）は同一の濃度（１４．２ｖ％、実施例１から４、比較例１から２）の光学材料の中で最も透過率の高い値を示す。
（４）屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長の測定
実施例１と同様の方法で光学材料Ｃ−１の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は１６９８ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲内であり、実施例２の１６３８ｎｍに比べ、やや長波長の値を示す。屈折率の極小値の値は、１.３６８である。
実施例１と同様の方法で光学材料Ｃ−１の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図６に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表１にその結果を示す。波長は１６９８ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲内であり、実施例２の１６３８ｎｍに比べ、やや長波長の値を示す。屈折率の極小値の値は、１.３６８である。
（注）
◎：特に好ましい特性を示す。
○：好ましい特性を示す。
×：好ましくない特性を示す。
◎：特に好ましい特性を示す。
○：好ましい特性を示す。
×：好ましくない特性を示す。
実施例１と同様な方法で、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合が１０．１体積％の光学材料を作成した。
・光学材料前駆体Ａ−２の作製
実施例１で作成したＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ａ−１−１）１４０．５８ｇに実施例１で作成した紫外線硬化型樹脂Ｉを１０．９４ｇ混合し、実施例１と同様の方法で、光学材料前駆体Ａ−２を作製した。
・光学材料前駆体Ａ−２の作製
実施例１で作成したＩＴＯ微粒子分散キシレン溶液（Ａ−１−１）１４０．５８ｇに実施例１で作成した紫外線硬化型樹脂Ｉを１０．９４ｇ混合し、実施例１と同様の方法で、光学材料前駆体Ａ−２を作製した。
・光学材料の評価
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ａ−２中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ａ−２の重量分率は３７．８重量％、体積分率に換算すると１０．１体積％であった。
（１）インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合の測定
実施例１と同様な方法で光学材料前駆体Ａ−２中のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の割合を測定した。光学材料前駆体Ａ−２の重量分率は３７．８重量％、体積分率に換算すると１０．１体積％であった。
（２）屈折率の測定
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表２に示す。
光学材料Ａ−２の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５５５，２５．０±０．２，０．４３±０．０２）であった。
実施例１と同様な方法にて屈折率測定用のサンプルを作成した。そして屈折率を測定し、実施例１に示す様に光学特性を求めた。その結果を表２に示す。
光学材料Ａ−２の光学特性は、（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．５５５，２５．０±０．２，０．４３±０．０２）であった。
（３）透過率の測定
実施例１と同様の方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ａ−２の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図７にその結果を示す。表２に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８８．９％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９４．５％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８６．５％であった。
実施例１と同様の方法で透過率測定用サンプルを作成し、透過率と膜厚から光学材料Ａ−２の１０μｍ膜厚に換算した内部透過率を求めた。図７にその結果を示す。表２に波長７００ｎｍ、５００ｎｍ、４００ｎｍの具体的な数値を示す。透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８８．９％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９４．５％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８６．５％であった。
（４）屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長の測定
実施例１と同様の方法で光学材料Ａ−２の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図５に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表２にその結果を示す。波長は１６４３ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲内であり、実施例１の１６３８ｎｍと５ｎｍしか変わらず、ほぼ同等の値を示す。屈折率の極小値の値は、１.３８７である。
実施例１と同様の方法で光学材料Ａ−２の分光偏光解析用サンプルを作成し、６００ｎｍから２２００ｎｍの長波長域の屈折率を計算した。その結果を図５に示す。それから最も屈折率の値が小さくなる波長を求めた。表２にその結果を示す。波長は１６４３ｎｍで、１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲内であり、実施例１の１６３８ｎｍと５ｎｍしか変わらず、ほぼ同等の値を示す。屈折率の極小値の値は、１.３８７である。
同じ、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子を用いた場合、割合が変わっても屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０）の波長はほとんど変わらない。
実施例１の光学材料Ａ−１を用いて、多層回折格子１００を作製した。
まず、図８に示す様に、光学材料Ａ−１の光学特性にあわせた高屈折率低分散材料８〔高屈折率低分散材Ｔ１（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．６０９，４４．６±０．４，０．５６±０．０３）〕を、厚さ２ｍｍのガラス１０の上に形成し、その上に光学材料９（光学材料前駆体Ａ−１）を配置した。その上に厚みが２ｍｍのガラス１１載せ、光学材料９（光学材料前駆体Ａ−１）を押し広げてサンプルとした。このサンプルに、２０ｍＷ／ｃｍ２、１０００秒の条件で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、多層回折光学素子を作製した。
まず、図８に示す様に、光学材料Ａ−１の光学特性にあわせた高屈折率低分散材料８〔高屈折率低分散材Ｔ１（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．６０９，４４．６±０．４，０．５６±０．０３）〕を、厚さ２ｍｍのガラス１０の上に形成し、その上に光学材料９（光学材料前駆体Ａ−１）を配置した。その上に厚みが２ｍｍのガラス１１載せ、光学材料９（光学材料前駆体Ａ−１）を押し広げてサンプルとした。このサンプルに、２０ｍＷ／ｃｍ２、１０００秒の条件で高圧水銀ランプ（ＥＸＥＣＵＲＥ２５０、ＨＯＹＡ ＣＡＮＤＥＯ ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ（株））を照射し、多層回折光学素子を作製した。
回折格子の形状は、高さｄ１＝１３μｍ、ピッチ幅Ｘ＝８０μｍである。また、ガラス１１から格子までの格子以外の光学材料９の厚みｄ２は５μｍであった。
・回折効率の評価
回折効率は、回折光学素子と同一の樹脂で作られ、同一の膜厚を有する基板上の部材に、回折格子の設計次数の光量を照射した場合の透過率である。なお、回折光学素子と同一の膜厚とは、回折光学素子の平均膜厚（ｄ２＋ｄ１／２）である。
・回折効率の評価
回折効率は、回折光学素子と同一の樹脂で作られ、同一の膜厚を有する基板上の部材に、回折格子の設計次数の光量を照射した場合の透過率である。なお、回折光学素子と同一の膜厚とは、回折光学素子の平均膜厚（ｄ２＋ｄ１／２）である。
図９に多層回折格子１００の透過率を示す。図１０に多層回折格子１００の回折効率を示す。回折効率は可視域全域で９９．９％以上となり、また透過率も透過率（λ＝７００ｎｍ）＝８２．９％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝９１．４％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝８０．２％と高透過率である。
＜比較例３＞
比較例１の光学材料Ｂ−１を用いて、実施例６と同様に多層回折格子１０１を作製した。光学材料Ｂ−１の光学特性にあわせて、実施例６とは若干異なる高屈折率低分散材Ｔ２（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．６１２，４４．４±０．４，０．５６±０．０３）〕との構成で多層回折格子１０１は作製されている。
回折格子の形状（高さｄ１、ピッチ幅Ｘ）は高さｄ１＝１２．２μｍ、ピッチ幅Ｘは８０μｍであり、また、ガラス１１から格子までの格子以外の光学材料の厚みｄ２は５μｍであった。
比較例１の光学材料Ｂ−１を用いて、実施例６と同様に多層回折格子１０１を作製した。光学材料Ｂ−１の光学特性にあわせて、実施例６とは若干異なる高屈折率低分散材Ｔ２（ｎｄ，νｄ，θｇＦ）＝（１．６１２，４４．４±０．４，０．５６±０．０３）〕との構成で多層回折格子１０１は作製されている。
回折格子の形状（高さｄ１、ピッチ幅Ｘ）は高さｄ１＝１２．２μｍ、ピッチ幅Ｘは８０μｍであり、また、ガラス１１から格子までの格子以外の光学材料の厚みｄ２は５μｍであった。
・回折効率の評価
回折効率は、回折光学素子と同一の樹脂で作られ、同一の膜厚を有する基板上の部材に、回折格子の設計次数の光量を照射した場合の透過率である。なお、回折光学素子と同一の膜厚とは、回折光学素子の平均膜厚（ｄ２＋ｄ１／２）である。図９に多層回折格子１０１の透過率を示す。また、図１１に多層回折格子１０１の回折効率を示す。
回折効率は、回折光学素子と同一の樹脂で作られ、同一の膜厚を有する基板上の部材に、回折格子の設計次数の光量を照射した場合の透過率である。なお、回折光学素子と同一の膜厚とは、回折光学素子の平均膜厚（ｄ２＋ｄ１／２）である。図９に多層回折格子１０１の透過率を示す。また、図１１に多層回折格子１０１の回折効率を示す。
回折効率は可視域全域で９９．９％以上であるが、透過率も透過率（λ＝７００ｎｍ）＝７７．８％、透過率（λ＝５００ｎｍ）＝８６．５％、透過率（λ＝４００ｎｍ）＝７６．９％となり、実施例６に比べ、それぞれ、５．０％、４．８％、３．２％透過率の減少が見られる。
本発明の光学材料は、可視光域の吸収が少なく、かつ２次分散の小さい光学特性を有するので、レンズ等の色収差補正等に利用することができる。
１ 高屈折ガラス
２ 光学材料
３ 石英ガラス
４ スペーサー
５ ガラス基板
６ 両面を荒らしたガラス基板
７ スペーサー
２ 光学材料
３ 石英ガラス
４ スペーサー
５ ガラス基板
６ 両面を荒らしたガラス基板
７ スペーサー
Claims (7)
- 少なくともインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子と、光学樹脂を含有する樹脂組成物の硬化物からなる光学材料であって、波長１６００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の範囲で屈折率の極小値（ｄｎ／ｄλ＝０、ｄ２ｎ／ｄλ２＞０の関係を満足する値を示す。ただし、ｎ：屈折率、λ：光の波長、ｄｎ／ｄλ：光の波長に対する屈折率の１次微分、ｄ２ｎ／ｄλ２：光の波長に対する屈折率の２次微分を表す。）を有することを特徴とする光学材料。
- 前記インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の平均粒径が６０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の光学材料。
- 前記インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子は、インジウムと錫の合計に対する錫の原子の割合が３％以上１５％以下である事を特徴とする請求項１または２に記載の光学材料。
- 前記光学材料に含有されるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）微粒子の含有量が体積分率で５％以上２５％以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかの項に記載の光学材料。
- 前記光学樹脂が、少なくともエネルギー硬化するモノマーまたはオリゴマーからなる樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の光学材料。
- 前記エネルギー硬化が紫外線硬化であることを特徴とする請求項５に記載の光学材料。
- 透明基板の表面に、少なくとも表面に回折格子形状を有する光学材料からなる第１の層と、少なくとも片側に回折格子形状を有する請求項１乃至６のいずれかに記載の光学材料からなる第２の層とが互いの回折格子形状が対向するように積層されており、前記第１の層の光学材料が、前記第２の層の光学材料よりも高屈折低分散であることを特徴とする多層回折光学素子。
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