JP2011085742A - カラーフィルタおよびカラーフィルタ製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】製造工程において工程数が削減され、ブラックマトリクスの遮光率を向上できるカラーフィルタ等を提供する。
【解決手段】カラーフィルタ１は、基板３と、画素位置７に形成される赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇと、これらの上に形成される透明の電極層９と、電極層９の上に形成される半透明の黒着色層５Ｂｋと、基板３の画素位置７の間に、少なくとも赤、青、黒の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｂｋが積層されて形成される画素間ＢＭ１２ａと、基板３の額縁部２に、少なくとも赤、青、黒の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｂｋが積層されて形成される額縁ＢＭ１２ｂと、基板３に、少なくとも赤、青、黒の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｂｋが積層されて形成されるメインＰＳ１１ａと、メインＰＳ１１ａよりも外側であって額縁部２に、少なくとも赤、青、黒の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｂｋが積層されて形成される額縁ＰＳ１１ｂと、を具備する。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタおよびそのカラーフィルタ製造方法に関する。

液晶表示装置は、カラーフィルタ等の表示側基板と液晶駆動側基板とが平行となるように対向させ、両者の間に液晶層を形成し、液晶駆動側基板により液晶層内の液晶分子の配列を電気的に制御して、液晶駆動側基板の背後に設けられた光源から放射され液晶駆動側基板側から入射して表示側基板を透過する光又は反射する光の量を選択的に変化させ、表示を行うものである。

一般的な液晶表示装置では、カラーフィルタ上に共通電極として透明な電極層を形成し、液晶駆動基板に画素電極を設け、両基板に対し垂直方向に電界を発生させ、液晶を駆動させる。

上記のカラーフィルタの例について、図９を用いて説明する。図９（ａ）はカラーフィルタの一部（図９（ｂ）のａで示す部分）を示す部分斜視図であり、図９（ｂ）はカラーフィルタの隅部における画素の配置を示す概略平面図である。図９（ａ）に示すように、カラーフィルタ４０は、透明な基板４３上にブラックマトリクス４５、赤着色層４７Ｒ、青着色層４７Ｂ、緑着色層４７Ｇ、電極層４９、及びメインＰＳ（Ｐｈｏｔｏ Ｓｐａｃｅｒ、フォトスペーサ）５１ａ、額縁ＰＳ５１ｂ、サブＰＳ５１ｃ等のＰＳが設けられる。

ブラックマトリクス４５は透明の基板４３上に、画素位置４４の間とカラーフィルタ４０の平面における周縁部である額縁部４１に、図９（ｂ）に示す画素領域４２の各画素位置４４を区画するように配置される。例えば、ブラックマトリクス４５は、カラーフィルタ４０の画素領域４２の画素位置４４に対応する複数の開口部を有する格子状に配置される。ブラックマトリクス４５は、液晶表示装置の表示画像のコントラストを向上させる役割を果たす。なお、以降の記載において上とは基板の厚さ方向であって基板に対しブラックマトリクス４５等が形成される方向を示すものとする。

赤、青、緑の各着色層４７Ｒ、４７Ｂ、４７Ｇは、図９（ｂ）に示すカラーフィルタ４０の画素領域４２において、ブラックマトリクス４５の開口部、およびブラックマトリクス４５の一部を覆うように形成され、当該開口部（画素位置４４）では、赤着色層４７Ｒ、青着色層４７Ｂ、緑着色層４７Ｇにより、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の画素がカラーフィルタ４０に形成される。

ブラックマトリクス４５、赤着色層４７Ｒ、青着色層４７Ｂ、緑着色層４７Ｇ、及び後述する各ＰＳ（メインＰＳ５１ａ、額縁ＰＳ５１ｂ、サブＰＳ５１ｃ等）は、感光性樹脂を塗布したのち、透光部、遮光部等の適切なマスクパターンを有するフォトマスク（階調マスク）を介して露光、現像することによりパターニングを行って形成する。

透明の電極層４９は、ブラックマトリクス４５や各着色層４７Ｒ、４７Ｂ、４７Ｇの上方に、その表面を覆うように形成される。液晶を駆動させる共通電極としての役割に加え、液晶層の汚染防止等の役割も果たす。

図９（ａ）、図９（ｂ）に示すように、メインＰＳ５１ａは、画素間のブラックマトリクス４５の形成位置で、上方に突出するように設けられる。また、額縁ＰＳ５１ｂは、カラーフィルタ４０の額縁部４１のブラックマトリクス４５の形成位置で、上方に突出するように設けられる。サブＰＳ５１ｃは、画素間のブラックマトリクス４５の形成位置の、メインＰＳ５１ａの形成位置以外の位置で、上方に突出するように設けられる。各ＰＳは、カラーフィルタ４０と、カラーフィルタ４０の上方で液晶層（不図示）を挟んで設けられる液晶駆動側基板（不図示）とが接しないよう両者の間に適切な間隔を設ける役割を果たす。また、額縁ＰＳ５１ｂ（およびサブＰＳ５１ｃ）はメインＰＳ５１ａよりも薄く（低く）形成される。これは、液晶表示装置においてカラーフィルタ４０と液晶駆動側基板の適切な形状を維持するためである。例えば、額縁ＰＳ５１ｂがメインＰＳ５１ａよりも厚く（高く）形成されると、カラーフィルタ４０と液晶駆動側基板は中央部が窪んだ形状となり、周縁部において液晶駆動側基板から入射する光の向きがカラーフィルタ４０と液晶駆動側基板の法線方向から斜めにずれたり、液晶にかかる印加電圧が中央部と周縁部で異なり、液晶層を透過する光の量が変化したりする等の問題が起こる。

カラーフィルタ４０の製造工程について簡単に説明すると、まず、透明な基板４３上にブラックマトリクス４５を形成する。次に赤着色層４７Ｒ、青着色層４７Ｂ、緑着色層４７Ｇをそれぞれ形成する。その後、電極層４９を形成する。最後にメインＰＳ５１ａや額縁ＰＳ５１ｂ、サブＰＳ５１ｃ等の各ＰＳを一括して形成する。即ち、このカラーフィルタ４０を製造するためには、計６工程を要する。

カラーフィルタの製造コストを削減するため、製造工程を削減することが望まれている。例えば特許文献１には、着色層を積層することによりブラックマトリクスの役割を持たせたカラーフィルタの例が示されている。このカラーフィルタを製造する際には、ブラックマトリクスを形成する工程が省略されるので、製造工程を削減することができる。

特許第３１７１１７４号公報

しかしながら、特許文献１に示すカラーフィルタは、画素に用いる着色層を積層することによりブラックマトリクスの役割を持たせるので、ブラックマトリクスの形成を省略して製造工程が削減されるが、ブラックマトリクスの遮光率を向上させることが難しい。

また、着色層を積層する際は、一般的に感光性樹脂は内側から外側へと塗布するため、感光性樹脂が外側においてやや厚く塗布されやすく、着色層は外側においてやや厚く形成されやすい。加えて、着色層をその上に積層する面の面積が小さいと、積層面に塗布した感光性樹脂が流れおちやすい等の理由により、着色層はやや薄く形成されやすい。
このため、基板のより外側の額縁部で、比較的大きな積層面（額縁部のブラックマトリクス）に着色層を積層する場合には、着色層はやや厚く形成されやすく、基板のより内側の画素間で、比較的小さな積層面（画素間のブラックマトリクス）に着色層を積層する場合には、着色層はやや薄く形成されやすい。

即ち、着色層を積層してカラーフィルタを形成する場合には、上記した問題を踏まえ、カラーフィルタの各部分の厚さ（高低）の関係を適切に形成しつつ、ブラックマトリクスの遮光率を向上できるカラーフィルタを形成することが望ましい。

本発明は、前述した問題点に鑑みてなされたもので、製造工程において工程数が削減され、カラーフィルタの各部分の厚さを適切に形成しつつ、ブラックマトリクスの遮光率を向上できるカラーフィルタ等を提供することを目的とする。

前述した目的を達成するための第１の発明は、基板と、前記基板の各画素位置に形成される第１の着色層と第２の着色層と第３の着色層と、前記第１、第２、第３の着色層の上に形成される透明の電極層と、前記電極層の上に形成される黒色の着色層と、前記基板の前記画素位置の間に、少なくとも前記第１、第２の着色層及び前記黒色の着色層が積層されて形成される第１のブラックマトリクスと、前記基板の周縁部に、少なくとも前記第１、第２の着色層及び前記黒色の着色層が積層されて形成される第２のブラックマトリクスと、前記基板に、少なくとも前記第１、第２の着色層及び前記黒色の着色層が積層されて、前記第１、第２のブラックマトリクスよりも厚く形成される第１のフォトスペーサと、前記第１のフォトスペーサよりも外側であって前記基板の周縁部に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層が積層されて、前記第２のブラックマトリクスよりも厚く、前記第１のフォトスペーサよりも薄く形成される第２のフォトスペーサと、を具備することを特徴とするカラーフィルタである。

また、前記基板の前記画素位置の間に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層が積層されて、前記第１のフォトスペーサよりも薄く形成される第３のフォトスペーサと、を更に具備する。

例えば、第１の発明のカラーフィルタにおいて、前記第１、第２、第３のフォトスペーサは、前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、前記第１、第２のブラックマトリクスは、前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、前記第１、第２の着色層は、前記第１のフォトスペーサの形成位置で、前記第２、第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成され、前記第３の着色層は、前記第２のフォトスペーサの形成位置で、前記第１、第３のフォトスペーサの形成位置よりも薄く形成されるようにすることができる。

更に、前記黒色の着色層は、前記第２のフォトスペーサの形成位置と前記第２のブラックマトリクスの形成位置で、前記第１、第３のフォトスペーサと前記第１のブラックマトリクスの形成位置よりも薄く形成されるようにしてもよい。

また、第１の発明のカラーフィルタにおいて、前記第１、第３のフォトスペーサは、前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、前記第２のフォトスペーサと前記第１、第２のブラックマトリクスは、前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、前記第１、第２の着色層は、前記第１、第２のフォトスペーサの形成位置で前記第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成されるようにすることもできる。

また、第１の発明のカラーフィルタにおいて、前記第１、第３のフォトスペーサは、前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、前記第２のフォトスペーサと前記第１、第２のブラックマトリクスは、前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層とが積層されて形成され、前記第１、第２の着色層は、前記第１、第２のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第３のフォトスペーサの形成位置よりも厚く形成され、前記黒色の着色層は、前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第１、第２、第３のフォトスペーサと前記第１のブラックマトリクスの形成位置よりも薄く形成されるようにすることもできる。

上記構成により、画素に用いる少なくとも複数の色の着色層、および黒色の着色層を積層してブラックマトリクスとフォトスペーサが形成される。これにより、製造工程が削減されるとともに、ブラックマトリクス（およびフォトスペーサ）の位置で充分な遮光率が得られるカラーフィルタを提供することができる。また、第１のフォトスペーサの位置では透明の電極層の上方かつ最上段に黒色の着色層が積層されるので、第１のフォトスペーサの位置で電極層と、液晶駆動側基板とが接することがない。さらに、第１のフォトスペーサよりも薄く（低く）、第２のフォトスペーサ、更には第３のフォトスペーサを設け、カラーフィルタの各部分の厚さを適切に形成することができる。

前述した目的を達成するための第２の発明は、基板上に、第１の着色層を形成する工程（ａ）と、前記基板上に、第２の着色層を形成する工程（ｂ）と、前記基板上に、第３の着色層を形成する工程（ｃ）と、前記基板、前記第１、第２、第３の着色層の上に、透明の電極層を形成する工程（ｄ）と、前記電極層の上に黒色の着色層を形成する工程（ｅ）と、を具備し、前記基板の各画素位置に前記第１、第２、第３の着色層を形成し、前記基板の前記画素位置の間に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して第１のブラックマトリクスを形成し、前記基板の周縁部に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して第２のブラックマトリクスを形成し、前記基板に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、第１のフォトスペーサを前記第１、第２のブラックマトリクスよりも厚く形成し、前記第１のフォトスペーサよりも外側であって前記基板の周縁部に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、第２のフォトスペーサを前記第２のブラックマトリクスよりも厚く、前記第１のフォトスペーサよりも薄く形成することを特徴とするカラーフィルタ製造方法である。

更に、前記基板の前記画素位置の間に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、第３のフォトスペーサを前記第１のフォトスペーサよりも薄く形成する。

例えば、第２の発明のカラーフィルタ製造方法において、前記工程（ａ）では、前記第１の着色層を、前記第１のフォトスペーサの形成位置で前記第２、第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成し、前記工程（ｂ）では、前記第２の着色層を、前記第１のフォトスペーサの形成位置で前記第２、第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成し、前記工程（ｃ）では、前記第３の着色層を、前記第２のフォトスペーサの形成位置で前記第１、第３のフォトスペーサの形成位置よりも薄く形成し、前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層を積層して、前記第１、第２、第３のフォトスペーサを形成し、前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、前記第１、第２のブラックマトリクスを形成するようにすることができる。

更に、前記工程（ｅ）では、前記黒色の着色層を、前記第２のフォトスペーサの形成位置と前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第１、第３のフォトスペーサと前記第１のブラックマトリクスの形成位置よりも薄く形成してもよい。

また、第２の発明のカラーフィルタ製造方法において、前記工程（ａ）では、前記第１の着色層を、前記第１、第２のフォトスペーサの形成位置で前記第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成し、前記工程（ｂ）では、前記第２の着色層を、前記第１、第２のフォトスペーサの形成位置で前記第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成し、前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層を積層して、前記第１、第３のフォトスペーサを形成し、前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、前記第２のフォトスペーサと前記第１、第２のブラックマトリクスを形成するようにしてもよい。

また、第２の発明のカラーフィルタ製造方法において、前記工程（ａ）では、前記第１の着色層を、前記第１、第２のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第３のフォトスペーサの形成位置よりも厚く形成し、前記工程（ｂ）では、前記第２の着色層を、前記第１、第２のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第３のフォトスペーサの形成位置よりも厚く形成し、前記工程（ｅ）では、前記黒色の着色層を、前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第１、第２、第３のフォトスペーサ及び前記第１のブラックマトリクスの形成位置よりも薄く形成し、前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層を積層して前記第１、第３のフォトスペーサを形成し、前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して前記第２のフォトスペーサと前記第１、第２のブラックマトリクスを形成するようにしてもよい。

上記構成により、画素に用いる少なくとも複数の色の着色層、および黒色の着色層を積層してブラックマトリクスとフォトスペーサを形成する。これにより、製造工程が削減されるとともに、ブラックマトリクス（およびフォトスペーサ）の位置で充分な遮光率が得られるカラーフィルタのカラーフィルタ製造方法を提供することができる。また、第１のフォトスペーサの位置では透明の電極層の上方かつ最上段に黒色の着色層を積層するので、第１のフォトスペーサの位置で電極層と、液晶駆動側基板とが接することがない。さらに、第１のフォトスペーサよりも薄く（低く）、第２のフォトスペーサ、更には第３のフォトスペーサを設け、カラーフィルタの各部分の厚さを適切に形成することができる。

本発明により、製造工程において工程数が削減され、カラーフィルタの各部分の厚さを適切に形成しつつ、ブラックマトリクスの遮光率を向上できるカラーフィルタ等が提供される。

第１の実施形態のカラーフィルタを示す図 第１の実施形態のカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法を説明する図 第１の実施形態のカラーフィルタ製造するカラーフィルタ製造方法を説明する図 第２の実施形態のカラーフィルタを説明する図 第３の実施形態のカラーフィルタを示す図 第３の実施形態のカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法を説明する図 第３の実施形態のカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法を説明する図 第４の実施形態のカラーフィルタを示す図 第４の実施形態のカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法を説明する図 第４の実施形態のカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法を説明する図 メインＰＳ、額縁ＰＳの断面の例を示す図 カラーフィルタの例を示す図

以下、図面を参照しながら、本発明のカラーフィルタ等の第１の実施形態について説明する。本発明のカラーフィルタの実施形態は、透明な電極層（共通電極）を設けたカラーフィルタと、カラーフィルタの上方に配置され、画素電極を設けた液晶駆動側基板（不図示）と、カラーフィルタと液晶駆動側基板との間に形成される液晶層（不図示）とを具備する液晶表示装置（不図示）におけるカラーフィルタとして説明する。

まず、図１を参照して、第１の実施形態のカラーフィルタについて説明する。図１（ａ）は第１の実施形態のカラーフィルタの一部（図１（ｂ）のＡで示す部分）を示す部分斜視図であり、図１（ｂ）はカラーフィルタの隅部における画素配置の例を示す概略平面図である。

カラーフィルタ１は、透明な基板３上に赤着色層５Ｒ、青着色層５Ｂ、緑着色層５Ｇ、半透明の黒着色層５Ｂｋ、電極層９、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ（Ｂｌａｃｋ Ｍａｔｒｉｘ、ブラックマトリクス）１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂ等が設けられる。

基板３は特に限定されるものではなく、カラーフィルタに一般的に用いられるものを使用することができる。例えば、ホウ珪酸ガラス、アルミノホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、合成石英ガラス、ソーダライムガラス、ホワイトサファイアなどの可撓性のない透明なリジット材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂フィルムなどの可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。前記フレキシブル材としては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、シンジオタクティック・ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、ポリノルボルネン系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリイミド等からなるものを挙げることができるが、一般的なプラスチックからなるものも使用可能である。特に、無アルカリガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり、寸法安定性および高温加熱処理における特性に優れており、好ましい。

赤、青、緑、黒の各色の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、５Ｂｋは、対応する着色剤を含む感光性樹脂により基板３上に形成され、０．５〜３μｍ程度の厚さを有する。

赤、青、緑、黒の各着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、５Ｂｋは、各色に応じた適切な着色剤等を分散し含有させた感光性樹脂を塗布した後、後述する所定の適切な透光部、半透光部、遮光部等のパターンを有するフォトマスク（階調マスク）を用いて露光し、現像してパターニングすることにより形成される。

上記の感光性樹脂としては、ネガ型感光性樹脂およびポジ型感光性樹脂のいずれも用いることができる。本実施形態では、ネガ型感光性樹脂を用いるものとして説明する。

ネガ型感光性樹脂は特に限定されることはなく、一般的に使用されるネガ型感光性樹脂を用いることができる。例えば、架橋型樹脂をベースとした化学増幅型感光性樹脂、具体的にはポリビニルフェノールに架橋剤を加え、さらに酸発生剤を加えた化学増幅型感光性樹脂等が挙げられる。また、アクリル系ネガ型感光性樹脂として、紫外線照射によりラジカル成分を発生する光重合開始剤と、分子内にアクリル基を有し、発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる官能基（例えば、アルカリ溶液による現像の場合は酸性基をもつ成分）とを含有するものを用いることができる。上記のアクリル基を有する成分のうち、比較的低分子量の多官能アクリル分子としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、テトラメチルペンタトリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）等が挙げられる。また、高分子量の多官能アクリル分子としては、スチレン‐アクリル酸‐ベンジルメタクリレート共重合体の一部のカルボン酸基部分にエポキシ基を介してアクリル基を導入したポリマーや、メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸共重合体等が挙げられる。
なお、ポジ型感光性樹脂も特に限定されるものではなく、一般的に使用されるものを用いることができる。具体的には、ノボラック樹脂をベース樹脂とした化学増幅型感光性樹脂等が挙げられる。

また、感光性樹脂の塗布方法としては、例えばスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、ダイコート法等がある。

赤、青、緑、黒の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、５Ｂｋに用いる感光性樹脂に含有させる着色剤も特に限定されるものではなく、一般的に使用される顔料を始めとして、種々の公知のものを適切に選択し用いることができる。例えば黒着色層５Ｂｋの場合であれば、酸化チタンや四酸化鉄などの金属酸化物粉末、金属硫化物粉末、金属粉末、カーボンブラックの他に、赤、青や緑などの顔料の混合物を遮光性粒子として上記の感光性樹脂に分散し含有させたものを用いることができる。

なお、黒着色層５Ｂｋは、１０％黒等の半透明の黒色とする。これは、カラーフィルタ１の形成後に、液晶駆動側基板との貼り合わせ等を行う際に位置合わせとして用いるため他の着色層を用いてカラーフィルタ１の額縁部２に設けるアライメントマーク（不図示）を認識可能とするためである。

透明の電極層９は、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇの上に、その表面を覆うように成膜して形成される。なお、黒着色層５Ｂｋは、上方に電極層９を形成した赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇのさらにその上に積層される。
電極層９は、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等、またはその合金等により形成される。電極層９の成膜方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の一般的な成膜方法を用いることができる。電極層９は、２００〜５０００Å程度の厚みとすることができる。

カラーフィルタ１では、図１（ｂ）に示す画素領域６の赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の画素位置７で、対応する色の着色層が配置され、各画素が形成される。

各画素位置７の間では、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、各画素位置を区画するように画素間ＢＭ１２ａ（第１のブラックマトリクス）が形成される。
画素領域６を囲む、基板３（カラーフィルタ１）の周縁部である額縁部２では、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、額縁ＢＭ１２ｂ（第２のブラックマトリクス）が形成される。
ＢＭ（および後述する各ＰＳ）は、液晶表示装置の表示画像のコントラストを向上させる役割を果たす。

画素位置７の間の所定の位置では、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、メインＰＳ１１ａ（第１のフォトスペーサ）が画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く（高く）形成される。
メインＰＳ１１ａは、カラーフィルタ１と前述の液晶駆動側基板とが接しないように両者の間に適切な間隔を設ける役割を果たす。

基板３上でメインＰＳ１１ａの外側であって額縁部２の所定の位置では、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、額縁ＰＳ１１ｂ（第２のフォトスペーサ）が額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く、メインＰＳ１１ａよりも薄く（低く）形成される。
額縁ＰＳ１１ｂは、カラーフィルタ１と液晶駆動側基板とが額縁部２において接しないように両者の間に適切な間隔を設けるとともに、液晶駆動側基板の適切な形状を維持するためのものである。例えば額縁ＰＳ１１ｂがメインＰＳ１１ａよりも厚く形成されると、カラーフィルタ１や液晶駆動側基板の中央部が窪んだ形状となり、前述した問題が起こる。

画素位置７の間の、メインＰＳ１１ａの形成位置と異なる所定の位置では、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、サブＰＳ１１ｃ（第３のフォトスペーサ）がメインＰＳ１１ａよりも薄く形成される。
サブＰＳ１１ｃもまた、カラーフィルタ１と液晶駆動側基板とが接しないように両者の間に適切な間隔を設ける役割を果たすもので、例えば液晶表示装置がカラーフィルタ１の中央部（画素領域６）より押圧されたときでも、サブＰＳ１１ｃがあることによりカラーフィルタ１と液晶駆動側基板とが接しない。

続いて、図２Ａ、図２Ｂを用いて、図１に示した本実施形態のカラーフィルタ１を形成するカラーフィルタ製造方法について説明する。

まず、図２Ａ（ａ）に示すように、透明な基板３上に、赤着色層用の赤色の感光性樹脂４を塗布する。

続いて、図２Ａ（ｂ）に示すように、カラーフィルタ１における、画素Ｒの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置（図１（ｂ）の縦方向）、に対応する部分に透光部２３を有し、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、サブＰＳ１１ｃの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）に対応する部分に半透光部２４を有し、それ以外の部分（画素Ｇ、画素Ｂの形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク（階調マスク）２１を用いて露光、現像して感光性樹脂４のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、画素Ｒの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置、で赤着色層５Ｒが厚く形成され積層し、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、サブＰＳ１１ｃの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）では、赤着色層５Ｒがより薄く形成され積層する。

次に、基板３上に青着色層用の感光性樹脂を塗布した後、図２Ａ（ｃ）に示すように、カラーフィルタ１における、画素Ｂの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置、に対応する部分に透光部２３を有し、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、サブＰＳ１１ｃの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）に対応する部分に半透光部２４を有し、それ以外の部分（画素Ｒ、画素Ｇの形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク２６を用いて露光、現像して当該感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、画素Ｂの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置、で青着色層５Ｂが厚く形成され積層し、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、サブＰＳ１１ｃの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）では、青着色層５Ｂがより薄く形成され積層する。

続いて、緑着色層用の感光性樹脂を塗布した後、図２Ｂ（ｄ）に示すように、カラーフィルタ１における、画素Ｇの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、サブＰＳ１１ｂの形成位置に対応する部分に透光部２３を有し、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置に対応する部分に半透光部２４を有し、それ以外の部分（画素Ｒ、画素Ｂ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク２７を用いて露光、現像して当該感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、画素Ｇの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、サブＰＳ１１ｂの形成位置に青着色層５Ｒが厚く形成され積層し、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置では、青着色層５Ｒがより薄く形成され積層する。

続いて、図２Ｂ（ｅ）に示すように、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇの上に、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇの表面を覆うように透明の電極層９を形成する。

更に、半透明の黒色の感光性樹脂を塗布した後、図２Ｂ（ｆ）に示すように、カラーフィルタ１における、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置に対応する部分に透光部２３を有し、それ以外の部分（各画素の形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク２８を用いて露光、現像して黒色の感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置に、黒着色層５Ｂｋが（厚く）形成され積層する。以上のようにして、第１の実施形態のカラーフィルタ１が形成される。

即ち、メインＰＳ１１ａは赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋを積層して形成される。
額縁ＰＳ１１ｂは赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋを積層して形成される。ここで、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇは、上述したようにフォトマスクの半透光部を介して露光し、現像することにより薄く形成される。
サブＰＳ１１ｃは赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋを積層して形成される。ここで、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂはより薄く形成される。
画素間ＢＭ１２ａは赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋを積層して形成される。ここで、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く位置では、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂはより薄く形成される。
額縁ＢＭ１２ｂは赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋを積層して形成される。ここで、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂはより薄く形成される。

このようにして着色層が積層され、画素、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂが基板３上に形成される。メインＰＳ１１ａは画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く形成され、額縁ＰＳ１１ｂは額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く、メインＰＳ１１ａよりも薄く形成され、サブＰＳ１１ｃはメインＰＳ１１ａよりも薄く形成される。

ここで、本発明のカラーフィルタ１において、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂのブラックマトリクス（およびメインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ）の位置において充分な遮光率が得られることについて説明する。

発明者らが行った概算によれば、この種のカラーフィルタにおいて通常形成される着色層の厚みである約２．４μｍ厚の赤着色層の上に約２．０μｍ厚の１０％黒の黒着色層を積層した場合を想定すると、遮光率（ＯＤ値）は約２．０となる。
一方、後述する階調マスクの半透光部を用いて露光、現像する等により赤、青の着色層を前述の厚みの半分である約１．２μｍ厚と薄く形成して積層し、更にその上に約２．０μｍ厚の１０％黒の黒着色層を積層した場合を想定すると、遮光率（ＯＤ値）は約２．６と向上する。
また、階調マスクの半透光部を用いて露光、現像する等により赤、青、緑の着色層を前述の厚みの１／３である約０．８μｍ厚と薄く形成して積層し、更にその上に約２．０μｍ厚の１０％黒の黒着色層を積層した場合を想定すると、遮光率（ＯＤ値）は約２．５となる。
なお、赤、青の着色層を通常の厚さである約２．４μｍ厚として積層し、さらにその上に１０％黒の黒着色層を、前述の厚みの半分の約１．０μｍ厚として積層した場合を想定すると、遮光率（ＯＤ値）はさらに向上し、約３．０となる。

このように、半透明の黒着色層を積層することにより良い遮光率が期待できることがわかる。また、２色、特に赤、青の着色層を積層した上に黒着色層を積層すると、遮光率の向上が期待できることもわかる。また、これらの着色層をある程度薄くしても、遮光率の向上は期待できることがわかる。但し、緑着色層を積層した場合は、遮光率の向上の効果は赤着色層や青着色層に比べるとやや弱い。

ところで、前述したように、着色層の形成時に感光性樹脂を基板上に塗布する際、一般的に感光性樹脂は内側から外側へと塗布する。このため、感光性樹脂は外側において厚く塗布されやすく、着色層は外側において厚く形成されやすい。また、積層する面の面積が小さいと、積層面に塗布した感光性樹脂が流れおちやすい等の理由により、この上に積層する着色層は薄く形成されやすくなる。
これにより、同様のパターニングを行い形成した着色層を積層する場合、図８（ａ）に示すように、基板のより外側で、比較的大きな積層面に着色層を積層して形成される額縁ＰＳ１１ｂは、基板のより内側で、比較的小さな積層面に着色層を積層して形成されるメインＰＳ１１ａよりも厚く（高く）形成されやすくなる。

これを防ぐため、額縁ＰＳ１１ｂの位置でメインＰＳ１１ａの位置よりも積層する着色層の数を減らすか、もしくは額縁ＰＳ１１ｂの位置でメインＰＳの位置よりも着色層を薄く形成する必要がある。特に、着色層を減らす場合には、ブラックマトリクスやフォトスペーサの位置でより高い遮光率が得られるように、着色層を選んで減らすことが望ましい。たとえば、図８（ｂ）に示すように、例えば赤の着色層５Ｒを省略し、青、緑の着色層５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋを積層する場合では、遮光率の向上の効果はやや薄くなる。
本実施形態では、前述したように額縁ＰＳ１１ｂの形成位置で着色層をより薄く形成して積層し、遮光率の向上を実現しつつ額縁ＰＳ１１ｂがメインＰＳ１１ａよりも低く形成されるようにしている。その他の部分も同様に、このように着色層の厚み、あるいは積層する着色層の数を調整して、遮光率の向上を実現しつつ求められる厚さ（高低）の関係を得ることができる。

以上説明したように、本実施形態では、画素に用いる少なくとも複数の着色層即ち赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂと、黒着色層５Ｂｋを積層して画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂのブラックマトリクスとメインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃのフォトスペーサが形成される。これにより、製造工程が削減されるとともに、（フォトスペーサの位置を含む）ブラックマトリクスの位置で遮光率が向上できるカラーフィルタを提供することができる。また、透明の電極層９の上方かつ最上段に黒着色層５Ｂｋが積層されるので、メインＰＳ１１ａの位置で電極層９と、液晶駆動側基板とが接することがない。さらに、メインＰＳ１１ａよりも低く、額縁ＰＳ１１ｂ、更にはサブＰＳ１１ｃを設けて、カラーフィルタ１の各部分の厚さを適切に形成することができる。

ここで、上記の各フォトマスクについて説明する。各フォトマスクは、階調マスクと呼ばれ、透明基板と、遮光膜と、透過率調整機能を有する半透明膜とが順不同に積層され、透明基板上に遮光膜が設けられた遮光部２５と、透明基板上に半透明膜のみが設けられた半透光部２４と、透明基板上に遮光膜および半透明膜のいずれも設けられていない透光部２３とを有する。半透光部２４を有しないフォトマスクは、前記半透明膜は不要であり、透明基板上に、パターニングされた遮光膜を有する。

前記透明基板は、基板３に用いられる基板を使用することができる。特に、石英ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり、寸法安定性および高温加熱処理における特性に優れている。

遮光膜は、実質的に露光光を透過しないものであり、露光波長における平均透過率が０．１％以下であることが好ましい。遮光膜としては、一般にフォトマスクに用いられる遮光膜を用いることができ、例えばクロム、酸化クロム、窒化クロム、酸化窒化クロム、モリブデンシリサイド、タンタル、アルミニウム、ケイ素、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素などの膜が挙げられる。中でも、クロム、酸化クロム、窒化クロム、酸化窒化クロム等のクロム系膜が好適に用いられる。このようなクロム系膜は、最も使用実績があり、コスト、品質の点で好ましいからである。このクロム系膜は、単層であってもよく、２層以上が積層されたものであってもよい。

遮光膜の膜厚としては、特に限定されるものではなく、例えばクロム膜の場合には５０ｎｍ〜１５０ｎｍ程度とすることができる。

遮光膜の成膜方法としては、例えばスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法などの物理蒸着法（ＰＶＤ）が用いられる。成膜後、遮光膜のパターニングを行う。パターニング方法は特に限定されないが、通常はリソグラフィー法が用いられる。

半透明膜は、特に限定されるものではなく、例えばクロム、モリブデンシリサイド、タンタル、アルミニウム、ケイ素等の酸化物、窒化物、炭化物などの膜が挙げられる。半透明膜および遮光膜を同一エッチング設備、工程でパターニングし得るという利点から、半透明膜と遮光膜が同系の材料からなる膜であることが好ましい。前述するように遮光膜がクロム系膜であることが好ましいことから、半透明膜も、酸化クロム、窒化クロム、酸化窒化クロム、酸化窒化炭化クロムなどのクロム系膜であることが好ましい。また、これらのクロム系膜は、機械的強度に優れており、さらには安定しているため、長時間の使用に耐えうるマスクとすることができる。

また、半透明膜は、単層であってもよく、複数の層で構成されていてもよい。これにより、複数の透過率を有する多階調のマスクとすることができる。

半透明膜の膜厚としては、例えばクロム膜の場合は５〜５０ｎｍ程度とすることができ、また酸化クロム膜の場合は５ｎｍ〜１５０ｎｍ程度とすることができる。半透明膜の透過率はその膜厚により変わるので、膜厚を制御することで所望の透過率とすることができる。また、半透明膜が酸素、窒素、炭素などを含む場合は、その透過率は組成により変わるので、膜厚と組成とを同時にコントロールすることで所望の透過率を実現できる。

半透明膜の成膜方法としては、例えばスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法などの物理蒸着法（ＰＶＤ）が用いられる。例えばスパッタリング法を用いて酸化窒化炭化クロム膜を成膜する場合は、Ａｒガス等のキャリアガス、酸素（炭酸）ガス、窒素ガスを反応装置内に導入し、Ｃｒターゲットを用いた反応性スパッタリング法にて酸化窒化炭化クロム膜を成膜することができる。この際、酸化窒化炭化クロム膜の組成の制御は、Ａｒガス、酸素（炭酸）ガス、窒素ガスの流量の割合を制御することにより行うことができる。成膜後、パターニングを行い、半透明膜を形成する。

次に、本発明のカラーフィルタの第２の実施形態について図３を用いて説明する。図３は、第２の実施形態のカラーフィルタについて説明する図である。図３（ａ）は第２の実施形態のカラーフィルタの一部（図１（ｂ）のＡで示す部分に対応する）を示す部分斜視図である。図３（ｂ）は、第２の実施形態のカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法の一部を示す図である。図３（ｂ）は半透明の黒着色層５Ｂｋを形成する工程を示し、前述の図２Ｂ（ｆ）に対応する。

図３（ａ）に示すように、第２の実施形態のカラーフィルタ１３は、額縁部２において黒着色層５Ｂｋが薄く形成され積層している。それ以外の構成は第１の実施形態とほぼ同様である。

本実施形態のカラーフィルタ１３を製造する製造方法では、透明の基板３上に、第１の実施形態と同様に赤、緑、青の着色層５Ｒ、５Ｇ、５Ｂを形成し積層した後、電極層９を形成する。

更に、半透明の黒色の感光性樹脂を塗布した後、図３（ｂ）に示すように、カラーフィルタ１３における、メインＰＳ１１ａ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａの形成位置に対応する部分に透光部２３を有し、カラーフィルタ１３における、額縁ＰＳ１１ｂ、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置に対応する部分に半透光部２４を有し、それ以外の部分に遮光部２５を有するフォトマスク２９を用いて露光、現像して黒色の感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、メインＰＳ１１ａ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａの形成位置に黒着色層５Ｂｋが厚く形成され積層し、額縁ＰＳ１１ｂ、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置では黒着色層５Ｂｋがより薄く形成され積層する。
以上のようにして、第２の実施形態のカラーフィルタ１３が形成される。

即ち、本実施形態のカラーフィルタ１３では、メインＰＳ１１ａ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａを構成する着色層とその厚みは第１の実施形態と同様である。額縁ＰＳ１１ｂ、額縁ＢＭ１２ｂについても、構成する着色層は第１の実施形態と同様だが、黒着色層５Ｂｋはより薄く形成され、額縁ＰＳ１１ｂ全体の厚さはより小さくなる。

第１の実施形態と同様、本実施形態においても、画素に用いる少なくとも複数の着色層即ち赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂと、黒着色層５Ｂｋを積層してメインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃのフォトスペーサと画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂのブラックマトリクスが形成される。これにより、製造工程が削減されるとともに、（フォトスペーサの位置を含む）ブラックマトリクスの位置で遮光率が向上できるカラーフィルタを提供することができる。また、透明の電極層９の上方かつ最上段に黒着色層５Ｂｋが積層されるので、メインＰＳ１１ａの位置で電極層９と、液晶駆動側基板とが接することがない。さらに、メインＰＳ１１ａよりも低く、額縁ＰＳ１１ｂ、更にはサブＰＳ１１ｃを設けて、カラーフィルタ１３の各部分の厚さを適切に形成することができる。
なお、本実施形態では額縁ＰＳ１１ｂは第１の実施形態のものより低く形成される。このように、着色層の厚みを調整して、例えば額縁ＰＳ１１ｂ等の高さを調節するなど、求められるカラーフィルタの各部分の高低の関係を得ることができる。

次に、本発明のカラーフィルタの第３の実施形態について図４、図５Ａ、図５Ｂを用いて説明する。図４は、第３の実施形態のカラーフィルタを示す図であり、第３の実施形態のカラーフィルタの一部（図１（ｂ）のＡで示す部分に対応する）を示す部分斜視図である。図５Ａ、図５Ｂは、第３の実施形態のカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法を示す図である。

第３の実施形態のカラーフィルタ１５では、メインＰＳ１１ａが、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く形成される。
額縁ＰＳ１１ｂは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く、メインＰＳ１１ａよりも薄く形成される。
サブＰＳ１１ｃは、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、メインＰＳ１１ａよりも薄く形成される。
画素間ＢＭ１２ａは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。
額縁ＢＭ１２ｂは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。

本実施形態のカラーフィルタ１５を製造するカラーフィルタ製造方法について、図５Ａ、図５Ｂを用いて説明する。

本実施形態のカラーフィルタ１５を製造するカラーフィルタ製造方法では、第１の実施形態と同様、まず、図５Ａ（ａ）に示すように、透明な基板３上に、赤着色層用の赤色の感光性樹脂４を塗布する。

続いて、図５Ａ（ｂ）に示すように、カラーフィルタ１５における、画素Ｒの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置で額縁ＰＳ１１ｂから各画素の長辺方向に沿った位置に対応する部分に透光部２３を有し、サブＰＳ１１ｃの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）と、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置（額縁ＰＳ１１ｂから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）に対応する部分に半透光部２４を有し、それ以外の部分（画素Ｇ、画素Ｂの形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク３０を用いて露光、現像して感光性樹脂４のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、画素Ｒの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置で額縁ＰＳ１１ｂから各画素の長辺方向に沿った位置で赤着色層５Ｒが厚く形成され積層し、サブＰＳ１１ｃの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）と、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置（額縁ＰＳ１１ｂから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）では、赤着色層５Ｒがより薄く形成され積層する。

次に、基板３上に青着色層用の感光性樹脂を塗布した後、図５Ａ（ｃ）に示すように、カラーフィルタ１５における、画素Ｂの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置に対応する部分に透光部２３を有し、サブＰＳ１１ｃの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置と、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）に対応する部分に半透光部２４を有し、それ以外の部分（画素Ｒ、画素Ｇの形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク３１を用いて露光、現像して当該感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、画素Ｂの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置に青着色層５Ｂが厚く形成され積層し、サブＰＳ１１ｃの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）では、青着色層５Ｂがより薄く形成され積層する。

続いて、緑着色層用の感光性樹脂を塗布した後、図５Ｂ（ｄ）に示すように、カラーフィルタ１５における、画素Ｇの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、サブＰＳ１１ｂの形成位置に対応する部分に透光部２３を有し、それ以外の部分（画素Ｒ、画素Ｂ、額縁ＰＳ１１ｂ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク３２を用いて露光、現像して当該感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、画素Ｇの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、サブＰＳ１１ｂの形成位置に緑着色層５Ｇが（厚く）形成され積層する。

続いて、図５Ｂ（ｅ）に示すように、形成した赤、緑、青の着色層５Ｒ、５Ｇ、５Ｂの上に、その表面を覆うように透明の電極層９を形成する。

更に、半透明の黒色の感光性樹脂を塗布した後、図５Ｂ（ｆ）に示すように、カラーフィルタ１５における、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置に対応する部分に透光部２３を有し、それ以外の部分（各画素の形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク３３を用いて露光、現像して黒色の感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置に、黒着色層５Ｂｋが（厚く）形成され積層する。
以上のようにして、第３の実施形態のカラーフィルタ１５が形成される。

即ち、メインＰＳ１１ａは、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。
額縁ＰＳ１１ｂは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。
サブＰＳ１１ｃは、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。ここで、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂは上述したようにより薄く形成される。
画素間ＢＭ１２ａは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。ここで、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く位置では、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂはより薄く形成される。
額縁ＢＭ１２ｂは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。青着色層５Ｂはより薄く形成される。また、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置で額縁ＰＳ１１ｂから各画素の長辺方向に沿った位置を除く位置では、赤の着色層５Ｒもより薄く形成される。

本実施形態では、このようにして着色層が積層され、画素、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂが基板３上に形成される。メインＰＳ１１ａは画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く形成され、額縁ＰＳ１１ｂは額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く、メインＰＳ１１ａよりも薄く形成され、サブＰＳ１１ｃはメインＰＳ１１ａよりも薄く形成される。

第１の実施形態と同様、本実施形態においても、画素に用いる少なくとも複数の着色層即ち赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂと、黒着色層５Ｂｋを積層してメインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃのフォトスペーサと画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂのブラックマトリクスが形成される。これにより、製造工程が削減されるとともに、（フォトスペーサの位置を含む）ブラックマトリクスの位置で遮光率が向上できるカラーフィルタを提供することができる。また、透明の電極層９の上方かつ最上段に黒着色層５Ｂｋが積層されるので、メインＰＳ１１ａの位置で電極層９と、液晶駆動側基板とが接することがない。さらに、メインＰＳ１１ａよりも低く、額縁ＰＳ１１ｂ、更にはサブＰＳ１１ｃを設けて、カラーフィルタ１５の各部分の厚さを適切に形成することができる。
なお、本実施形態では半透光部を有するフォトマスクの使用枚数が抑えられ（２枚、第１の実施形態では３枚）、これによりフォトマスク作成に係るコストを抑えることができる。

次に、本発明のカラーフィルタ等の第４の実施形態について図６、図７Ａ、図７Ｂを用いて説明する。図６は第４の実施形態のカラーフィルタを示す図であり、第４の実施形態のカラーフィルタの一部（図１（ｂ）のＡに対応する）を示す部分斜視図である。図７Ａ、図７Ｂは、第４の実施形態のカラーフィルタを製造するカラーフィルタ製造方法について説明する図である。

第４の実施形態のカラーフィルタ１７では、第３の実施形態のカラーフィルタ１５と同様、メインＰＳ１１ａは、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く形成される。
額縁ＰＳ１１ｂは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く、メインＰＳ１１ａよりも薄く形成される。
サブＰＳ１１ｃは、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層され、メインＰＳ１１ａよりも薄く形成される。
画素間ＢＭ１２ａは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。
額縁ＢＭ１２ｂは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。

本実施形態のカラーフィルタ１７を製造するカラーフィルタ製造方法について、図７Ａ、図７Ｂを用いて説明する。

本実施形態のカラーフィルタ１７を製造するカラーフィルタ製造方法では、第１の実施形態と同様、まず、図７Ａ（ａ）に示すように、透明な基板３上に赤着色層用の赤色の感光性樹脂４を塗布する。

続いて、図７Ａ（ｂ）に示すように、カラーフィルタ１７における、画素Ｒの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置、に対応する部分に透光部２３を有し、サブＰＳ１１ｃの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）に対応する部分に半透光部２４を有し、それ以外の部分（画素Ｇ、画素Ｂの形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク３４を用いて露光、現像して感光性樹脂４のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、画素Ｒの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置、で赤着色層５Ｒが厚く形成され積層し、サブＰＳ１１ｃの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）では、赤着色層５Ｒがより薄く形成され積層する。

次に、基板３上に青着色層用の感光性樹脂を塗布した後、図７Ａ（ｃ）に示すように、カラーフィルタ１７における、画素Ｂの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置、に対応する部分に透光部２３を有し、サブＰＳ１１ｃの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）に対応する部分に半透光部２４を有し、それ以外の部分（画素Ｒ、画素Ｇの形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク３５を用いて露光、現像して当該感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、画素Ｂの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、額縁ＰＳ１１ｂの形成位置、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置、に青着色層５Ｂが厚く形成され積層し、サブＰＳ１１ｃの形成位置、画素間ＢＭ１２ａの形成位置（メインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く）では、青着色層５Ｂがより薄く形成され積層する。

続いて、緑着色層用の感光性樹脂を塗布した後、図７Ｂ（ｄ）に示すように、カラーフィルタ１７における、画素Ｇの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、サブＰＳ１１ｂの形成位置に対応する部分に透光部２３を有し、それ以外の部分（画素Ｒ、画素Ｂ、額縁ＰＳ１１ｂ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク３６を用いて露光、現像して当該感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、画素Ｇの形成位置、メインＰＳ１１ａの形成位置、サブＰＳ１１ｂの形成位置に緑着色層５Ｇが（厚く）形成され積層する。

続いて、図７Ｂ（ｅ）に示すように、形成した赤、緑、青の着色層５Ｒ、５Ｇ、５Ｂの上に、その表面を覆うように透明の電極層９を形成する。

更に、半透明の黒色の感光性樹脂を塗布した後、図７Ｂ（ｆ）に示すように、カラーフィルタ１７における、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａの形成位置に対応する部分に透光部２３を有し、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置に対応する部分に半透光部２４を有し、それ以外の部分（各画素の形成位置に対応する部分）に遮光部２５を有するフォトマスク３７を用いて露光、現像して黒色の感光性樹脂のパターニングを行う。
これにより、基板３上で、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａの形成位置に、黒着色層５Ｂｋが厚く形成され積層し、額縁ＢＭ１２ｂの形成位置では黒着色層５Ｂｋがより薄く形成され積層する。
以上のようにして、第４の実施形態のカラーフィルタ１７が形成される。

即ち、メインＰＳ１１ａは、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｂ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。
額縁ＰＳ１１ｂは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。
サブＰＳ１１ｃは、赤、青、緑の着色層５Ｒ、５Ｇ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。ここで、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂは上述したようにより薄く形成される。
画素間ＢＭ１２ａは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。ここで、画素間ＢＭ１２ａの形成位置でメインＰＳ１１ａから各画素の長辺方向に沿った位置を除く位置では、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂはより薄く形成される。
額縁ＢＭ１２ｂは、赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂ、電極層９、黒着色層５Ｂｋが積層されて形成される。ここで、黒着色層５Ｂｋはより薄く形成される。

本実施形態では、このようにして着色層が積層され、画素、メインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃ、画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂが基板３上に形成される。メインＰＳ１１ａは画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く形成され、額縁ＰＳ１１ｂは額縁ＢＭ１２ｂよりも厚く、メインＰＳ１１ａよりも薄く形成され、サブＰＳ１１ｃはメインＰＳ１１ａよりも薄く形成される。

第１の実施形態と同様、本実施形態においても、画素に用いる少なくとも複数の着色層即ち赤、青の着色層５Ｒ、５Ｂと、黒着色層５Ｂｋを積層して画素間ＢＭ１２ａ、額縁ＢＭ１２ｂのブラックマトリクスとメインＰＳ１１ａ、額縁ＰＳ１１ｂ、サブＰＳ１１ｃのフォトスペーサが形成される。これにより、製造工程が削減されるとともに、（フォトスペーサの位置を含む）ブラックマトリクスの位置で遮光率が向上できるカラーフィルタを提供することができる。また、透明の電極層９の上方かつ最上段に黒着色層５Ｂｋが積層されるので、メインＰＳ１１ａの位置で電極層９と、液晶駆動側基板とが接することがない。さらに、メインＰＳ１１ａよりも低く、額縁ＰＳ１１ｂ、更にはサブＰＳ１１ｃを設けて、カラーフィルタ１５の各部分の厚さを適切に形成することができる。
なお、本実施形態では額縁ＢＭ１２ｂの形成位置において、赤着色層Ｒと青着色層Ｂが厚く形成され積層されている。従って、前述したように、額縁ＢＭ１２ｂにおける遮光率を更に向上させることができる。

以上、添付図面を参照しながら、本発明に係るカラーフィルタ等の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、本発明のカラーフィルタは画素に用いる着色層を複数積層して更にその上に黒着色層を積層することによりブラックマトリクスとして遮光率を向上させるとともに製造工程を省略するが、この限りにおいて各着色層の厚み、あるいは積層数は、メインＰＳを額縁ＰＳより厚く（高く）形成する等、カラーフィルタの各部分の厚さ（高低）の望ましい関係を得るように様々に定めることができる。

１、１３、１５、１７、４０………カラーフィルタ
２、４１………額縁部
３、４３………基板
４………感光性樹脂
５Ｒ、４７Ｒ………赤着色層
５Ｇ、４７Ｇ………緑着色層
５Ｂ、４７Ｂ………青着色層
５Ｂｋ………黒着色層
７、４４………画素位置
９、４９………電極層
１１ａ、５１ａ………メインＰＳ
１１ｂ、５１ｂ………額縁ＰＳ
１１ｃ、５１ｃ………サブＰＳ
１２ａ………画素間ＢＭ
１２ｂ………額縁ＢＭ
２１、２６〜３７………フォトマスク
２３………透光部
２４………半透光部
２５………遮光部

Claims (12)

1. 基板と、
   前記基板の各画素位置に形成される第１の着色層と第２の着色層と第３の着色層と、
   前記第１、第２、第３の着色層の上に形成される透明の電極層と、
   前記電極層の上に形成される黒色の着色層と、
   前記基板の前記画素位置の間に、少なくとも前記第１、第２の着色層及び前記黒色の着色層が積層されて形成される第１のブラックマトリクスと、
   前記基板の周縁部に、少なくとも前記第１、第２の着色層及び前記黒色の着色層が積層されて形成される第２のブラックマトリクスと、
   前記基板に、少なくとも前記第１、第２の着色層及び前記黒色の着色層が積層されて、前記第１、第２のブラックマトリクスよりも厚く形成される第１のフォトスペーサと、
   前記第１のフォトスペーサよりも外側であって前記基板の周縁部に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層が積層されて、前記第２のブラックマトリクスよりも厚く、前記第１のフォトスペーサよりも薄く形成される第２のフォトスペーサと、
   を具備することを特徴とするカラーフィルタ。
2. 前記基板の前記画素位置の間に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層が積層されて、前記第１のフォトスペーサよりも薄く形成される第３のフォトスペーサと、
   を更に具備することを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ。
3. 前記第１、第２、第３のフォトスペーサは、前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、
   前記第１、第２のブラックマトリクスは、前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、
   前記第１、第２の着色層は、前記第１のフォトスペーサの形成位置で、前記第２、第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成され、
   前記第３の着色層は、前記第２のフォトスペーサの形成位置で、前記第１、第３のフォトスペーサの形成位置よりも薄く形成されることを特徴とする請求項２記載のカラーフィルタ。
4. 前記黒色の着色層は、前記第２のフォトスペーサの形成位置と前記第２のブラックマトリクスの形成位置で、前記第１、第３のフォトスペーサと前記第１のブラックマトリクスの形成位置よりも薄く形成されることを特徴とする請求項３記載のカラーフィルタ。
5. 前記第１、第３のフォトスペーサは、前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、
   前記第２のフォトスペーサと前記第１、第２のブラックマトリクスは、前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、
   前記第１の着色層は、前記第１、第２のフォトスペーサの形成位置で前記第３のフォトスペーサよりも厚く形成され、
   前記第２の着色層は、前記第１、第２のフォトスペーサの形成位置で前記第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成されることを特徴とする請求項２記載のカラーフィルタ。
6. 前記第１、第３のフォトスペーサは、前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層が積層されて形成され、
   前記第２のフォトスペーサと前記第１、第２のブラックマトリクスは、前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層とが積層されて形成され、
   前記第１、第２の着色層は、前記第１、第２のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第３のフォトスペーサの形成位置よりも厚く形成され、
   前記黒色の着色層は、前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第１、第２、第３のフォトスペーサと前記第１のブラックマトリクスの形成位置よりも薄く形成されることを特徴とする請求項２記載のカラーフィルタ。
7. 基板上に、第１の着色層を形成する工程（ａ）と、
   前記基板上に、第２の着色層を形成する工程（ｂ）と、
   前記基板上に、第３の着色層を形成する工程（ｃ）と、
   前記基板、前記第１、第２、第３の着色層の上に、透明の電極層を形成する工程（ｄ）と、
   前記電極層の上に黒色の着色層を形成する工程（ｅ）と、
   を具備し、
   前記基板の各画素位置に前記第１、第２、第３の着色層を形成し、
   前記基板の前記画素位置の間に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して第１のブラックマトリクスを形成し、
   前記基板の周縁部に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して第２のブラックマトリクスを形成し、
   前記基板に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、第１のフォトスペーサを前記第１、第２のブラックマトリクスよりも厚く形成し、
   前記第１のフォトスペーサよりも外側であって前記基板の周縁部に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、第２のフォトスペーサを前記第２のブラックマトリクスよりも厚く、前記第１のフォトスペーサよりも薄く形成することを特徴とするカラーフィルタ製造方法。
8. 更に、前記基板の前記画素位置の間に、少なくとも前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、第３のフォトスペーサを前記第１のフォトスペーサよりも薄く形成することを特徴とする請求項７記載のカラーフィルタ製造方法。
9. 前記工程（ａ）では、前記第１の着色層を、前記第１のフォトスペーサの形成位置で前記第２、第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成し、
   前記工程（ｂ）では、前記第２の着色層を、前記第１のフォトスペーサの形成位置で前記第２、第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成し、
   前記工程（ｃ）では、前記第３の着色層を、前記第２のフォトスペーサの形成位置で前記第１、第３のフォトスペーサの形成位置よりも薄く形成し、
   前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層を積層して、前記第１、第２、第３のフォトスペーサを形成し、
   前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、前記第１、第２のブラックマトリクスを形成することを特徴とする請求項８記載のカラーフィルタ製造方法。
10. 前記工程（ｅ）では、前記黒色の着色層を、前記第２のフォトスペーサの形成位置と前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第１、第３のフォトスペーサと前記第１のブラックマトリクスの形成位置よりも薄く形成することを特徴とする請求項９記載のカラーフィルタ製造方法。
11. 前記工程（ａ）では、前記第１の着色層を、前記第１、第２のフォトスペーサの形成位置で前記第３のフォトスペーサの形成位置よりも厚く形成し、
    前記工程（ｂ）では、前記第２の着色層を、前記第１、第２のフォトスペーサの形成位置で前記第３のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置よりも厚く形成し、
    前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層を積層して、前記第１、第３のフォトスペーサを形成し、
    前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して、前記第２のフォトスペーサと前記第１、第２のブラックマトリクスを形成することを特徴とする請求項８記載のカラーフィルタ製造方法。
12. 前記工程（ａ）では、前記第１の着色層を、前記第１、第２のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第３のフォトスペーサの形成位置よりも厚く形成し、
    前記工程（ｂ）では、前記第２の着色層を、前記第１、第２のフォトスペーサと前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第３のフォトスペーサの形成位置よりも厚く形成し、
    前記工程（ｅ）では、前記黒色の着色層を、前記第２のブラックマトリクスの形成位置で前記第１、第２、第３のフォトスペーサ及び前記第１のブラックマトリクスの形成位置よりも薄く形成し、
    前記第１、第２、第３の着色層と前記黒色の着色層を積層して前記第１、第３のフォトスペーサを形成し、
    前記第１、第２の着色層と前記黒色の着色層を積層して前記第２のフォトスペーサと前記第１、第２のブラックマトリクスを形成することを特徴とする請求項８記載のカラーフィルタ製造方法。

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