JP2011082441A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ処理に際して生成されるプロセス量をモニターするモニター装置102と、処理した試料の数に対する前記プロセス量のモニター値の推移を記憶したモニター量変動モデルを備え、該モニター量変動モデルを参照して、次の試料の処理時におけるモニター値を推定するモニター値推定手段104と、前記真空処理装置のプロセス量を制御する際の制御量とモニター値との関連を記憶した制御量計算手段111を備え、該制御量計算手段は、次の試料を処理する際、前記推定されたモニター値と目標値との偏差をもとに前記制御量を計算してプロセス量を制御する。
【選択図】図1
Description
N1:ウェットクリーニングからの処理枚数
B1、C1、D1:長期変動モデル係数
ここでは、N1をウェットクリーニングからの処理枚数としたが、長期変動モデルをリセットするような処理があれば、それを起点とした処理枚数をN1とすることもできる。
N2:ロット内の処理枚数
A2、B2、C2:短期変動モデル係数
制御モデル23は、ガス変更量26(X3)を入力、プラズマ発光モニター値20を出力として、例えば、式3で示すモデルで表される。
X3:制御量
A3:制御モデル係数
プロセスチャンバ100からの出力103は、各モデルの出力18,19,20の組み合わせとして表される。
まず、ステップ604で求めた制御しなかった場合のモニター値をプロットすると、図中の点31となる。モデル移動方法の1つは、移動前の短期変動モデル32を、制御しなかった場合のモニター値31に重なるように平行移動させると移動後の短期変動モデル33となる。例えば、2式で示される短期変動モデルでは、制御しなかった場合のモニター値31を通るように、C2の値を変更することで平行移動することができる。
101 アクチュエータ
102 プロセスモニター
109 長期変動モデルデータベース
110 短期変動モデルデータベース
111 制御量計算手段
113 レシピ
114 装置コントローラ
115 制御モデルデータベース
116 処理履歴管理部
Claims (8)
- 真空処理装置内にプラズマを生成し、生成したプラズマを用いて前記真空処理装置内に配置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、
プラズマ処理に際して生成されるプロセス量をモニターするモニター装置と、
処理した試料の数に対する前記プロセス量のモニター値の推移を記憶したモニター量変動モデルを備え、該モニター量変動モデルを参照して、次回の処理時におけるモニター値を推定するモニター値推定手段と、
前記真空処理装置のプロセス量を制御する際の制御量とモニター値との関連を表す制御モデルを記憶した制御量計算手段を備え、該制御量計算手段は、次回の処理をする際、前記推定されたモニター値と目標値との偏差をもとに前記制御量を計算してプロセス量を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記モニター量変動モデルはウエットクリーニング毎あるいは製品ロットの切り替わり毎にリセットすることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記モニター量変動モデルは、ウエットクリーニング実施時から次回の実施時までの期間に渡り、処理した試料の枚数とこの枚数の試料を処理したときに得られるプロセス量のモニター値の関係を記憶したモデルであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記モニター量変動モデルは、ロット処理の開始時からロット処理の終了時までの期間に渡り、処理した試料の枚数とこの枚数の試料を処理したときに得られるプロセス量のモニター値の関係を記憶したモデルであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記モニター量変動モデルは、ウエットクリーニング実施時から次回の実施時までの期間に渡り、処理した試料の枚数とこの枚数の試料を処理したときに得られるプロセス量のモニター値、およびロット処理の開始時からロット処理の終了時までの期間に渡り、処理した試料の枚数とこの枚数の試料を処理したときに得られるプロセス量のモニター値の関係を記憶したモデルであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
前記次回の処理は、今回と同じ製品処理あるいはクリーニング処理であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
今回の処理は製品処理であり、前記次回の処理はクリーニング処理であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置において、
今回の処理はクリーニング処理であり、前記次回の処理は製品処理であることを特徴とするプラズマ処理装置。
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