JP2011076664A - 垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録媒体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011076664A JP2011076664A JP2009226575A JP2009226575A JP2011076664A JP 2011076664 A JP2011076664 A JP 2011076664A JP 2009226575 A JP2009226575 A JP 2009226575A JP 2009226575 A JP2009226575 A JP 2009226575A JP 2011076664 A JP2011076664 A JP 2011076664A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic recording
- underlayer
- perpendicular magnetic
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】基板上に少なくとも軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層、および保護層を順に成膜する垂直磁気記録媒体の製造方法である。前記下地層は複数層からなり、このうちの少なくとも1層は酸素を1000〜10000wtppm含有する。そして、前記軟磁性層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、少なくとも1回加熱処理を施す。この加熱処理は、基板表面温度で80〜230℃の範囲で行う。
【選択図】図1
Description
垂直磁気記録媒体は、大きく分けて、硬質磁性材料からなる磁気記録層、軟磁性材料からなる軟磁性(裏打ち)層、これら磁気記録層と軟磁性層の間に存在する非磁性材料からなる中間層等を構成要素として備えている。現状ではいずれの層も多層構造をとっている。
垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に少なくとも軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層、および保護層を順に成膜する垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記下地層は複数層からなり、このうちの少なくとも1層は酸素を1000〜10000wtppm含有し、前記軟磁性層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、少なくとも1回加熱処理を施し、該加熱処理は、基板表面温度で80〜230℃の範囲で施すことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記シード層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、前記加熱処理を施すことを特徴とする構成1に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記シード層の成膜後であって、前記下地層の成膜前に、前記加熱処理を施すことを特徴とする構成2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記下地層は、六方晶若しくは菱面体構造を持つ単体材料、又はその合金を主成分とし、さらに酸素または酸化物を含有する材料からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記磁気記録層は、コバルト(Co)を主体とする結晶粒子と、酸化物を主体とする粒界部を有するグラニュラー構造の強磁性層を含むことを特徴とする構成1乃至4のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記グラニュラー構造の強磁性層中に2種類以上の酸化物を含むことを特徴とする構成5に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記磁気記録層の成膜の後に加熱処理を施した後、前記磁気記録層上に炭素系保護層を成膜することを特徴とする構成1乃至6のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
本発明は、構成1にあるように、垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に少なくとも軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層、および保護層を順に成膜する垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記下地層は複数層からなり、このうちの少なくとも1層は酸素を1000〜10000wtppm含有し、前記軟磁性層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、少なくとも1回加熱処理を施し、該加熱処理は、基板表面温度で80〜230℃の範囲で施すことを特徴とするものである。
具体的な上記グラニュラー磁性層を構成するCo系磁性材料としては、非磁性物質である酸化ケイ素(SiO2)や酸化チタン(TiO2)などの前記酸化物を少なくとも一種以上を含有するCoCrPt(コバルト−クロム−白金)やCoCr(コバルト−クロム)、CoPt(コバルト−白金)等の硬磁性体のターゲットを用いて成膜し、hcp結晶構造を形成する材料が望ましい。また、このグラニュラー磁性層の膜厚は、例えば20nm以下であることが好ましい。
特に、前記シード層の成膜後であって、前記下地層の成膜の前に、上記加熱処理を施すことが本発明では好適である。前にも述べたように、下地層は、磁気記録層の下部に位置しており、磁気記録層の結晶配向性及びグラニュラー構造における分離性を制御する、云わば、磁気記録層の土台とも言える非常に重要な部分である。本発明者の考察によれば、このような下地層の成膜の前に、シード層までを成膜した基板を加熱処理することによって、その上に形成される例えばRu下地層の結晶配向性を良好に制御でき、磁気記録層の下部層にあたる下地層自体の結晶配向性を向上させることができるものと考えられる。
また、本発明では、たとえば、軟磁性層とシード層、シード層と下地第1層、下地第1層と下地第2層の各成膜の間の少なくともいずれかで加熱処理を行うような複数回の加熱処理を行なってもよい。この場合、少なくともシード層成膜と下地第1層成膜との間の加熱処理を含めることが好ましい。
(実施例1〜5)
アモルファスのアルミノシリケートガラスをダイレクトプレスで円盤状に成型し、ガラスディスクを作成した。このガラスディスクに研削、研磨、化学強化を順次施し、化学強化ガラスディスクからなる平滑な非磁性ガラス基板を得た。ディスク直径は65mmである。このガラス基板の主表面の表面粗さをAFM(原子間力顕微鏡)で測定したところ、Rmaxが2.18nm、Raが0.12nmという平滑な表面形状であった。なお、Rmax及びRaは、日本工業規格(JIS)に従う。
まず、密着層として、10nmのCr-50Ti層を成膜した。
次に、軟磁性層として、非磁性層を挟んで反強磁性交換結合する2層の軟磁性層の積層膜を成膜した。すなわち、最初に1層目の軟磁性層として、20nmの(30Fe-70Co)-3Ta5Zr層を成膜し、次に非磁性層として、0.7nmのRu層を成膜し、さらに2層目の軟磁性層として、1層目の軟磁性層と同じ、(30Fe-70Co)-3Ta5Zr層を20nm成膜した。
ここで、チャンバー内で、上記シード層までを成膜した基板に対して、80℃(基板表面温度)となるように加熱処理を行った。
ここで、チャンバー内で、上記補助記録層までを成膜した基板に対して、240℃(基板表面温度)となるように、2回目の加熱処理を行った。
そして、スパッタ装置から取り出し、この後、PFPE(パーフロロポリエーテル)からなる潤滑層をディップコート法により形成した。潤滑層の膜厚は1nmとした。
以上の製造工程により、実施例1の垂直磁気記録媒体が得られた。
実施例3におけるグラニュラー磁性層の組成を、90(Co-10Cr-16Pt)-10mol.%SiO2(実施例6)、或いは、90(Co-10Cr-16Pt)-10mol.%TiO2(実施例7)とし、さらにHcが5000〜5030Oeの範囲内となるようにグラニュラー磁性層の膜厚を適宜調整したこと以外は、実施例3と同様にして、実施例6,7の垂直磁気記録媒体を得た。
実施例1におけるシード層の成膜工程と下地層の成膜工程との間に行った加熱処理において、この加熱処理を省く(比較例1)、或いは基板温度を表1に示したように変更し(比較例2,3)、さらにHcが5000〜5030Oeの範囲内となるようにグラニュラー磁性層の膜厚を適宜調整したこと以外は、実施例1と同様にして、比較例1〜3の垂直磁気記録媒体を得た。
実施例3における下地第2層の組成をRu(単体)とし、さらにHcが5000〜5030Oeの範囲内となるようにグラニュラー磁性層の膜厚を適宜調整したこと以外は、実施例3と同様にして、比較例4の垂直磁気記録媒体を得た。
上記実施例、比較例の各垂直磁気記録媒体を用いて、以下の評価を行った。
すなわち、上記実施例、比較例の各垂直磁気記録媒体における下地層のRu結晶配向度をX線回折装置により測定し、その結果を下記表1に示した。Ru結晶粒(hcp(002))の垂直方向への配向分散の指標となるΔθ50値(単位は「度」)が小さいほど、Ruのhcp結晶粒の配向が垂直方向へ好適に制御されていることを示している。
また、上記実施例、比較例の各垂直磁気記録媒体に対し、静磁気特性、記録再生特性の評価を行った。静磁気特性の評価は、Kerr効果測定装置を用いて、保磁力(Hc)を測定した。また、記録再生特性の評価は、SPT/TMR素子を備えた垂直磁気記録方式用の磁気ヘッドとR/Wアナライザーを備えたスピンスタンドテスターを用いて、線記録密度1500kFCI(KiloFlux Change per inch)にて、S/N(シグナル/ノイズ)比と、トラック幅(MWW)を測定した。なお、上述したように各媒体のグラニュラー磁性層の膜厚を適宜調整してHcをほぼ同等の値としたことで、MWWの値はほぼ同等となったため表1では省略している。
得られた結果を纏めて下記表1に示した。
また、グラニュラー磁性層の酸化物を1種類とした実施例6,7は、実施例3よりもSNが若干劣る。これは、酸化物を複合化することで分離性が向上していることを示唆するものである。
したがって、本発明の実施例の垂直磁気記録媒体は、良好な結晶配向性を備えており、またSNが高く、よりいっそうの高記録密度化に対応可能な特性が得られることが確認できた。
2 密着層
3 軟磁性層
4 シード層
5 下地層
6 垂直磁気記録層
7 保護層
8 潤滑層
Claims (7)
- 垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、
基板上に少なくとも軟磁性層、シード層、下地層、磁気記録層、および保護層を順に成膜する垂直磁気記録媒体の製造方法において、
前記下地層は複数層からなり、このうちの少なくとも1層は酸素を1000〜10000wtppm含有し、
前記軟磁性層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、少なくとも1回加熱処理を施し、該加熱処理は、基板表面温度で80〜230℃の範囲で施すことを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 前記シード層の成膜後であって、前記下地層における酸素を含有する層のうちの最下層の成膜前に、前記加熱処理を施すことを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記シード層の成膜後であって、前記下地層の成膜前に、前記加熱処理を施すことを特徴とする請求項2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記下地層は、六方晶若しくは菱面体構造を持つ単体材料、又はその合金を主成分とし、さらに酸素または酸化物を含有する材料からなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記磁気記録層は、コバルト(Co)を主体とする結晶粒子と、酸化物を主体とする粒界部を有するグラニュラー構造の強磁性層を含むことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記グラニュラー構造の強磁性層中に2種類以上の酸化物を含むことを特徴とする請求項5に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記磁気記録層の成膜の後に加熱処理を施した後、前記磁気記録層上に炭素系保護層を成膜することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009226575A JP5594716B2 (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009226575A JP5594716B2 (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011076664A true JP2011076664A (ja) | 2011-04-14 |
JP5594716B2 JP5594716B2 (ja) | 2014-09-24 |
Family
ID=44020503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009226575A Expired - Fee Related JP5594716B2 (ja) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5594716B2 (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004280949A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 垂直磁気記録媒体、および、その製造方法 |
JP2005100537A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置 |
JP2008090906A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
WO2008059562A1 (fr) * | 2006-11-14 | 2008-05-22 | Fujitsu Limited | Dispositif de mémoire magnétique |
JP2008140460A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
JP2008276913A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Hoya Corp | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2009146507A (ja) * | 2007-12-14 | 2009-07-02 | Showa Denko Kk | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
-
2009
- 2009-09-30 JP JP2009226575A patent/JP5594716B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004280949A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 垂直磁気記録媒体、および、その製造方法 |
JP2005100537A (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-14 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置 |
JP2008090906A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Hoya Corp | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
WO2008059562A1 (fr) * | 2006-11-14 | 2008-05-22 | Fujitsu Limited | Dispositif de mémoire magnétique |
JP2008140460A (ja) * | 2006-11-30 | 2008-06-19 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
JP2008276913A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Hoya Corp | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2009146507A (ja) * | 2007-12-14 | 2009-07-02 | Showa Denko Kk | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5594716B2 (ja) | 2014-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5360892B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5807944B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5583997B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP5638814B2 (ja) | 片面垂直磁気記録媒体 | |
US9472227B2 (en) | Perpendicular magnetic recording media and methods for producing the same | |
JP4380577B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
US20090311557A1 (en) | Perpendicular magnetic recording disk and method of manufacturing the same | |
WO2010064724A1 (ja) | 磁気ディスク及びその製造方法 | |
JP2011034603A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP2011253597A (ja) | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 | |
JP2009238298A (ja) | 垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2008276915A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2011248969A (ja) | 垂直磁気ディスク | |
WO2010038448A1 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP2010061724A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP2010102816A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP5782819B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP4634267B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP5105594B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP5594716B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5395991B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5401147B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2010257564A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP5455188B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2011096333A (ja) | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120929 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140303 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140701 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140730 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5594716 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |