JP2011069950A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】コンタクトホールのテーパ角を大きく、かつ、色重ね部のテーパ角を小さく形成した、COA型の液晶表示装置およびその製造方法の提供する。
【解決手段】COA型の液晶表示装置およびその製造方法にあって、
カラーフィルタをフォトリソグラフィ技術によって形成する際に、カラーフィルタのコンタクトホールと色重ね部のいずれか一方あるいは双方をハーフトーン露光することによって、色重ね部のテーパ角がコンタクトホールのテーパ角よりも小さく形成する。
【選択図】図1

Description

本発明は液晶表示装置およびその製造方法に係り、いわゆるCOA(Color-Filter On Array)型の液晶表示装置およびその製造方法に関する。
液晶表示装置は、液晶を挟持して対向配置される一対の基板の液晶側の面に、表示領域を構成する多数の画素がマトリックス状に形成されている。そして、一方の基板の液晶側の面には、少なくとも、各画素に設けられた画素電極、画素選択用の薄膜トランジスタ、この薄膜トランジスタを駆動させるための信号線(ゲート信号線)、前記薄膜トランジスタを通して画素電極に映像信号を供給する信号線(ドレイン信号線)等が形成されている。
カラー表示用の液晶表示装置は、通常、画素電極、薄膜トランジスタが形成された前記基板(TFT基板)と異なる他方の基板側に、顔料が含有された樹脂材からなるカラーフィルタが形成されており、このカラーフィルタによって、互いに隣接するたとえば3個の画素においてカラー表示用の単位画素を構成するようになっている。
しかし、近年、カラーフィタルは、画素電極、薄膜トランジスタが形成された基板側に形成されるものが知られるに至っている。この種の液晶表示装置がCOA(Color-Filter On Array)型と称される所以である。この場合、カラーフィルタは、薄膜トランジスタを被って形成し、該薄膜トランジスタを液晶との直接の接触による特性劣化を回避させる保護膜を兼ねた構成とするのが通常である。
この場合、画素電極は、液晶に電界を発生させるための電極となることから、カラーフィルタの上層に形成されることになる。このため、カラーフィルタには、カラーフィルタの下層側に形成される薄膜トランジスタと電気的な導通を図るため、コンタクトホールが形成されるのが通常となる。
本願発明に関連する文献としてはたとえば下記特許文献1、2がある。特許文献1は、COA型の液晶表示装置において、カラーフィルタに、レーザ照射法、ドライエッチング法、あるいは露光、一括現像によって、微細なコンタクトホールを形成する旨の記載がなされている。また、特許文献2は、COA型の液晶表示装置において、遮光膜上にカラーフィルタの材料であるネガ型感光性樹脂膜を形成し、遮光膜をマスクとして背面露光、現像することにより、カラーフィルタにコンタクトホールを形成する旨の記載がなされている。
特開2001−330851号公報 特開2000−29069号公報
上述したCOAの液晶表示装置において、カラーフィルタに形成されるコンタクトホールの径を小さくすることは画素の開口率を向上させる観点から好ましい。しかし、樹脂材からなるカラーフィルタは層厚が比較的大きく、コンタクトホールの径を小さくしようとする場合には、コンタクトホールの側壁面を急峻に、すなわち、基板面に対する角度(コンタクトホール部のテーパ角)を大きくするように制御することが望まれる。
ここで、カラーフィルタは、たとえば赤(R)、青(G)、緑(B)の各色を呈し、マトリックス状に配置される各画素において、たとえばy方向に配列される各画素を被う同一色のカラーフィルタが、x方向へ、たとえば、赤(R)、青(G)、緑(B)と、この順番が繰り返されるように配置される。この場合、隣接する色違いカラーフィルタの境界となる部分は一方の側のカラーフィルタの上に他方のカラーフィルタが重なるように構成されるが、この重なり部(色重ね部)における幅(色重ね量)、および色重ね部における高さ(色重ね段差)は小さいことが望ましい。このようにした場合、画素の開口率を向上させることができるとともに、カラーフィルタの表面を平坦化でき、信頼性ある配向膜の形成ができるからである。
しかし、カラーフィタルは、周知のフォトリソグラフィ技術によって前記コンタクトホールの形成とともにパターン化する場合、コンタクトホール部のテーパ角を大きくなるように制御することによって、その端辺の側壁面が急峻に、すなわち、基板面に対する角度(色重ね部のテーパ角)も大きくなってしまう。このため、隣接する色違いカラーフィルタにおいて、その色重ね部における色重ね量、および色重ね段差は大きくなってしまうことになる。
本発明の目的は、コンタクトホール部のテーパ角を大きく、色重ね部のテーパ角を小さく形成した、COA型の液晶表示装置およびその製造方法を提供することにある。
本発明の液晶表示装置の製造方法は、COA型のカラーフィルタのパターンするにあって、いわゆるハーフトーン露光を用いることによって、コンタクトホール部のテーパ角を大きく、色重ね部のテーパ角を小さく形成できるようにしたものである。
本発明の構成は、たとえば、以下のようなものとすることができる。
(1)本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶を挟持して対向配置される一対の基板のうち一方の基板の前記液晶側の面に、第1方向に延在され前記第1方向と交差する第2方向に並設されるゲート信号線と、前記第2方向に延在され前記第1方向に並設されるドレイン信号線と、一対の隣接するゲート信号線と一対の隣接するドレイン信号線に囲まれる領域にそれぞれ前記ゲート信号線からの走査信号によって駆動する薄膜トランジスタと、前記ゲート信号線、前記ドレイン信号線、前記薄膜トランジスタを被って形成されたカラーフィルタと、このカラーフィルタの上方の層に形成された画素電極と、を備えた液晶表示装置の製造方法に関する。
さらに本発明の液晶表示装置の製造方法は、前記カラーフィルタが、平面的に観て、前記ゲート信号線あるいは前記ドレイン信号線上において、隣接する色の異なる一方のカラーフィルタと他方のカラーフィルタとの色重ね部を有して形成されるとともに、前記画素電極と前記薄膜トランジスタを電気的に接続させるためのコンタクトホールを有し、それぞれのカラーフィルタをフォトリソグラフィ技術によって形成する際に、それぞれのカラーフィルタのコンタクトホール部と色重ね部のいずれか一方あるいは双方をハーフトーン露光することによって、前記色重ね部のテーパ角が前記コンタクトホールのテーパ角よりも小さく形成する工程を備えることを特徴とする。
(2)本発明の液晶表示装置の製造方法は、(1)において、前記カラーフィルタの前記色重ね部のテーパ角は30°以上75°以下であることを特徴とする。
(3)本発明の液晶表示装置の製造方法は、(1)において、前記カラーフィルタの前記コンタクトホール部のテーパ角は45°以上90°以下であることを特徴とする。
(4)本発明の液晶表示装置の製造方法は、(1)において、カラーフィルタは顔料が含有されて構成され、その顔料濃度が10%以上60%以下であることを特徴とする。
(5)本発明の液晶表示装置の製造方法は、(1)において、前記カラーフィルタの前記色重ね部における色重ね量は1μm以上7μm以下であることを特徴とする。
(6)本発明の液晶表示装置の製造方法は、(1)において、前記カラーフィルタの前記色重ね部におけるハーフトーン露光は前記カラーフィタルの端辺から内側へ1μm以上5μm以下の範囲で行うことを特徴とする。
(7)本発明の液晶表示装置の製造方法は、(1)において、前記カラーフィルタの前記コンタクト部におけるハーフトーン露光は前記コンタクト部の外輪郭から内側へ1μm以上5μm以下の範囲で行うことを特徴とする。
(8)本発明の液晶表示装置は、液晶を挟持して対向配置される一対の基板のうち一方の基板の前記液晶側の面に、第1方向に延在され前記第1方向と交差する第2方向に並設されるゲート信号線と、前記第2方向に延在され前記第1方向に並設されるドレイン信号線と、一対の隣接するゲート信号線と一対の隣接するドレイン信号線に囲まれる領域にそれぞれ前記ゲート信号線からの走査信号によって駆動する薄膜トランジスタと、前記ゲート信号線、前記ドレイン信号線、前記薄膜トランジスタを被って形成されたカラーフィルタと、このカラーフィルタの上方の層に形成された画素電極と、を備える。
さらに本発明の液晶表示装置は、前記カラーフィルタが、平面的に観て、前記ゲート信号線あるいは前記ドレイン信号線上において、隣接する色の異なる一方のカラーフィルタと他方のカラーフィルタとの色重ね部を有して形成されるとともに、前記画素電極と前記薄膜トランジスタを電気的に接続させるためのコンタクトホールを有して構成される、前記色重ね部のテーパ角が前記コンタクトホールのテーパ角よりも小さく形成されていることを特徴とする。
(9)本発明の液晶表示装置は、(8)において、前記カラーフィルタの前記色重ね部のテーパ角は30°以上75°以下であることを特徴とする。
(10)本発明の液晶表示装置は、(8)において、前記カラーフィルタの前記コンタクトホールのテーパ角は45°以上90°以下であることを特徴とする。
(11)本発明の液晶表示装置は、(8)において、カラーフィルタは顔料が含有されて構成され、その顔料濃度が10%以上60%以下であることを特徴とする。
(12)本発明の液晶表示装置は、(8)において、前記カラーフィルタの前記色重ね部における色重ね量は1μm以上7μm以下であることを特徴とする。
なお、上記した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、上記した構成以外の本発明の構成の例は、本願明細書全体の記載または図面から明らかにされる。
上述した液晶表示装置およびその製造方法によれば、COA型のカラーフィルタにおいて、コンタクトホール部のテーパ角を大きく、かつ、色重ね部のテーパ角を小さく形成できるようになる。
本発明のその他の効果については、明細書全体の記載から明らかにされる。
本発明の液晶表示装置のカラーフィルタの製造方法の実施例を示す説明図である。 本発明の液晶表示装置の画素の実施例を示す平面図である。 図2のIII−III線における断面図である。 図2のIV−IV線における断面図である。 カラーフィタルに含有させる顔料濃度を変化させた場合の、露光量に対して得られる色重ね部のテーパ角を示すグラフである。 隣接するカラーフィルタの色重ね量を変化させた場合の、色重ね部のテーパ角に対する色重ね段差を示すグラフである。
本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。なお、各図および各実施例において、同一または類似の構成要素には同じ符号を付し、説明を省略する。
〈画素の構成〉
図2は、本発明の液晶表示装置の画素の一実施例を示した平面図である。図2に示す画素はマトリックス状に配置された複数の画素のうちの一つを示している。このため、図示の画素に対して上下左右には同じ構成の画素が形成されている。また、図2のIII−III線における断面図を図3に、図2のIV−IV線における断面図を図4に示している。図3、図4は、いずれも、液晶を挟持して対向配置される一対の基板のうちいわゆるTFT基板と称される基板側に形成された画素を示している。
図2において、基板SUB1(図3、4参照)の表面に、たとえばポリシリコンからなる半導体層PSが島状に形成されている。この半導体層PSは薄膜トランジスタTFTの半導体層となるもので、中央において屈曲部を有し両端において面積の大きな部分を備えたパターンで構成されている。なお、薄膜トランジスタTFTは後述するゲート電極が半導体層PSよりも上層に形成されるいわゆるトップゲート型の構造からなるMIS(Metal Insulator Semiconductor)トランジスタとなっている。
基板SUB1の表面には、半導体層PSをも被って絶縁膜GI(図3、4参照)が形成されている。この絶縁膜GIは薄膜トランジスタTFTの形成領域において前記薄膜トランジスタTFTのゲート絶縁膜として機能するようになっている。
絶縁膜GIの表面には、図中x方向に延在しy方向に並設されるゲート信号線GLが形成されている。これらゲート信号線GLは、図中y方向に並設される各画素の間を走行するようにして形成される。また、ゲート信号線GLは、それ自体が前記半導体層PSの一部を交差するようにして形成されるとともに、前記半導体層PSの他の部分を交差する突起部(図中符号GLpjで示す)を有している。これにより、ゲート信号線GLは半導体層PSと交差する部分において薄膜トランジスタTFTのゲート電極(ダブルゲート)としての機能を有するようになっている。なお、半導体層PSは、ゲート信号線GLの形成後において前記ゲート電極をマスクとして不純物がドープされることにより、前記ゲート電極の直下の領域に薄膜トランジスタTFTのチャネル領域等が形成されるようになっている。
絶縁膜GIの表面には、ゲート信号線GLをも被って層間絶縁膜IN1(図3、4参照)が形成され、この層間絶縁膜IN1の上面には、図中y方向に延在しx方向に並設されるドレイン信号線DLが形成されている。これらドレイン信号線DLは、図中x方向に並設される各画素の間を走行するようにして形成される。ドレイン信号線DLは、前記半導体層PSの一端の面積が大きく形成された領域上を走行するように形成され、層間絶縁膜IN1に予め形成されたスルーホールTH1を通して前記半導体層PSの一端に電気的に接続されている。ドレイン信号線DLの半導体層PSと電気的に接続された部分は薄膜トランジスタTFTのドレイン電極として機能するようになっている。
また、ドレイン信号線DLの形成の際には、前記半導体層PSの他端の面積が大きく形成された領域上に薄膜トランジスタTFTのソース電極STが形成され、このソース電極STは層間絶縁膜IN1に予め形成されたスルーホールTH2を通して前記半導体層PSの他端に電気的に接続されている。このソース電極STは、その延在部に比較的大きな面積を有し、この部分において後述の画素電極PXと接続されるようになっている。
このように薄膜トランジスタTFTのドレイン電極(ドレイン信号線DL)、およびソース電極STが形成された層間絶縁膜IN1の表面には、ドレイン信号線DL、およびソース電極STをも被って保護膜PAS(図3、4参照)が形成されている。この保護膜PASはたとえば薄膜トランジスタTFTの液晶との接触を回避するために形成され、たとえば無機絶縁膜PAS1(図3、4参照)および有機絶縁膜PAS2(図3、4参照)が順次積層された2層構造からなっている。
ここで、有機絶縁膜PAS2は、たとえば樹脂材から構成され、カラーフィルタCFを兼ねた構成となっている。すなわち、有機絶縁膜PAS2は樹脂材に所定の色の顔料が含有されたものとなっている。カラーフィルタCFは、図2において、たとえば図中y方向に並設される各画素の画素群に対して同色となっており、前記各画素を被った帯状のパターンで形成されている。そして、このような帯状のパターンからなるカラーフィルタCFは、図中x方向に、たとえば、青色(B)のカラーフィルタCF(図中符号CF(B)で示す)、赤色(R)のカラーフィルタCF(図中符号CF(R)で示す)、緑色(G)のカラーフィルタ(図中符号CF(G)で示す)の順で、繰り返し配置されるようになっている。図2に示す画素は、たとえば、その左右に隣接する2つの画素とともにカラー表示用の単位画素を構成するようになっている。図2に示すカラーフィルタCF(R)は、図中左側に隣接するカラーフィルタCF(B)とドレイン信号線DL(図中符号DL(DLl)で示す)上において重なり部(色重ね部)を有し、図中右側に隣接するカラーフィルタCF(G)とドレイン信号線DL(図中符号DL(DLr)で示す)上において重なり部(色重ね部)を有するようになっている。なお、このカラーフィルタCFの構成については後に詳述する。
保護膜PAS2を兼ねるカラーフィルタCFの上面には、たとえばITO(Indium Tin Oxide)の透明導電膜からなる対向電極CTが形成されている。この対向電極CTは、各画素においてほぼ全域を被う面状の電極として形成され、たとえば、ドレイン信号線DLを跨って図中x方向に並設される各画素に共通に形成されている。この対向電極CTには表示領域の外側から映像信号に対して基準となる基準信号が供給されるようになっている。なお、この対向電極CTは、薄膜トランジスタTFTの近傍において開口部OPが形成されている。後述するように、この部分は、前記薄膜トランジスタTFTのソース電極STと後述の画素電極PXとの電気的接続が図れるようになっており、この電気的接続部が対向電極CTにショートしてしまうのを回避させるためである。
対向電極CTが形成された表面には前記対向電極CTをも被って層間絶縁膜IN2(図3、4参照)が形成され、この層間絶縁膜IN2の表面には、画素ごとにたとえばITOからなる画素電極PXが形成されている。画素電極PXは、たとえば図中y方向に延在しx方向に並設される複数(図中ではたとえば2個示している)の線状の電極から構成されている。そして、これら電極の同方向の各端部はそれぞれ互いに接続されたパターンとなっている。複数の電極を同電位にするためである。また、画素電極PXは、薄膜トランジスタTFT側の端部において、予め形成された層間絶縁膜IN2、保護膜PAS2(カラーフィルタCF)、保護膜PAS1に形成されたスルーホールTH3を通して薄膜トランジスタTFTのソース電極STと電気的に接続されている。保護膜PAS2(カラーフィルタCF)上に形成された対向電極CTは、前記スルーホールTH3の周辺を露出させる前記開口部OPが形成され、この開口部OPによって、画素電極PXと対向電極CTとの電気的接続を回避させるようになっている。
ここで、保護膜PAS2(カラーフィルタCF)に形成される前記スルーホールTH3は、図3に示すように、その側壁面の基板面に対する角度θ2(コンタクトホールTH3のテーパ角θ2)が、45°以上90°以下の値に設定されている。このことから、コンタクトホールTH3のテーパ角θ2は比較的大きく(急峻に)設定され、該コンタクトホールTH3の径を小さくすることができるようになる。したがって、画素の開口率を向上させる効果を奏するようになる。一方、保護膜PAS2(カラーフィルタCF)の辺に相当する色重ね部は、図4に示すように、その側壁面の基板に対する角度θ1(色重ね部のテーパ角θ1)が、コンタクトホールTH3のテーパ角θ2よりも小さく、30°以上75°以下の値に設定されている。即ち、θ1とθ2の関係は、θ1<θ2となる用に設定される。この場合、色重ね分のテーパ角θ1は比較的小さく(緩やかに)設定され、色重ね部における幅(色重ね量)、および色重ね部における高さ(色重ね段差)を小さくできる効果を奏する。色重ね部における色重ね量を小さくできることにより、画素の開口率を向上させることができる。画素の開口率を大きくするためには、色重ね量を1μm以上7μm以下の範囲にすればよい。図4における本実施例では、ドレイン線DLの幅を3μmとしてある。ドレイン線DLはメタル配線であり、光を透過しない。そのため、ドレイン線DLと同等の幅に色重ね量を調整することで、画素の開口率を向上させることができる。
また、層間絶縁膜IN2上には配向膜が形成されている。色重ね段差が大きくなると配向膜にも段差の影響がでる。色重ね部における色重ね段差を小さくできることにより、配向膜を信頼性よく形成できるようになる。配向膜の乱れを抑制するためには、色重ね段差は1.0μm以下にすれば良い。
色重ね分のテーパ角θ1を上述した範囲内で設定することにより、色重ね量を1μm以上7μm以下の範囲に、また色重ね段差を1.0μm以下にできるようになる。
なお、図3、図4では、図示していないが、層間絶縁膜IN2上には画素電極PXをも被って配向膜が形成され、この配向膜は液晶と直接に接触されて、液晶の分子の初期配向方向を決定するようになっている。上述したように、カラーフィルタCFは、それらの色重ね部において、色重ね段差が小さく形成されていることから、配向膜を信頼性よく形成することができる。
〈製造方法〉
次に、上述したカラーフィルタCFの製造方法について説明する。ここで、カラーフィルタCFの製造方法の説明に先立ち、カラーフィルタCFのフォトリソグラフィ技術による形成の際の露光、カラーフィルタCFに含有させる顔料濃度、カラーフィルタCFの端辺に形成されるテーパ角、さらに、カラーフィルタCF同士のテーパ角の部分における色重ね段差、および色重ね量において一定の相関があることについて説明する。
まず、図5に示すグラフは、横軸に露光量(mJ/cm2)を、縦軸にテーパ角(°)をとっており、カラーフィタルCFに含有させる顔料濃度を変化させた場合の、露光量に対するテーパ角を示している。顔料濃度は60%、35%、10%に設定してある。カラーフィルタCFの基板SUB1に対する密着性を向上させるためには露光量を大きくすることがよいことが確かめられているが、図5から明らかとなるように、露光量を大きくするにしたがってテーパ角も大きくなってしまう。このため、テーパ角を形成する部分においてハーフトーン露光することにより、基板SUB1に対する密着性を確保したカラーフィルタCFにおいてテーパ角を所望の値に制御できることが判る。また、図6に示すグラフは、横軸にテーパ角(°)を、縦軸に色重ね段差(μm)をとっており、隣接するカラーフィルタCFの色重ね量を変化させた場合の、テーパ角に対する色重ね段差を示している。図6から明らかとなるように、カラーフィルタCFのテーパ角を制御できることによって、色重ね段差を所望の値に制御することができる。
図1は、図2、3、4に示したカラーフィルタCFのうちたとえばカラーフィタルCF(R)を例に挙げて示している。カラーフィタルCF(B)、カラーフィタルCF(G)においても、後述する構成を適用できる。前記カラーフィタルCF(R)は、樹脂材に顔料が含有されて構成され、フォトリソグラフィ技術によって、たとえば図中y方向に並設される各画素に共通に被って形成されることは上述した通りである。
カラーフィルタCF(R)の図中左側辺は、図中左側に隣接するカラーフィルタ(図示せず)との色重ね部PL(図中PLlで示す)となり、カラーフィルタCF(R)の図中右側辺は、図中右側に隣接するカラーフィルタ(図示せず)との色重ね部PL(図中PLrで示す)となる。ここで、カラーフィルタCF(R)の幅Wを画素寸法と称する。また、カラーフィルタCF(R)の各辺から内側へw1の幅分だけハーフトーン露光する場合があり、このw1を色重ね分のハーフトーン加工寸法と称する。なお、図中、色重ね分PLの幅と色重ね分のハーフトーン加工寸法w1を一致づけて描画しているが、これらは必ずしも一致するものではなく、前記色重ね分PLの幅は色重ね量と同じ概念で用いている。
また、カラーフィルタCF(r)の図中下側の中央部には正方形状のスルーホールTH3が形成される領域となっている。ここで、ここでスルーホールTH3の一辺の長さLをコンタクトホール加工径と称する。また、スルーホールTH3のテーパ角を所定の値にするため、スルーホールTH3の外輪郭から内側へw2の幅分だけハーフトーン露光する場合があり、このw2をコンタクトホール部のハーフトーン加工寸法と称する。
表1は、カラーフィルタCFの上述した構成において、顔料濃度、フォトリソグラフィ技術における露光量、コンタクトホール部のハーフトーン加工寸法、色重ね部のハーフトーン加工寸法等を種々変化させて構成した場合(実施例1〜実施例20)に得られるコンタクトホール部のテーパ角θ2、および色重ね部のテーパ角θ1等を示している。
Figure 2011069950
表1中、まず、実施例1ないし実施例8は、色重ね量を一定とし、コンタクトホール部の設定を変化させた場合のハーフトーン加工寸法等の関係を示している。実施例1ないし実施例3は、カラーフィルタCFの顔料濃度(%)、露光量(mJ/cm2)、コンタクトホール部の加工経(μm)を、それぞれ、60%、200mJ/cm2、9μmとした。実施例1でコンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を1μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が90°となった。また、実施例2でコンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を2μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が80°となった。また、実施例3でコンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を3μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が70°となった。これに対し、比較例1に示すように、コンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を0μmとした場合、コンタクトホール部のテーパ角は120°となり逆テーパ形状となった。画素電極PXは、スルーホールTH3を通して薄膜トランジスタTFTのソース電極STと電気的に接続する必要がある。スルーホールTH3の側壁が逆テーパになると、画素電極PXとソース電極との電気的接続が困難になる。画素電極PXとソース電極間の断線を防ぐため、コンタクトホールTH3の側壁面の角度θ2は90°以下に形成する。好ましくはコンタクトホールTH3の側壁面の角度θ2は45°≦θ2≦90°に形成する。
実施例4ないし実施例6は、カラーフィルタCFの顔料濃度(%)、露光量(mJ/cm2)、コンタクトホール部の加工経(μm)を、それぞれ、35%、175mJ/cm2、7μmとした。実施例4でコンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を1μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が70°となった。また、実施例5でコンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を2μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が60°となった。また、実施例6でコンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を3μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が50°となった。これに対し、比較例2に示すように、コンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を0μmとした場合、コンタクトホール部のテーパ角は95°となり、逆テーパとなった。実施例7および実施例8は、カラーフィルタCFの顔料濃度(%)、露光量(mJ/cm2)、コンタクトホール部の加工経(μm)を、それぞれ、10%、200mJ/cm2、5μmとした。実施例7でコンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を1μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が55°となった。また、実施例8でコンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を2μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が45°となった。これに対し、比較例3に示すように、コンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を0μmとした場合、コンタクトホール部のテーパ角は95°となり、逆テーパとなった。
次に、表1中、実施例9ないし実施例17は、コンタクトホール加工径およびコンタクトホールのハーフトーン加工寸法を一定とし、色重ね部の設定を変化させた場合のハーフトーン加工寸法等の関係を示している。実施例9ないし実施例11は、カラーフィルタCFの顔料濃度(%)、露光量(mJ/cm2)、画素寸法(μm)を、それぞれ、60%、125mJ/cm2、50μmとした。実施例9で色重ね部のハーフトーン加工寸法を1μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が75°、色重ね量が5μm、色重ね段差が1.0μmとなった。実施例10で色重ね部のハーフトーン加工寸法を3μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が65°、色重ね量が3μm、色重ね段差が0.6μmとなった。実施例11で色重ね部のハーフトーン加工寸法を5μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が55°、色重ね量が1μm、色重ね段差が0.3μmとなった。これに対し、比較例4に示すように、色重ね部のハーフトーン加工寸法を0μmとした場合、色重ね部のテーパ角が90°、色重ね量が5μm、色重ね段差が1.2μmとなった。実施例12ないし実施例14は、カラーフィルタCFの顔料濃度(%)、露光量(mJ/cm2)、画素寸法(μm)を、それぞれ、35%、140mJ/cm2、37.5μmとした。実施例12で色重ね部のハーフトーン加工寸法を1μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が70°、色重ね量が3μm、色重ね段差が0.7μmとなった。実施例13で色重ね部のハーフトーン加工寸法を3μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が60°、色重ね量が5μm、色重ね段差が0.8μmとなった。実施例14で色重ね部のハーフトーン加工寸法を5μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が50°、色重ね量が7μm、色重ね段差が1.0μmとなった。これに対し、比較例5に示すように、色重ね部のハーフトーン加工寸法を0μmとした場合、色重ね部のテーパ角が80°、色重ね量が5μm、色重ね段差が1.1μmとなった。実施例15ないし実施例17は、カラーフィルタCFの顔料濃度(%)、露光量(mJ/cm2)、画素寸法(μm)を、それぞれ、10%、120mJ/cm2、25μmとした。実施例15で色重ね部のハーフトーン加工寸法を1μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が50°、色重ね量が3μm、色重ね段差が0.6μmとなった。実施例16で色重ね部のハーフトーン加工寸法を3μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が40°、色重ね量が3μm、色重ね段差が0.5μmとなった。実施例17で色重ね部のハーフトーン加工寸法を5μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が30°、色重ね量が3μm、色重ね段差が0.4μmとなった。
さらに、表1中、実施例18、実施例19は、コンタクトホール部および色重ね分の双方の形成において、ハーフトーン加工寸法等の関係を示している。実施例18は、カラーフィルタCFの顔料濃度(%)、露光量(mJ/cm2)、コンタクトホール部の加工経(μm)を、それぞれ、60%、100mJ/cm2、7μmとした。コンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を0μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が78°となった。そして、画素寸法を25μm、色重ね部のハーフトーン加工寸法を3μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が40°、色重ね量が3μm、色重ね段差が0.5μmとなった。実施例19は、カラーフィルタCFの顔料濃度(%)、露光量(mJ/cm2)、コンタクトホール部の加工経(μm)を、それぞれ、35%、200mJ/cm2、9μmとした。コンタクトホール部のハーフトーン加工寸法を2μmとすることによって、コンタクトホール部のテーパ角が70°となった。そして、画素寸法を50μm、色重ね部のハーフトーン加工寸法を5μmとすることによって、色重ね部のテーパ角が60°、色重ね量が1μm、色重ね段差が0.4μmとなった。
以上、説明したことから明らかなように、本発明による液晶表示装置およびその製造方法によれば、ハーフトーン露光を用いることにより、COA型のカラーフィルタにおいて、コンタクトホール部のテーパ角を大きく、色重ね部のテーパ角を小さく形成できる。
以上、本発明を実施例を用いて説明してきたが、これまでの各実施例で説明した構成はあくまで一例であり、本発明は、技術思想を逸脱しない範囲内で適宜変更が可能である。また、それぞれの実施例で説明した構成は、互いに矛盾しない限り、組み合わせて用いてもよい。
SUB1、SUB2……基板、TFT……薄膜トランジスタ、PS……半導体層、GI……ゲート絶縁膜、GL……ゲート信号線、IN1、IN2……層間絶縁膜、DL……ドレイン信号線、ST……ソース電極、PAS……保護膜、PAS1……無機保護膜、PAS2……有機保護膜(カラーフィタル)、CF……カラーフィルタ(有機保護膜)、CT……対向電極、OP……孔(対向電極に形成された孔)、PX……画素電極、TH1、TH2、TH3……コンタクトホール、PL……色重ね部。

Claims (12)

  1. 液晶を挟持して対向配置される一対の基板のうち一方の基板の前記液晶側の面に、第1方向に延在され前記第1方向と交差する第2方向に並設されるゲート信号線と、前記第2方向に延在され前記第1方向に並設されるドレイン信号線と、
    前記ゲート信号線からの走査信号によって駆動する薄膜トランジスタと、
    前記ゲート信号線、前記ドレイン信号線、前記薄膜トランジスタを被って形成されたカラーフィルタと、このカラーフィルタの上方の層に形成された画素電極と、を備えた液晶表示装置の製造方法にあって、
    前記カラーフィルタは、隣接する一方のカラーフィルタと他方のカラーフィルタとが重なる色重ね部を有して形成されるとともに、前記画素電極と前記薄膜トランジスタを電気的に接続させるためのコンタクトホールが形成され、
    前記カラーフィルタをフォトリソグラフィ技術によって形成する際に、前記カラーフィルタのコンタクトホール部と色重ね部のいずれか一方あるいは双方をハーフトーン露光することによって、前記色重ね部のテーパ角が前記コンタクトホールのテーパ角よりも小さく形成する工程を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  2. 前記カラーフィルタの前記色重ね部のテーパ角は30°以上75°以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
  3. 前記カラーフィルタの前記コンタクトホール部のテーパ角は45°以上90°以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
  4. カラーフィルタは顔料が含有されて構成され、その顔料濃度が10%以上60%以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
  5. 前記カラーフィルタの前記色重ね部における色重ね量は1μm以上7μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
  6. 前記カラーフィルタの前記色重ね部におけるハーフトーン露光は前記カラーフィタルの端辺から内側へ1μm以上5μm以下の範囲で行うことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
  7. 前記カラーフィルタの前記コンタクト部におけるハーフトーン露光は前記コンタクト部の外輪郭から内側へ1μm以上5μm以下の範囲で行うことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
  8. 液晶を挟持して対向配置される一対の基板のうち一方の基板の前記液晶側の面に、第1方向に延在され前記第1方向と交差する第2方向に並設されるゲート信号線と、前記第2方向に延在され前記第1方向に並設されるドレイン信号線と、
    前記ゲート信号線からの走査信号によって駆動する薄膜トランジスタと、
    前記ゲート信号線、前記ドレイン信号線、前記薄膜トランジスタを被って形成されたカラーフィルタと、このカラーフィルタの上方の層に形成された画素電極と、を備えた液晶表示装置にあって、
    前記カラーフィルタは、隣接する一方のカラーフィルタと他方のカラーフィルタとが重なる色重ね部と、、前記画素電極と前記薄膜トランジスタを電気的に接続させるためのコンタクトホールを有し、
    前記色重ね部のテーパ角が前記コンタクトホールのテーパ角よりも小さく形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  9. 前記カラーフィルタの前記色重ね部のテーパ角は30°以上75°以下であることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。
  10. 前記カラーフィルタの前記コンタクトホールのテーパ角は45°以上90°以下であることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。
  11. カラーフィルタは顔料が含有されて構成され、その顔料濃度が10%以上60%以下であることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。
  12. 前記カラーフィルタの前記色重ね部における色重ね量は1μm以上7μm以下であることを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置。
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