JP2011065897A - 有機el装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、耐酸化性のある陰極構造を有する信頼性の高い有機EL装置を提供することを目的とする。
【解決手段】陽電極3と、陰電極7と、陽電極と陰電極との間に設けられた有機層5と、を有する積層構造体を備え、陰電極7は、積層構造体の積層方向において、マグネシウムの含有量が50%原子濃度以上である第1の領域17と、マグネシウムの含有量が50%原子濃度未満である第2の領域18と、を有することを特徴とする有機EL装置が提供される。
【選択図】図1
【解決手段】陽電極3と、陰電極7と、陽電極と陰電極との間に設けられた有機層5と、を有する積層構造体を備え、陰電極7は、積層構造体の積層方向において、マグネシウムの含有量が50%原子濃度以上である第1の領域17と、マグネシウムの含有量が50%原子濃度未満である第2の領域18と、を有することを特徴とする有機EL装置が提供される。
【選択図】図1
Description
本発明は、有機EL装置に関する。
有機エレクトロルミネッセンス(EL:Electroluminescence)装置は自発光型デバイスであり、ディスプレイや室内照明などの用途に広く応用が期待されている。しかしながら、有機EL装置は、水分や酸素に曝されると、ダークスポットやダークエッジが発生し、発光強度が低下するという問題を有している。
水分や酸素に弱い原因の1つとして、陰極に用いられる電極材料、例えば、マグネシウム(Mg)が水分や酸素と反応して酸化され易いことがある。すなわち、Mgが酸化されることにより、陰極から発光層への電子注入が妨げられ、ダークスポットやダークエッジを誘発すると考えられている。
一方、Mgは仕事関数が低いため、陰極から発光層への電子の注入効率を高くすることができる点で有用な電極材料である。特許文献1には、Mgカソードを具備した有機電場発光デバイスが開示されている。
本発明は、耐酸化性のある陰極構造を有する信頼性の高い有機EL装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様によれば、陽電極と、陰電極と、前記陽電極と前記陰電極との間に設けられた有機層と、を有する積層構造体を備え、前記陰電極は、前記積層構造体の積層方向において、マグネシウムの含有量が50%原子濃度以上である第1の領域と、マグネシウムの含有量が50%原子濃度未満である第2の領域と、を有することを特徴とする有機EL装置が提供される。
本発明によれば、耐酸化性のある陰極構造を有する信頼性の高い有機EL装置を実現することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態では、図面中の同一部分には同一番号を付してその詳しい説明は適宜省略し、異なる部分について適宜説明する。
図1は、一実施形態に係る有機EL装置10の構造を模式的に示す断面図である。本実施形態に係る有機EL装置10は、基板2の上に順次設けられた陽電極3と、有機層5と、陰電極7と、を有する積層構造体を備えている。
基板2は、例えば、ガラス基板のような絶縁性基板を用いることができる。また、陽電極3には、仕事関数の大きな電極材料が用いられ、例えば、可視光を透過する酸化インジウムを主成分とするITO(Indium Tin Oxid)を用いることが望ましい。
有機層5には、EL発光強度の高い有機材料が用いられる。例えば、有機層5は、図1(a)に示すように、正孔輸送層13と、発光層14と、電子輸送層15と、で構成される。正孔輸送層13の材料として、例えば、芳香族アミンを用い、電子輸送層15の材料として、例えば、シロール誘導体を用いることができる。発光層14は、正孔輸送層13、または電子輸送層15と同一の材料に、所望の発光色に適応する材料を加えて形成する。
陰電極7には、仕事関数が低いマグネシウムを主成分とするマグネシウム合金を用いることが望ましい。例えば、銀との合金であるMgAgや、アルミニウムとの合金であるMgAlを用いることができる。さらに、インジウムとの合金であるMgInや、リチウムとの合金であるMgLi等も使用することができる。
さらに、図1に示す有機EL装置10では、陽電極3と有機層5との間に、正孔注入層4が設けられている。正孔注入層4は、陽電極3と有機層5との間のポテンシャルバリアを下げて正孔注入を容易にする役割を果たす。また、正孔注入層4の材料として、例えば、ポリチオフェン(poly-ethylenedioxy thiophene)を用いると、ITOで形成された陽電極の表面を滑らかにして、有機層5の形成を容易にすることができる。
また、有機層5と陰電極7との間には、電子注入層6が設けられている。電子注入層6には、アルカリ金属の化合物を用いることができる。例えば、フッ化リチウムLiFを用いると、陰電極7と有機層5との間の電子に対するポテンシャルバリアが低下し、陰電極7から有機層5に電子が注入され易くなる。
さらに、図1(a)に示すように、本実施形態に係る有機EL装置10では、陰電極7は、基板2上に設けられた積層構造体の積層方向、すなわち表面から有機層5へ向かう方向に、50%原子濃度以上のマグネシウムを含有する領域(第1の領域)である高マグネシウム層17と、50%原子濃度未満のマグネシウムを含有する領域(第2の領域)である低マグネシウム層18と、を有する。
図1(a)に示すように、高マグネシウム層17は、低マグネシウム層18よりも、有機層5側に在っても良いし、図1(b)に示すように、低マグネシウム層18が、高マグネシウム層17よりも、有機層5側に在っても良い。
また、図1(c)に示すように、高マグネシウム層17は、低マグネシウム層18を挟んで、有機層5側と、陰電極7の表面側(積層構造体の表面側)と、の両方に在っても良い。
陰電極7に含まれるMgは活性であり、常温の大気中で容易に酸化される。Mgの酸化物は安定であり、陰電極7中にMg原子が含まれていると、外気から陰電極7中に侵入する酸素と結合し耐酸化性を向上させることができる。この際、陰電極7から有機層5への電子の注入効率が低下しないように、ある程度の原子濃度のMgが含まれている必要がある。例えば、図1(a)に示すように、Mg単独の層またはMgを原子濃度で50%以上含む高マグネシウム層17が、陰電極7の有機層5側に設けられていることが望ましい。
一方、基板2に設けられた積層構造体の表面側、すなわち陰電極7の表面側からEL発光光を取り出す構成を採る場合、陰電極7の光吸収を低く抑えることが望ましい。このためには、Mgの原子濃度を下げて光吸収を少なくすることが好ましい。すなわち、図1(a)に示すように、陰電極7の表面側に、Mgの原子濃度が50%未満である低マグネシウム層18を設けることが望ましい。
また、陰電極7の表面にMg酸化物の被膜を形成すると、水分や酸素の侵入を遮断して耐酸化性を向上させることもできる。この観点からすると、図1(a)に示すように、低マグネシウム層18を有機層5側に設け、陰電極7の表面側に高マグネシウム層17を設けることが望ましい。これにより、陰電極7の表面にMg酸化物の被膜を容易に形成することができる。
さらに、陰電極7の表面にMg酸化物の被膜を形成して、侵入する水分や酸素を遮断する構成に加えて、陰電極7の内部に侵入した酸素とMg原子とが結合して酸化物を形成するように構成とすることもできる。すなわち、図1(c)に示すように、低マグネシウム層18を挟んで、有機層5側と、陰電極7の表面側と、の両方に高マグネシウム層17を設けることが望ましい。陰電極7の表面側の高マグネシウム層17は、Mg酸化物の表面被膜を形成し、外気中の水分や酸素が陰電極に侵入することを妨げる。一方、表面被膜を通り抜けた酸素は、有機層5側に設けられた高マグネシウム層17に含まれるMg原子と結合して酸化物を形成する。これにより、陰電極7の耐酸化性を向上させることができる。
図1に示す有機EL装置10の積層構造体は、例えば、真空蒸着法を用いて形成することができる。この場合、陰電極7の形成において、Mgと、他の元素、例えばAgと、を別のソースから蒸着する2元蒸着法を用いれば、陰電極7中のMgの原子濃度を容易に制御することができる。
図2は、第2の実施形態に係る有機EL装置20の構造を示す模式図である。図2(a)は、有機EL装置20の断面構造を示す模式図である。有機EL装置20の積層構造体は、陰電極7を除いて、図1に示す有機EL装置10と同じである。
本実施形態に係る有機EL装置20の陰電極7は、積層構造体の積層方向、すなわち表面から有機層5へ向かう方向に、Mgの含有量が連続的に変化する原子濃度プロファイルを有する。例えば、図2(b)に示すように、陰電極7の表面から有機層5に向かって、Mgの原子濃度が減少する濃度プロファイルとしても良い。この場合、陰電極7の表面近傍のMgの原子濃度を50%以上とすれば、Mgの原子濃度が50%となる深さを境に、陰電極7の表面側が、Mgの原子濃度が50%以上の領域となり、有機層5側が、Mgの原子濃度が50%未満の領域となることは明らかである。
また、図2(c)に示すように、陰電極7の表面側から有機層5に向かって、Mgの原子濃度が増加する濃度プロファイルとしても良い。さらに、図2(d)に示すように、陰電極7の表面側と、有機層5側と、において、Mgの原子濃度が50%を越え、陰電極7の中心部でMgの原子濃度が50%未満となるように形成しても良い。
図2(b)、(c)、(d)に示すMgの濃度プロファイルは、2元蒸着法において、Mgソースの蒸発量を制御し、蒸着膜中のMg濃度を連続的に変化させることによって形成することができる。また、図1に示すように、Mgの原子濃度が異なる高マグネシウム層17および低マグネシウム層18を順次形成した場合でも、陰電極7中のMg原子が相互拡散して、図2中に示すMgの濃度プロファイルが形成されることもある。
(実施例1)
図3は、XPS法(X-ray Photoelectron Spectroscopy)を用いて測定した、実施例1に係る有機EL装置30の陰電極7の原子濃度プロファイルである。
図3は、XPS法(X-ray Photoelectron Spectroscopy)を用いて測定した、実施例1に係る有機EL装置30の陰電極7の原子濃度プロファイルである。
有機EL装置30を形成するため、ガラス基板上に陽電極3としてITO膜を成膜し、正孔注入層4、正孔輸送層13、発光層14、電子輸送層15、および電子注入層6を、蒸着法により順次成膜した。
続いて、陰電極7の第1層として、AgとMgとの比率が95:5となるように条件設定した低マグネシウム層18を、約15nm蒸着した。次に、陰電極の第2層としてAgとMgとの比率が5:95となるように条件設定した高マグネシウム層17を、約5nm蒸着し、最後に保護膜を成膜して素子を形成した。
図3は、横軸にAr原子によるスパッタ時間をとり、縦軸に測定した各元素の原子濃度を示している。すなわち、図3には、有機EL装置30の積層構造体の積層構造、すなわち表面から深さ方向に分布する各元素の原子濃度プロファイルが示されている。
図3中に示したMgの原子濃度プロファイルは、陰電極7の表面で60%を越える最大値を示し、深さ方向に徐々に減少している。すなわち、図2(b)に示すMgの原子濃度プロファイルを有する陰電極が形成されている。
さらに、図3中に示す炭素Cおよびフッ素Fの原子濃度プロファイルは、図3のグラフの中央から右の部分が、LiFを用いた電子注入層6および電子輸送層15の領域であることを示している。すなわち、図3に示した有機EL装置30では、Mg原子とAg原子とが、電子注入層6および電子輸送層15へ拡散している。
(比較例1)
図4は、第1の比較例に係る有機EL装置の陰電極7の構成を示す原子濃度プロファイルである。
図4は、第1の比較例に係る有機EL装置の陰電極7の構成を示す原子濃度プロファイルである。
比較例1に係る有機EL装置を形成するため、実施例1に係る有機EL装置30と同じように、陽電極3としてITO膜を成膜し、正孔注入層4、正孔輸送層13、発光層14、電子輸送層15、および電子注入層6を、蒸着法により順次成膜した。さらに、陰電極7としてAgとMgとの比率が95:5となる条件で、低マグネシウム層18を約20nmの厚さに形成し、最後に保護膜を成膜して素子を形成した。
図4は、図3と同じようにXPS法を用いて測定した、比較例1に係る有機EL装置の陰電極7の原子濃度プロファイルを示している。
図4中に示すように、Mg原子は、陰電極7の表面に原子濃度約25%存在し、深さ方向に減少するプロファイルとなっている。一方、Ag原子は、陰電極7の表面から深さ方向に増加して陰電極7の中央部で100%に達し、さらに、電子注入層6および電子輸送層15まで拡散している。
図4中に示すように、Mg原子は、陰電極7の表面に原子濃度約25%存在し、深さ方向に減少するプロファイルとなっている。一方、Ag原子は、陰電極7の表面から深さ方向に増加して陰電極7の中央部で100%に達し、さらに、電子注入層6および電子輸送層15まで拡散している。
図5は、実施例1および比較例1に係る有機EL装置のエージング特性を示す説明図である。
まず、図5(a)に示すように、実施例1に係る有機EL装置30を、ガラス封止体に密封した。すなわち、フリットガラス25を設けた封止ガラス23と、有機EL装置の積層構造体27を設けたガラス基板2と、を重ね合わせ、フリットガラス25にレーザ照射して溶着した。これにより、積層構造体27が、封止ガラス23とガラス基板2との間の内部空間24に密封された。さらに、比較例1に係る有機EL装置も、同じようにガラス封止体に密封した。
まず、図5(a)に示すように、実施例1に係る有機EL装置30を、ガラス封止体に密封した。すなわち、フリットガラス25を設けた封止ガラス23と、有機EL装置の積層構造体27を設けたガラス基板2と、を重ね合わせ、フリットガラス25にレーザ照射して溶着した。これにより、積層構造体27が、封止ガラス23とガラス基板2との間の内部空間24に密封された。さらに、比較例1に係る有機EL装置も、同じようにガラス封止体に密封した。
図5(b)は、ガラス封止体に密封された実施例1に係る有機EL装置30と、比較例1に係る有機EL装置と、を、エージング試験に投入した結果を示すグラフである。エージング試験は、雰囲気温度85℃、湿度85%で行った。また、グラフの横軸は、エージング時間であり、縦軸は、ダークスポットの拡大幅を示している。
図5(b)中のデータBに示す比較例1に係る有機EL装置では、ダークスポットが短時間で拡大し、200時間に達しない内に発光強度が劣化してしまった。これに対して、図5(b)中のデータAに示す実施例1に係る有機EL装置30では、ダークスポットの拡大は見られず、700時間近くまで安定して動作している。
すなわち、陰電極7中のMgの原子濃度が50%未満である比較例1に係る有機EL装置では、ガラス封止体の内部空間24に存在する水分や酸素により、ダークスポットが拡大し、発光強度が劣化してしまった。これに対して、陰電極7中にMgの原子濃度が50%以上となる領域を設けた、実施例1に係る有機EL装置30では、長時間に渡り安定な動作が確認され、高い信頼度が確認された。
以上、本発明に係る一実施形態を参照して本発明を説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。例えば、出願時の技術水準に基づいて、当業者がなし得る設計変更や、材料の変更等、本発明と技術的思想を同じとする実施態様も本発明の技術的範囲に含有される。
2 基板
3 陽電極
4 正孔注入層
5 有機層
6 電子注入層
7 陰電極
13 正孔輸送層
14 発光層
15 電子輸送層
17 高マグネシウム層(第1の領域)
18 低マグネシウム層(第2の領域)
10、20、30 有機EL装置
3 陽電極
4 正孔注入層
5 有機層
6 電子注入層
7 陰電極
13 正孔輸送層
14 発光層
15 電子輸送層
17 高マグネシウム層(第1の領域)
18 低マグネシウム層(第2の領域)
10、20、30 有機EL装置
Claims (5)
- 陽電極と、陰電極と、前記陽電極と前記陰電極との間に設けられた有機層と、を有する積層構造体を備え、
前記陰電極は、前記積層構造体の積層方向において、マグネシウムの含有量が50%原子濃度以上である第1の領域と、マグネシウムの含有量が50%原子濃度未満である第2の領域と、を有することを特徴とする有機EL装置。 - 前記第1の領域は、前記第2の領域よりも、前記有機層の側に設けられたことを特徴とする請求項1記載の有機EL装置。
- 前記第2の領域は、前記第1の領域よりも、前記有機層の側に設けられたことを特徴とする請求項1記載の有機EL装置。
- 前記第1の領域は、前記第2の領域を挟んで、前記有機層の側と、前記積層構造体の表面側と、の両方に設けられたことを特徴とする請求項1記載の有機EL装置。
- 前記陰電極は、前記積層方向において前記マグネシウムの含有量が連続的に変化する原子濃度プロファイルを有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の有機EL装置。
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2009
- 2009-09-17 JP JP2009216237A patent/JP2011065897A/ja active Pending
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