JP2011062679A - ガス高精密湿度や流量コントロール並びに混合希釈装置 - Google Patents
ガス高精密湿度や流量コントロール並びに混合希釈装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011062679A JP2011062679A JP2009237724A JP2009237724A JP2011062679A JP 2011062679 A JP2011062679 A JP 2011062679A JP 2009237724 A JP2009237724 A JP 2009237724A JP 2009237724 A JP2009237724 A JP 2009237724A JP 2011062679 A JP2011062679 A JP 2011062679A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- humidity
- flow rate
- stable
- constant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007865 diluting Methods 0.000 title 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000007791 dehumidification Methods 0.000 claims 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 230000010485 coping Effects 0.000 abstract 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Drying Of Gases (AREA)
- Accessories For Mixers (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Abstract
【課題】符号２０ユニオンへ注入される不安定で条件範囲の狭い悪条件のガスを符号２１ユニオンで排出するまでに、安定した湿度に調整し流量を一定に調整して、また希釈や混合ガス作成など条件範囲を拡大し、安定したものに変換させ、あらゆる試験条件に対応可能なガスを供給する。
【解決手段】符号５，６コントローラにてガスの圧力値を一定に保ち、符号１，２水槽筒又は、符号７，８乾燥筒にガスを流し、湿度調節し、符号１５，１６の切換バルブでガスを混合させ希釈ガスを作成し、作成符号１９流量計にて調整、排出する。
【選択図】図３
【解決手段】符号５，６コントローラにてガスの圧力値を一定に保ち、符号１，２水槽筒又は、符号７，８乾燥筒にガスを流し、湿度調節し、符号１５，１６の切換バルブでガスを混合させ希釈ガスを作成し、作成符号１９流量計にて調整、排出する。
【選択図】図３
Description
本発明は、外部から供給した条件が不安定なガスを一定の安定した湿度や流量に同時に変換、調整し、外部の試験装置に安定ガス供給を図った湿度、流量コントロール装置に関する。
従来は、ガスの湿度、流量、混合、希釈等さまざまな幅広い気体設定条件を同時に、装置一台で変換、微調整、設定し外部へ供給できるものはなかった。
各試験装置が供給を必要とするガスの条件である湿度、流量、濃度設定機能設備が不十分な場合は、その希望する条件設定機能付きの器具に新しく買換えや買い足しなければならなかったため多くのコストや設置スペースがかかるという難点、多くの産業廃棄物が発生するという難点があった。本発明は、この課題を解消するためになされたものである。
不安定な条件設定のガスを一定の安定したガスに変換するためにまずガスの圧力値を安定器具にて一定に保ち、それらのガスを密閉した容器、すなわち加湿手段の場合は、蒸留水を貯めた水槽筒、除湿手段の場合は、乾燥筒に流し込むことにより、ガスの湿度調節や変換でき、また流し込んだガス圧力値の設定値の調整により、さまざまな条件の湿度に変化させた後、安定した流量を付属器具にて供給、排出し、さらに必要に応じ当装置内の回路切り替え装置にて互いのガスを混合させることにより希釈ガスを作成させて、湿度、流量調整やガス混合機能を一つに集約させることにより、課題を解決することができる。
供給できるガスの条件である湿度、流量の幅が拡大したこと、そして同時に混合希釈ガスを他の試験装置へ供給することができるようになり、設置スペースの縮小や装置買換え買い足し減少によるコスト削減や産業廃棄物も減少し、環境破壊の防止につながる。
密閉させた加湿手段のための容器にかけるガスの圧力値によって、ガスの湿度を調整することができ、その関係は、圧力値が低ければ低いほど湿度は上がり、圧力値が高ければ高いほど湿度は下がり、圧力値１０ＫＰＡから０．２ＭＰＡの間で湿度９０％ＲＨから３０％ＲＨの間で調節可能であり、ガス注入の際にガスを一旦蒸留水に触れさせると１００％ＲＨのガスを得ることが可能である。
ガスの混合比率の割合を変えることによりガス希釈度合いの調節が可能であり、その割合の調節は、それぞれの混合させるガスの流量割合で調整可能であると同時に混合させないで、それぞれに湿度及び流量のみを微調整することも可能である。
符号１，２水槽筒に約半分ほどに蒸留水を入れしっかりと蓋をする。
符号２０ユニオンからそれぞれガスを注入する。
符号３，４ガス目標設定湿度値に応じた圧力計値にて符号５，６コントローラをひねり圧力値を調節する。ドライ設定の場合は、符号７，８乾燥筒に乾燥材を入れておく。
符号９，１１，１２，１４切替バルブを除湿手段回路に設定するとドライのガスを排出。
符号９，１１，１２，１４切替バルブを加湿手段回路に設定するとウエットのガスを排出。
符号１０，１３切替バルブで１００％ＲＨ回路又は、３０％ＲＨから９０％ＲＨ回路に設定。
符号１５，１６切替バルブでガス混合希釈回路又は、湿度、流量調節のみ回路に設定。
符号１７，１８，１９流量計でガス排出量を調節する。
符号２１ユニオンから排出したガスを他の外部試験装置に銅管ステンレス管で接続し供給する。
符号２０ユニオンからそれぞれガスを注入する。
符号３，４ガス目標設定湿度値に応じた圧力計値にて符号５，６コントローラをひねり圧力値を調節する。ドライ設定の場合は、符号７，８乾燥筒に乾燥材を入れておく。
符号９，１１，１２，１４切替バルブを除湿手段回路に設定するとドライのガスを排出。
符号９，１１，１２，１４切替バルブを加湿手段回路に設定するとウエットのガスを排出。
符号１０，１３切替バルブで１００％ＲＨ回路又は、３０％ＲＨから９０％ＲＨ回路に設定。
符号１５，１６切替バルブでガス混合希釈回路又は、湿度、流量調節のみ回路に設定。
符号１７，１８，１９流量計でガス排出量を調節する。
符号２１ユニオンから排出したガスを他の外部試験装置に銅管ステンレス管で接続し供給する。
１ Ａ水槽筒
２ Ｂ水槽筒
３ Ａ圧力計
４ Ｂ圧力計
５ Ａコントローラ
６ Ｂコントローラ
７ Ａ乾燥筒
８ Ｂ乾燥筒
９ Ａ−ａ−ａ切替バルブ
１０ Ａ−ａ−ｂ切替バルブ
１１ Ａ−ａ−ｃ切替バルブ
１２ Ｂ−ａ−ａ切替バルブ
１３ Ｂ−ａ−ｂ切替バルブ
１４ Ｂ−ａ−ｃ切替バルブ
１５ Ｃ−ａ切替バルブ
１６ Ｃ−ｂ切替バルブ
１７ Ａ流量計
１８ Ｂ流量計
１９ ＡＢ流量計
２０ ガス注入ユニオン
２１ ガス排出ユニオン
２ Ｂ水槽筒
３ Ａ圧力計
４ Ｂ圧力計
５ Ａコントローラ
６ Ｂコントローラ
７ Ａ乾燥筒
８ Ｂ乾燥筒
９ Ａ−ａ−ａ切替バルブ
１０ Ａ−ａ−ｂ切替バルブ
１１ Ａ−ａ−ｃ切替バルブ
１２ Ｂ−ａ−ａ切替バルブ
１３ Ｂ−ａ−ｂ切替バルブ
１４ Ｂ−ａ−ｃ切替バルブ
１５ Ｃ−ａ切替バルブ
１６ Ｃ−ｂ切替バルブ
１７ Ａ流量計
１８ Ｂ流量計
１９ ＡＢ流量計
２０ ガス注入ユニオン
２１ ガス排出ユニオン
Claims (2)
- それぞれの異なる二つ以上の回路にて、それぞれの気体すなわちガスを安定した一定の圧力に変換して、湿度設定値に応じてそれぞれ異なった完全に密閉した容器に注入することにより、安定した一定の湿度に調整した後、安定した一定の流量でそれぞれに排出供給することや必要に応じそれらのガスを当装置内部で混合させることにより混合ガスや希釈ガスを作成する装置であって、前記の容器とは加湿手段又は除湿手段をおこなえるものであり、それぞれの回路の分岐点に切換え器具を設置し目的に応じ切替えて、湿度や流量を安定供給できる装置や回路でなることを特徴とする高精密湿度と流量コントロール装置である。
- 前記気体すなわちガスは、外部の酸素や窒素ボンベから送り込まれるものであり、それぞれのガスをプレッシャーバルブで一定の安定した圧力に調整し、前記容器は、除湿手段として密閉した乾燥筒、加湿手段として密閉した水を貯めた水槽筒からなるものであり、それらにガスを注入して湿度を調整した後、一定の安定した流量でその気体を排出、場合によって、それぞれの気体を装置内部で混合させることにより湿度調整や流量調整された希釈酸素の作成する回路を持ち、上記分岐点切換え器具は、切替バルブの切換えからなることを特徴とする請求項１記載の高精密湿度と流量コントロール装置である。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009237724A JP2011062679A (ja) | 2009-09-17 | 2009-09-17 | ガス高精密湿度や流量コントロール並びに混合希釈装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009237724A JP2011062679A (ja) | 2009-09-17 | 2009-09-17 | ガス高精密湿度や流量コントロール並びに混合希釈装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012000903U Continuation JP3175479U (ja) | 2012-02-03 | 2012-02-03 | ガス高精密湿度や流量コントロール並びに混合希釈装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011062679A true JP2011062679A (ja) | 2011-03-31 |
Family
ID=43949520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009237724A Pending JP2011062679A (ja) | 2009-09-17 | 2009-09-17 | ガス高精密湿度や流量コントロール並びに混合希釈装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2011062679A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013015504A (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-24 | Hosen Techno:Kk | 水蒸気透過測定システム |
| CN104007003A (zh) * | 2014-06-11 | 2014-08-27 | 陕西天宏硅材料有限责任公司 | 一种实验室用永久性气体露点调节方法 |
| JP2016061712A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 株式会社豊田中央研究所 | 揮発成分発生装置および揮発成分発生方法 |
-
2009
- 2009-09-17 JP JP2009237724A patent/JP2011062679A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013015504A (ja) * | 2011-07-04 | 2013-01-24 | Hosen Techno:Kk | 水蒸気透過測定システム |
| CN104007003A (zh) * | 2014-06-11 | 2014-08-27 | 陕西天宏硅材料有限责任公司 | 一种实验室用永久性气体露点调节方法 |
| JP2016061712A (ja) * | 2014-09-19 | 2016-04-25 | 株式会社豊田中央研究所 | 揮発成分発生装置および揮発成分発生方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102447374B1 (ko) | 암모니아 가스가 용해되어 있는 탈이온수를 포함하는 전도성 액체를 생성하기 위한 시스템들 및 방법 | |
| JP2011062679A (ja) | ガス高精密湿度や流量コントロール並びに混合希釈装置 | |
| US20120279396A1 (en) | System to remove Dissolved Gases Selectively from Liquids | |
| CN101399182B (zh) | 基板处理装置及基板处理方法 | |
| WO2006044629A3 (en) | Gaseous fluid production apparatus and method | |
| JP6872454B2 (ja) | 薬液合成装置 | |
| JP2008057947A (ja) | 気体加湿装置 | |
| JP2010190453A (ja) | 気液封入装置 | |
| JP2010051846A (ja) | 気体溶解装置 | |
| CN102553424B (zh) | 一种吸收塔pH值调节方法 | |
| CN109844466B (zh) | 用于物料罐的物料传感器的系统和方法 | |
| JP2008281155A (ja) | シリンダーキャビネット | |
| JP7008125B2 (ja) | オゾン発生装置及びオゾン発生方法 | |
| JP3175479U (ja) | ガス高精密湿度や流量コントロール並びに混合希釈装置 | |
| WO2003043969A1 (fr) | Procede d'alimentation en gaz atmospherique | |
| JP2006043584A (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
| KR101683660B1 (ko) | 액체 정량 토출 방법 및 장치 | |
| JP2010269287A (ja) | 液体中の溶存酸素除去方法及び液体中の溶存酸素除去装置 | |
| CN206813257U (zh) | 一种低温液货船舶循环降露系统 | |
| JP2011105955A (ja) | 天然ガスの希釈熱量調整方法 | |
| KR20180073014A (ko) | 가스 공급 장치 | |
| CN109890494A (zh) | 稀释液制造装置及稀释液制造方法 | |
| WO2018110649A1 (ja) | 液体材料供給装置、液体材料供給方法、液体供給管のパージ方法、及び、材料ガス供給システム | |
| JP7515745B1 (ja) | オゾン供給装置及びオゾン供給方法 | |
| JP2011094812A (ja) | プラスチック耐火物吹付け装置及び施工方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20111208 |