JP2011062645A - Organic solvent-containing gas recovery system - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic solvent-containing gas recovery system which recovers volatile organic solvents from a raw gas containing low concentrations of the volatile organic solvents using a rotating adsorbent, and can more efficiently perform adsorption and desorption treatment. <P>SOLUTION: The organic solvent-containing gas recovery system includes a first concentrator 1000 having a first adsorbent 100, a first adsorption portion 110 and a first desorption portion 120, a second concentrator 2000 having a second adsorbent 200, a second adsorption portion 210 and a second desorption portion 220, and a recovery device 3000. The first adsorbent 100 has a higher adsorption removal capacity with respect to organic solvents than that of the second adsorbent 200. The second adsorbent 200 has a larger saturation adsorption capacity with respect to organic solvents than that of the first adsorbent 100. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

この発明は、低濃度の揮発性有機溶剤を含有する有機溶剤含有ガス（以下、原ガスと称する）から有機溶剤を回収する有機溶剤含有ガス回収処理システムに関し、特に、原ガスを濃縮するための回転式の吸着体を備えた有機溶剤含有ガス回収処理システムに関する。   The present invention relates to an organic solvent-containing gas recovery processing system for recovering an organic solvent from an organic solvent-containing gas containing a low-concentration volatile organic solvent (hereinafter referred to as a raw gas), and in particular, for concentrating the raw gas. The present invention relates to an organic solvent-containing gas recovery processing system equipped with a rotary adsorbent.

図６を参照して、回転式の吸着体１０を備えた有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１０の構成について説明する。有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１０は、濃縮装置１と、回収装置３とを備えている。濃縮装置１は、吸着体１０、吸着領域１１および脱着領域１２を有している。回収装置３は、クーラー５および回収部６を有している。   With reference to FIG. 6, the structure of organic solvent containing gas collection | recovery processing system S10 provided with the rotation type adsorption body 10 is demonstrated. The organic solvent-containing gas recovery processing system S10 includes a concentrating device 1 and a recovery device 3. The concentrating device 1 has an adsorbent 10, an adsorption region 11, and a desorption region 12. The collection device 3 has a cooler 5 and a collection unit 6.

吸着体１０は筒状であり、筒軸９の周りに回転可能に設けられている。吸着体１０は、たとえばハニカム構造（ハニカムローター）を呈している。吸着体１０は、回転方向ＡＲに回転することができる。吸着領域１１および脱着領域１２は、吸着体１０の回転方向ＡＲに並んで規定されている。吸着体１０が回転することにより、吸着体１０は、吸着領域１１および脱着領域１２の内部を交互に通過する。   The adsorbent 10 has a cylindrical shape, and is provided so as to be rotatable around a cylindrical shaft 9. The adsorbent 10 has, for example, a honeycomb structure (honeycomb rotor). The adsorbent 10 can rotate in the rotation direction AR. The adsorption region 11 and the desorption region 12 are defined side by side in the rotation direction AR of the adsorbent 10. By rotating the adsorbent body 10, the adsorbent body 10 alternately passes through the inside of the adsorption area 11 and the desorption area 12.

次に、動作について説明する。吸着体１０は連続的に回転方向ＡＲに回転する。吸着体１０が回転することにより、吸着体１０は吸着領域１１に到達する。吸着領域１１に到達した後、吸着領域１１を通過する吸着体１０に、有機溶剤を含有する原ガスＧ１が供給される。供給された原ガスＧ１は、吸着体１０に含まれる吸着剤と接触する。原ガスＧ１に含まれる有機溶剤は、当該吸着剤に吸着される。濃縮装置１は、吸着剤により有機溶剤を除去された原ガスＧ１を、清浄ガスＧ２として排出する。   Next, the operation will be described. The adsorbent 10 continuously rotates in the rotation direction AR. As the adsorbent 10 rotates, the adsorbent 10 reaches the adsorption region 11. After reaching the adsorption region 11, the raw gas G <b> 1 containing an organic solvent is supplied to the adsorbent 10 that passes through the adsorption region 11. The supplied raw gas G1 comes into contact with the adsorbent contained in the adsorbent 10. The organic solvent contained in the raw gas G1 is adsorbed by the adsorbent. The concentrating device 1 discharges the raw gas G1 from which the organic solvent has been removed by the adsorbent as a clean gas G2.

吸着体１０が回転方向ＡＲにさらに回転することにより、吸着体１０は脱着領域１２に到達する。脱着領域１２に到達した後、脱着領域１２を通過する吸着体１０に脱着用ガス（高温の気体）Ｇ３が供給される。脱着用ガスＧ３は、たとえばヒーター２を用いて高温状態にする。供給された脱着用ガスＧ３は、有機溶剤を吸着している吸着体１０の吸着剤と接触する。吸着体１０の吸着剤に吸着している有機溶剤は、当該吸着剤から脱着される。濃縮装置１は、脱着された有機溶剤を、脱着領域１２から濃縮ガスＧ４として排出する。   When the adsorbent 10 further rotates in the rotation direction AR, the adsorbent 10 reaches the desorption region 12. After reaching the desorption region 12, a desorption gas (high-temperature gas) G3 is supplied to the adsorbent 10 that passes through the desorption region 12. The desorption gas G3 is brought to a high temperature state using, for example, the heater 2. The supplied desorption gas G3 comes into contact with the adsorbent of the adsorbent 10 that adsorbs the organic solvent. The organic solvent adsorbed on the adsorbent of the adsorbent 10 is desorbed from the adsorbent. The concentrating device 1 discharges the desorbed organic solvent from the desorption region 12 as the concentrated gas G4.

回収装置３は、濃縮ガスＧ４が供給される。回収装置３は、クーラー５により濃縮ガスＧ４を冷却し、濃縮ガスＧ４に含まれる有機溶剤を凝縮させる。回収装置３は、回収部６により凝縮した有機溶剤を回収液７として回収する。なお、クーラー５により凝縮できなかった濃縮ガスＧ７ａについては、脱着用ガスＧ３と合流させて、ヒーター２により高温状態にした後、再び脱着領域１２を通過する吸着体１０に供給するよう構成してもよい。また、濃縮ガスＧ７ａについては、図示しない燃焼装置などを用いて酸化分解処理するよう構成してもよい。   The recovery device 3 is supplied with the concentrated gas G4. The recovery device 3 cools the concentrated gas G4 with the cooler 5, and condenses the organic solvent contained in the concentrated gas G4. The recovery device 3 recovers the organic solvent condensed by the recovery unit 6 as a recovery liquid 7. The concentrated gas G7a that could not be condensed by the cooler 5 is combined with the desorption gas G3, brought to a high temperature state by the heater 2, and then supplied again to the adsorbent 10 that passes through the desorption region 12. Also good. Further, the concentrated gas G7a may be configured to be subjected to oxidative decomposition treatment using a combustion device (not shown).

濃縮装置１の吸着体１０は、脱着領域１２において有機溶剤が脱着されることにより再生される。再生された吸着体１０は、さらに回転することにより吸着領域１１に到達する。なお、吸着体１０が吸着領域１１に到達する前に低温の気体を供給されて冷却されることもある。再生された吸着体１０は、再び原ガスＧ１を供給され、原ガスＧ１に含まれる有機溶剤を吸着する。有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１０は、上記の一連の動作を繰り返すことにより、大量の原ガスＧ１を連続的に濃縮することができる。   The adsorbent 10 of the concentrating device 1 is regenerated by desorbing the organic solvent in the desorption region 12. The regenerated adsorbent 10 reaches the adsorption region 11 by further rotating. The adsorbent 10 may be cooled by being supplied with a low-temperature gas before reaching the adsorption region 11. The regenerated adsorbent 10 is again supplied with the raw gas G1, and adsorbs the organic solvent contained in the raw gas G1. The organic solvent-containing gas recovery processing system S10 can continuously concentrate a large amount of the raw gas G1 by repeating the above series of operations.

下記の特許文献１には、上記の有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１０と同様の回転式の吸着体を用いたガス吸脱着処理装置が開示されている。当該ガス吸脱着処理装置は、上記の有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１０とは異なる所定の経路により原ガスまたは濃縮ガスなどを導入および排出させている。特許文献１に記載されるガス吸脱着処理装置によれば、所定の経路により上記の有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１０に比べてより高い除去率を得ている。   Patent Document 1 below discloses a gas adsorption / desorption treatment apparatus using a rotary adsorbent similar to the organic solvent-containing gas recovery treatment system S10. The gas adsorption / desorption treatment apparatus introduces and discharges raw gas or concentrated gas through a predetermined route different from the organic solvent-containing gas recovery treatment system S10. According to the gas adsorption / desorption processing apparatus described in Patent Document 1, a higher removal rate is obtained by a predetermined path compared to the organic solvent-containing gas recovery processing system S10.

特開２００５−２３８０４６号公報JP 2005-238046 A

上記の特許文献１に記載されるガス吸脱着処理装置は、吸着・脱着処理を行なうための１つの吸着体と、有機溶剤を回収するための回収装置とを用いて、所定の経路に原ガスまたは濃縮ガスなどを導入および排出させることにより、上記の有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１０に比べてより高い除去率を得ている。   The gas adsorption / desorption treatment apparatus described in Patent Document 1 described above uses a single adsorbent for performing adsorption / desorption treatment and a collection apparatus for collecting an organic solvent, and supplies a raw gas to a predetermined path. Alternatively, by introducing and discharging concentrated gas and the like, a higher removal rate is obtained as compared with the organic solvent-containing gas recovery processing system S10.

ここで、原ガス中に含まれる有機溶剤をより多く除去するためには、吸着体の脱着領域から排出される濃縮ガスの濃度を高くする必要がある。   Here, in order to remove more organic solvent contained in the raw gas, it is necessary to increase the concentration of the concentrated gas discharged from the desorption region of the adsorbent.

濃縮ガスの濃度を高くするためには、濃縮装置の吸着体（ハニカムローター）の大きさを大きくする必要がある。しかしながら、吸着体の大きさを大きくすると、濃縮装置の全体の大きさが大きくなるばかりでなく、原ガス中に含まれる有機溶剤に対する吸着能（除去性能）が低下し、吸着および脱着を効率的に行なうことができない。   In order to increase the concentration of the concentrated gas, it is necessary to increase the size of the adsorbent (honeycomb rotor) of the concentrator. However, increasing the size of the adsorbent not only increases the overall size of the concentrator, but also reduces the adsorption capacity (removability) for the organic solvent contained in the raw gas, making adsorption and desorption efficient. Can not be done.

濃縮ガスの濃度を高くするためには、脱着領域を通過する吸着体に供給する脱着用ガスの風速を遅くすることが可能である。しかしながら、脱着領域を通過する吸着体に供給する脱着用ガスの風速を遅くすると、濃縮装置全体としての処理速度が低下し、吸着および脱着を効率的に行なうことができない。   In order to increase the concentration of the concentrated gas, the wind speed of the desorption gas supplied to the adsorbent passing through the desorption region can be decreased. However, if the wind speed of the desorption gas supplied to the adsorbent passing through the desorption region is slowed, the processing speed of the concentrator as a whole decreases, and adsorption and desorption cannot be performed efficiently.

この発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、回転式の吸着体を用いて、低濃度の揮発性有機溶剤を含有する原ガスから当該有機溶剤を回収する有機溶剤含有ガス回収処理システムにおいて、より効率的に吸着および脱着の処理を行なうことのできる有機溶剤含有ガス回収処理システムを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problem, and an organic solvent-containing gas recovery for recovering the organic solvent from a raw gas containing a low-concentration volatile organic solvent using a rotary adsorbent. It is an object of the present invention to provide an organic solvent-containing gas recovery processing system that can perform adsorption and desorption processing more efficiently in a processing system.

この発明に基づいた有機溶剤含有ガス回収処理システムにおいては、揮発性を有する低濃度の有機溶剤を含有する原ガスから上記有機溶剤を回収する有機溶剤含有ガス回収処理システムであって、第１筒軸の周りに回転可能に設けられた筒状の第１吸着体と、上記第１吸着体の回転方向に並んで規定され上記第１吸着体が回転することにより上記第１吸着体をその内部に交互に通過させる第１吸着領域および第１脱着領域とを有し、上記第１吸着領域を通過する上記第１吸着体に上記原ガスを供給することにより上記原ガスに含有される上記有機溶剤を吸着させ、上記第１脱着領域を通過する上記有機溶剤を吸着した上記第１吸着体に脱着用ガスを供給することにより上記第１吸着体から上記有機溶剤を脱着させ、第１濃縮ガスを排出する第１濃縮装置を備えている。   An organic solvent-containing gas recovery processing system based on the present invention is an organic solvent-containing gas recovery processing system that recovers the organic solvent from a raw gas containing a low-concentration organic solvent having volatility. A cylindrical first adsorbent provided rotatably around an axis, and the first adsorbent rotating inside the first adsorbent by being defined in line with the rotation direction of the first adsorbent. The organic material contained in the raw gas by supplying the raw gas to the first adsorbent passing through the first adsorption region, the first adsorption region and the first desorption region being alternately passed through The organic solvent is desorbed from the first adsorbent by supplying a desorption gas to the first adsorbent adsorbing the solvent and adsorbing the organic solvent passing through the first desorption region, and the first concentrated gas The second to discharge And a concentrator.

また、第２筒軸の周りに回転可能に設けられた筒状の第２吸着体と、上記第２吸着体の回転方向に並んで規定され上記第２吸着体が回転することにより上記第２吸着体をその内部に交互に通過させる第２吸着領域および第２脱着領域とを有し、上記第２吸着領域を通過する上記第２吸着体に上記第１濃縮ガスを供給することにより上記第１濃縮ガスに含有される上記有機溶剤を吸着させ、上記第２脱着領域を通過する上記第２吸着体に第１不活性化ガスを供給することにより上記第２吸着体から上記有機溶剤を脱着させ、第２濃縮ガスを排出する第２濃縮装置を備えている。   In addition, a cylindrical second adsorbent that is rotatably provided around the second cylinder axis, and the second adsorbent that is defined side by side in the direction of rotation of the second adsorbent, rotate the second adsorbent. By supplying the first concentrated gas to the second adsorbent that has a second adsorption region and a second desorption region through which the adsorbent alternately passes, and passes through the second adsorption region, 1 The organic solvent contained in the concentrated gas is adsorbed, and the first inert gas is supplied to the second adsorbent passing through the second desorption region to desorb the organic solvent from the second adsorbent. And a second concentrating device for discharging the second concentrated gas.

さらに、上記第２濃縮ガスが供給され、上記第２濃縮ガスを冷却することにより上記第２濃縮ガスに含まれる上記有機溶剤を凝縮させ、凝縮した上記有機溶剤を回収する回収装置を備えている。上記第１吸着体は、上記第２吸着体よりも上記有機溶剤に対する吸着除去性能が高く、上記第２吸着体は、上記第１吸着体よりも上記有機溶剤に対する飽和吸着容量が大きくなっている。   Furthermore, the second concentrated gas is supplied, and the second concentrated gas is cooled to condense the organic solvent contained in the second concentrated gas and to collect the condensed organic solvent. . The first adsorbent has higher adsorption removal performance with respect to the organic solvent than the second adsorbent, and the second adsorbent has a higher saturated adsorption capacity with respect to the organic solvent than the first adsorbent. .

上記発明の他の形態においては、上記第１吸着体に含まれている吸着剤はＺＳＭ−５型ゼオライトであり、上記第２吸着体に含まれている吸着剤は、Ｙ型ゼオライト、シリカゲルまたは活性炭のいずれかを含んでいる。   In another aspect of the invention, the adsorbent contained in the first adsorbent is ZSM-5 type zeolite, and the adsorbent contained in the second adsorbent is Y type zeolite, silica gel or Contains any of the activated carbon.

上記発明の他の形態においては、上記第１吸着体に含まれている上記吸着剤は、飽和水分吸着率が約０．５重量％以下のＺＳＭ−５型ゼオライトである。   In another form of the invention, the adsorbent contained in the first adsorbent is a ZSM-5 type zeolite having a saturated moisture adsorption rate of about 0.5 wt% or less.

上記発明の他の形態においては、上記第２脱着領域は、上記第２吸着体の回転方向における上記第２脱着領域の下流側に位置する冷却領域を含み、上記冷却領域を通過する上記第２吸着体に第２不活性化ガスが供給されることにより、上記冷却領域を通過する上記第２吸着体が冷却される。   In another aspect of the invention, the second desorption region includes a cooling region located downstream of the second desorption region in the rotation direction of the second adsorbent, and passes through the cooling region. By supplying the second inert gas to the adsorbent, the second adsorbent passing through the cooling region is cooled.

上記発明の他の形態においては、上記冷却領域を通過する上記第２吸着体に上記第２不活性化ガスが供給されることにより第３不活性化ガスが排出され、上記冷却領域から排出された上記第３不活性化ガスの一部または全てを、上記第２脱着領域を通過する上記第２吸着体に供給するための帰還路をさらに備えている。   In another aspect of the invention, the second inert gas is supplied to the second adsorbent that passes through the cooling region, whereby the third inert gas is discharged and discharged from the cooling region. Furthermore, a return path for supplying a part or all of the third inert gas to the second adsorbent passing through the second desorption region is further provided.

この発明によれば、回転式の吸着体を用いて、低濃度の揮発性有機溶剤を含有する原ガスから当該有機溶剤を回収する有機溶剤含有ガス回収処理システムにおいて、より効率的に吸着および脱着の処理を行なうことのできる有機溶剤含有ガス回収処理システムを得ることができる。   According to the present invention, in an organic solvent-containing gas recovery processing system that recovers an organic solvent from a raw gas containing a low-concentration volatile organic solvent using a rotary adsorbent, adsorption and desorption can be performed more efficiently. It is possible to obtain an organic solvent-containing gas recovery processing system that can perform the above processing.

実施の形態１における、有機溶剤含有ガス回収処理システムの全体構成を示す模式図である。1 is a schematic diagram showing an overall configuration of an organic solvent-containing gas recovery processing system in Embodiment 1. FIG. 実施の形態２における、有機溶剤含有ガス回収処理システムの全体構成を示す模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing an overall configuration of an organic solvent-containing gas recovery processing system in a second embodiment. 実施の形態３における、有機溶剤含有ガス回収処理システムの全体構成を示す模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing an overall configuration of an organic solvent-containing gas recovery processing system in a third embodiment. 実施の形態３に基づく実験（実験１〜実験３）の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of the experiment (Experiment 1-Experiment 3) based on Embodiment 3. FIG. 実施の形態３に基づく実験（実験１〜実験３）、および比較例１〜比較例４に用いられる吸着剤の特性を示す図である。It is a figure which shows the characteristic of the adsorption agent used for the experiment (Experiment 1 to Experiment 3) based on Embodiment 3, and Comparative Example 1- Comparative Example 4. FIG. 一般的な有機溶剤含有ガス回収処理システムの全体構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of a general organic solvent containing gas collection | recovery processing system. 本発明に関する実験（比較例１〜比較例４）の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of the experiment (comparative example 1-comparative example 4) regarding this invention.

本発明に基づいた各実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１〜Ｓ３について、以下、図１〜図３をそれぞれ参照しながら説明する。その後、図４および図５を参照して、本発明（実施の形態３）に基づいた実験結果（実験１〜実験３）について説明する。最後に、図６および図７などを参照して、本発明に関する比較実験結果（比較例１〜比較例４）について説明する。   The organic solvent-containing gas recovery processing systems S1 to S3 in the respective embodiments based on the present invention will be described below with reference to FIGS. Then, with reference to FIG. 4 and FIG. 5, the experimental result (Experiment 1 to Experiment 3) based on this invention (Embodiment 3) is demonstrated. Finally, with reference to FIG. 6 and FIG. 7 and the like, comparative experiment results (Comparative Examples 1 to 4) relating to the present invention will be described.

以下に説明する各実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。以下に説明する各実施の形態において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。   In each embodiment described below, when referring to the number, amount, and the like, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like unless otherwise specified. In each embodiment described below, the same parts and corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description may not be repeated.

（実施の形態１）
（構成）
図１を参照して、本実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１の構成について説明する。有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１は、第１濃縮装置１０００と、第２濃縮装置２０００と、回収装置３０００とを備えている。 (Embodiment 1)
(Constitution)
With reference to FIG. 1, the structure of organic solvent containing gas collection | recovery processing system S1 in this Embodiment is demonstrated. The organic solvent-containing gas recovery processing system S1 includes a first concentrator 1000, a second concentrator 2000, and a recovery device 3000.

第１濃縮装置１０００は、第１吸着体１００と、第１吸着領域１１０および第１脱着領域１２０とを有している。第１吸着体１００は筒状であり、第１筒軸１０１の周りに回転可能に設けられている。第１吸着体１００は、たとえばハニカム構造（ハニカムローター）を呈している。第１吸着体１００は、回転方向ＡＲ１に回転することができる。   The first concentrator 1000 has a first adsorbent 100, a first adsorption region 110, and a first desorption region 120. The first adsorbent 100 has a cylindrical shape and is provided around the first cylinder shaft 101 so as to be rotatable. The first adsorbent 100 has, for example, a honeycomb structure (honeycomb rotor). The first adsorbent 100 can rotate in the rotation direction AR1.

第１吸着領域１１０および第１脱着領域１２０は、第１吸着体１００の回転方向ＡＲ１に並んで規定されている。第１吸着体１００が回転することにより、第１吸着体１００は、第１吸着領域１１０および第１脱着領域１２０の内部を交互に通過する。第２濃縮装置２０００は、第１濃縮装置１０００と略同様の構成である。   The first adsorption region 110 and the first desorption region 120 are defined side by side in the rotation direction AR1 of the first adsorbent 100. As the first adsorbent 100 rotates, the first adsorbent 100 passes through the first adsorbing region 110 and the first desorbing region 120 alternately. The second concentrator 2000 has substantially the same configuration as the first concentrator 1000.

第２濃縮装置２０００は、第２吸着体２００と、第２吸着領域２１０および第２脱着領域２２０とを有している。第２吸着体２００は筒状であり、第２筒軸２０１の周りに回転可能に設けられている。第２吸着体２００は、たとえばハニカム構造（ハニカムローター）を呈している。第２吸着体２００は、回転方向ＡＲ２に回転することができる。   The second concentrator 2000 has a second adsorbent 200, a second adsorption region 210 and a second desorption region 220. The second adsorbent 200 has a cylindrical shape and is rotatably provided around the second cylinder shaft 201. The second adsorbent 200 has a honeycomb structure (honeycomb rotor), for example. The second adsorbent 200 can rotate in the rotation direction AR2.

第２吸着領域２１０および第２脱着領域２２０は、第２吸着体２００の回転方向ＡＲ２に並んで規定されている。第２吸着体２００が回転することにより、第２吸着体２００は、第２吸着領域２１０および第２脱着領域２２０の内部を交互に通過する。回収装置３０００は、クーラー３１０および回収部３２０を有している。   The second adsorption region 210 and the second desorption region 220 are defined side by side in the rotation direction AR2 of the second adsorption body 200. As the second adsorbent 200 rotates, the second adsorbent 200 passes through the second adsorbing area 210 and the second desorbing area 220 alternately. The collection device 3000 includes a cooler 310 and a collection unit 320.

ここで、第１濃縮装置１０００の第１吸着体１００は、第２濃縮装置２０００の第２吸着体２００よりも、被処理ガスである原ガス（Ｇ１０）中に含まれる有機溶剤に対する吸着除去性能が高くなるように構成される。また、第２濃縮装置２０００の第２吸着体２００は、第１濃縮装置１０００の第１吸着体１００よりも、被処理ガスである原ガス（Ｇ１０）中に含まれる有機溶剤に対する飽和吸着容量が大きくなるように構成される。   Here, the first adsorbent 100 of the first concentrator 1000 is more capable of adsorbing and removing organic solvents contained in the raw gas (G10) as the gas to be treated than the second adsorbent 200 of the second concentrator 2000. Is configured to be high. In addition, the second adsorbent 200 of the second concentrator 2000 has a saturated adsorption capacity for the organic solvent contained in the raw gas (G10) that is the gas to be processed, compared to the first adsorbent 100 of the first concentrator 1000. Configured to be large.

より具体的には、たとえば、原ガス（Ｇ１０）中に含まれる有機溶剤がトルエンであり、原ガス（Ｇ１０）風量が約１２０Ｎｍ３／ｍｉｎ、原ガス（Ｇ１０）濃度が１０００ｐｐｍである場合には、第１濃縮装置１０００の第１吸着体１００を次のように構成するとよい。すなわち、第１吸着体１００は、約８０重量％のＺＳＭ−５ゼオライトと、約２０重量％の無機繊維若しくは耐熱性有機繊維とを含むように構成された吸着材を用いてハニカム成形された、ディスク型ローターを用いるとよい。このような第１吸着体１００に対して、回転速度約３〜約６ｒｐｈ、濃縮倍率約６倍で処理するように構成することで、第１吸着体１００は原ガス（Ｇ１０）中に含まれるトルエンに対して、約９８％以上の吸着除去性能（除去率）を得ることができる。 More specifically, for example, when the organic solvent contained in the raw gas (G10) is toluene, the raw gas (G10) air volume is about 120 Nm 3 / min, and the raw gas (G10) concentration is 1000 ppm. The first adsorbent 100 of the first concentrator 1000 may be configured as follows. That is, the first adsorbent 100 was formed into a honeycomb using an adsorbent configured to include about 80% by weight of ZSM-5 zeolite and about 20% by weight of inorganic fibers or heat-resistant organic fibers. A disk-type rotor may be used. By configuring the first adsorbent 100 to be processed at a rotational speed of about 3 to about 6 rph and a concentration rate of about 6 times, the first adsorbent 100 is included in the raw gas (G10). An adsorption removal performance (removal rate) of about 98% or more can be obtained with respect to toluene.

一方、第２濃縮装置２０００の第２吸着体２００は、約７５重量％のＹ型ゼオライトと、約２５重量％の無機繊維若しくは耐熱性有機繊維を含むように構成された吸着材を用いてハニカム成形された、ディスク型ローターを用いるとよい。上記のような第１吸着体１００の第１脱着領域１２０を通過した第１濃縮ガスＧ１６は、たとえば風量約２４Ｎｍ３／ｍｉｎである。したがってこのような場合、第２吸着体２００に対して、回転速度約１〜約４ｒｐｈ、濃縮倍率１０倍で処理するように構成することで、第２吸着体２００は第１濃縮ガスＧ１６ａ中に含まれるトルエンに対して約６０％の吸着除去性能（除去率）を得ることができる。 On the other hand, the second adsorbent 200 of the second concentrator 2000 is a honeycomb using an adsorbent configured to contain about 75 wt% Y-type zeolite and about 25 wt% inorganic fibers or heat resistant organic fibers. A molded disk-type rotor may be used. The first concentrated gas G16 that has passed through the first desorption region 120 of the first adsorbent 100 as described above has, for example, an air volume of about 24 Nm 3 / min. Therefore, in such a case, the second adsorbent 200 is disposed in the first concentrated gas G16a by processing the second adsorbent 200 at a rotational speed of about 1 to about 4 rph and a concentration magnification of 10 times. An adsorption removal performance (removal rate) of about 60% with respect to the contained toluene can be obtained.

なお、第１吸着体１００と第２吸着体２００とを上記のように構成した場合は、第２吸着体２００の第２脱着領域２２０を通過した第２濃縮ガスＧ２２を、クーラー３１０により５℃まで冷却し、凝縮させて回収部３２０において２８ｋｇ／ｈｒでトルエンを回収するよう構成するとよい。   When the first adsorbent 100 and the second adsorbent 200 are configured as described above, the second concentrated gas G22 that has passed through the second desorption region 220 of the second adsorbent 200 is cooled at 5 ° C. by the cooler 310. It is good to comprise so that it may cool and condense and to collect | recover toluene at 28 kg / hr in the collection | recovery part 320. FIG.

上記の構成とすることにより、第１濃縮装置１０００の第１吸着体１００の吸着除去性能は約９８％以上となり、かつ第２濃縮装置２０００の第２吸着体２００の吸着除去性能は約６０％となる。こうして、第１吸着体１００は、第２吸着体２００よりも、被処理ガスである原ガス（Ｇ１０）中に含まれる有機溶剤に対する吸着除去性能が高くなる。   With the above configuration, the adsorption removal performance of the first adsorbent 100 of the first concentrator 1000 is about 98% or more, and the adsorption removal performance of the second adsorbent 200 of the second concentrator 2000 is about 60%. It becomes. Thus, the first adsorbent 100 has higher adsorption removal performance with respect to the organic solvent contained in the raw gas (G10), which is the gas to be processed, than the second adsorbent 200.

また、上記の構成とすることにより、第１濃縮装置１０００の第１吸着体１００の飽和吸着容量はトルエン約３０００ｐｐｍ、３０℃の条件で約５重量％となり、かつ第２濃縮装置２０００の第２吸着体２００の飽和吸着容量は約１５重量％となる。したがって、第２吸着体２００は、第１吸着体１００よりも、被処理ガスである原ガス（Ｇ１０）中に含まれる有機溶剤に対する飽和吸着容量が大きくなる。   Further, with the above configuration, the saturated adsorption capacity of the first adsorbent 100 of the first concentrator 1000 becomes about 5 wt% under the conditions of about 3000 ppm of toluene and 30 ° C., and the second concentrator 2000 The saturated adsorption capacity of the adsorbent 200 is about 15% by weight. Therefore, the second adsorbent 200 has a higher saturated adsorption capacity for the organic solvent contained in the raw gas (G10), which is the gas to be processed, than the first adsorbent 100.

（動作）
図１を引き続き参照して、本実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１の動作について説明する。第１濃縮装置１０００の第１吸着体１００は連続的に回転方向ＡＲ１に回転する。第１吸着体１００が回転することにより、第１吸着体１００は第１吸着領域１１０に到達する。第１吸着領域１１０に到達した後、第１吸着領域１１０を通過する第１吸着体１００に有機溶剤を含有する原ガスＧ１０が供給される。 (Operation)
With continued reference to FIG. 1, the operation of the organic solvent-containing gas recovery processing system S1 in the present embodiment will be described. The first adsorbent 100 of the first concentrator 1000 continuously rotates in the rotation direction AR1. As the first adsorbent 100 rotates, the first adsorbent 100 reaches the first adsorption region 110. After reaching the first adsorption region 110, the raw gas G10 containing an organic solvent is supplied to the first adsorbent 100 passing through the first adsorption region 110.

供給された原ガスＧ１０は、第１吸着体１００に含まれる吸着剤と接触する。原ガスＧ１０に含まれる有機溶剤は、当該吸着剤に吸着される。第１濃縮装置１０００は、吸着剤により有機溶剤を除去された原ガスＧ１０を、第１吸着領域１１０から第１清浄ガスＧ１２として排出する。   The supplied raw gas G <b> 10 comes into contact with the adsorbent contained in the first adsorbent 100. The organic solvent contained in the raw gas G10 is adsorbed by the adsorbent. The first concentrator 1000 discharges the raw gas G10 from which the organic solvent has been removed by the adsorbent as the first clean gas G12 from the first adsorption region 110.

第１濃縮装置１０００の第１吸着体１００が回転方向ＡＲ１にさらに回転することにより、第１吸着体１００は第１脱着領域１２０に到達する。第１脱着領域１２０に到達した後、第１脱着領域１２０を通過する第１吸着体１００に脱着用ガス（高温の気体）Ｇ１４が供給される。脱着用ガスＧ１４は、たとえばヒーター１４を用いて高温状態にする。   When the first adsorbent 100 of the first concentrator 1000 further rotates in the rotation direction AR1, the first adsorbent 100 reaches the first desorption region 120. After reaching the first desorption region 120, the desorption gas (hot gas) G14 is supplied to the first adsorbent 100 that passes through the first desorption region 120. The desorption gas G14 is brought to a high temperature state using, for example, a heater 14.

脱着用ガスＧ１４は、第１吸着領域１１０から排出された一部の第１清浄ガスＧ１２ａと合流させるよう構成してもよい。この場合、脱着用ガスＧ１４と一部の第１清浄ガスＧ１２ａとを、ヒーター１４などを用いて高温状態とし、第１脱着領域１２０を通過する第１吸着体１００に供給するように構成するとよい。   The desorption gas G14 may be configured to merge with a part of the first clean gas G12a discharged from the first adsorption region 110. In this case, the desorption gas G14 and a part of the first clean gas G12a may be configured to be in a high temperature state using the heater 14 or the like and supplied to the first adsorbent 100 that passes through the first desorption region 120. .

第１脱着領域１２０を通過する第１吸着体１００に供給された脱着用ガスＧ１４は、有機溶剤を吸着している第１吸着体１００の吸着剤と接触する。第１吸着体１００の吸着剤に吸着している有機溶剤は、当該吸着剤から脱着される。第１濃縮装置１０００は、脱着された有機溶剤を、第１脱着領域１２０から第１濃縮ガスＧ１６として排出する。   The desorption gas G14 supplied to the first adsorbent 100 passing through the first desorption region 120 comes into contact with the adsorbent of the first adsorbent 100 adsorbing the organic solvent. The organic solvent adsorbed on the adsorbent of the first adsorbent 100 is desorbed from the adsorbent. The first concentrator 1000 discharges the desorbed organic solvent from the first desorption region 120 as the first concentrated gas G16.

排出された第１濃縮ガスＧ１６は、第２濃縮装置２０００に供給される。具体的には、第２濃縮装置２０００の第２吸着体２００は連続的に回転方向ＡＲ２に回転している。第２吸着体２００が回転することにより、第２吸着体２００は第２吸着領域２１０に到達する。第２吸着領域２１０に到達した後、第２吸着領域２１０を通過する第２吸着体２００に、有機溶剤を含有する第１濃縮ガスＧ１６が供給される。   The discharged first concentrated gas G16 is supplied to the second concentrator 2000. Specifically, the second adsorbent 200 of the second concentrator 2000 continuously rotates in the rotation direction AR2. As the second adsorbent 200 rotates, the second adsorbent 200 reaches the second adsorption region 210. After reaching the second adsorption region 210, the first concentrated gas G16 containing an organic solvent is supplied to the second adsorbent 200 passing through the second adsorption region 210.

第１濃縮ガスＧ１６が高温である場合、クーラー１７を用いて第１濃縮ガスＧ１６を冷却してもよい。クーラー１７により低温の第１濃縮ガスＧ１６ａを得て、低温の第１濃縮ガスＧ１６ａを、第２吸着領域２１０を通過する第２吸着体２００に供給してもよい。   When the 1st concentrated gas G16 is high temperature, you may cool the 1st concentrated gas G16 using the cooler 17. FIG. The cooler 17 may obtain the low-temperature first concentrated gas G16a and supply the low-temperature first concentrated gas G16a to the second adsorbent 200 that passes through the second adsorption region 210.

第２吸着領域２１０を通過する第２吸着体２００に供給された第１濃縮ガスＧ１６ａは、第２吸着体２００に含まれる吸着剤と接触する。第１濃縮ガスＧ１６ａに含まれる有機溶剤は、当該吸着剤に吸着される。第２濃縮装置２０００は、吸着剤により有機溶剤を除去された第１濃縮ガスＧ１６ａを、第２吸着領域２１０から第２清浄ガスＧ１８として排出する。   The first concentrated gas G <b> 16 a supplied to the second adsorbent 200 that passes through the second adsorption region 210 contacts the adsorbent contained in the second adsorbent 200. The organic solvent contained in the first concentrated gas G16a is adsorbed by the adsorbent. The second concentrator 2000 discharges the first concentrated gas G16a, from which the organic solvent has been removed by the adsorbent, from the second adsorption region 210 as the second clean gas G18.

第１濃縮ガスＧ１６ａに含まれる有機溶剤の濃度が、たとえば約９０００ｐｐｍであるとき、第２清浄ガスＧ１８に含まれる有機溶剤の濃度は、約３０００ｐｐｍとなる場合がある。したがってこの場合は、第２清浄ガスＧ１８を、ふたたび原ガスＧ１０に合流させて、原ガスＧ１０とともに第１吸着領域１１０を通過する第１吸着体１００に供給するように構成するとよい。また、第２清浄ガスＧ１８の一部またはすべてを、図示しない燃焼装置などを用いて酸化分解処理するように構成してもよい。   When the concentration of the organic solvent contained in the first concentrated gas G16a is, for example, about 9000 ppm, the concentration of the organic solvent contained in the second clean gas G18 may be about 3000 ppm. Therefore, in this case, the second clean gas G18 may be combined with the raw gas G10 again and supplied to the first adsorbent 100 passing through the first adsorption region 110 together with the raw gas G10. Moreover, you may comprise so that a part or all of 2nd clean gas G18 may be oxidatively decomposed using the combustion apparatus etc. which are not shown in figure.

第２濃縮装置２０００の第２吸着体２００が回転方向ＡＲ２にさらに回転することにより、第２吸着体２００は第２脱着領域２２０に到達する。第２脱着領域２２０に到達した後、第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に高温の第１不活性化ガスＧ２０が供給される。第１不活性化ガスＧ２０は、たとえばヒーター２０を用いて高温状態にする。第１不活性化ガスＧ２０は、たとえば窒素などである。   When the second adsorbent 200 of the second concentrator 2000 further rotates in the rotation direction AR2, the second adsorbent 200 reaches the second desorption region 220. After reaching the second desorption region 220, the high-temperature first inert gas G20 is supplied to the second adsorbent 200 that passes through the second desorption region 220. The first inert gas G20 is brought to a high temperature state using, for example, the heater 20. The first inert gas G20 is, for example, nitrogen.

第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給された第１不活性化ガスＧ２０は、有機溶剤を吸着している第２吸着体２００の吸着剤と接触する。第２吸着体２００の吸着剤に吸着している有機溶剤は、当該吸着剤から脱着される。第２濃縮装置２０００は、脱着された有機溶剤を、第２脱着領域２２０から第２濃縮ガスＧ２２として排出する。第１不活性化ガスＧ２０として窒素を用いると、高温の水蒸気を用いて脱着を行なう場合に比べて第２濃縮ガスＧ２２に含まれる水分濃度を低下させることができる。   The first inert gas G20 supplied to the second adsorbent 200 passing through the second desorption region 220 comes into contact with the adsorbent of the second adsorbent 200 adsorbing the organic solvent. The organic solvent adsorbed on the adsorbent of the second adsorbent 200 is desorbed from the adsorbent. The second concentrator 2000 discharges the desorbed organic solvent from the second desorption region 220 as the second concentrated gas G22. When nitrogen is used as the first inert gas G20, the concentration of water contained in the second concentrated gas G22 can be reduced as compared with the case where desorption is performed using high-temperature steam.

回収装置３０００は、第２濃縮ガスＧ２２が供給される。回収装置３０００は、クーラー３１０により第２濃縮ガスＧ２２を冷却し、第２濃縮ガスＧ２２に含まれる有機溶剤を凝縮させる。回収装置３０００は、回収部３２０により凝縮した有機溶剤を回収液３０１として回収する。なお、クーラー３１０により凝縮できなかった濃縮ガスＧ３０１ａについては、第１不活性化ガスＧ２０と合流させて、ヒーター２０により高温状態にした後、再び第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給するよう構成してもよい。また、一部または全ての濃縮ガスＧ３０１ａを、図示しない燃焼装置などを用いて酸化分解処理するよう構成してもよい。   The recovery device 3000 is supplied with the second concentrated gas G22. The recovery device 3000 cools the second concentrated gas G22 with the cooler 310, and condenses the organic solvent contained in the second concentrated gas G22. The recovery device 3000 recovers the organic solvent condensed by the recovery unit 320 as the recovery liquid 301. Note that the concentrated gas G301a that could not be condensed by the cooler 310 is merged with the first inert gas G20, brought to a high temperature state by the heater 20, and then again passed through the second desorption region 220. You may comprise so that it may supply. Further, a part or all of the concentrated gas G301a may be oxidatively decomposed using a combustion device (not shown).

（効果）
第１濃縮装置１０００の第１吸着体１００は、第１脱着領域１２０において脱着用ガスＧ１４が供給されることにより再生する。再生された第１吸着体１００は、さらに回転することにより、第１吸着領域１１０において再び原ガスＧ１０に含まれる有機溶剤を吸着する。 (effect)
The first adsorbent 100 of the first concentrator 1000 is regenerated by supplying the desorption gas G14 in the first desorption region 120. The regenerated first adsorbent 100 further rotates to adsorb the organic solvent contained in the raw gas G10 again in the first adsorption region 110.

同様に、第２濃縮装置２０００の第２吸着体２００は、第２脱着領域２２０において第１不活性化ガスＧ２０が供給されることにより再生する。再生された第２吸着体２００は、さらに回転することにより、第２吸着領域２１０において再び第１濃縮ガスＧ１６ａに含まれる有機溶剤を吸着する。本実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１によれば、上記の一連の動作を繰り返すことにより、大量の原ガスＧ１０を連続的に濃縮することができる。   Similarly, the second adsorbent 200 of the second concentrator 2000 is regenerated by supplying the first inert gas G20 in the second desorption region 220. The regenerated second adsorbent 200 further rotates to adsorb the organic solvent contained in the first concentrated gas G16a again in the second adsorption region 210. According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S1 in the present embodiment, a large amount of the raw gas G10 can be continuously concentrated by repeating the above series of operations.

本実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１によれば、第１吸着体１００は、第２吸着体２００よりも、原ガスＧ１０中に含まれる有機溶剤に対する吸着除去性能が高くなるように構成されている。つまり、第１吸着体１００に構成されている吸着剤の細孔径が、第２吸着体２００に構成されている吸着剤の細孔径より小さいため、原ガス中の溶剤ガスを素早く吸着できる。したがって、原ガスＧ１０が第１吸着体１００を通過した後の、第１清浄ガスＧ１２としての有機溶剤の含有濃度を、効果的に低くすることができる。   According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S1 in the present embodiment, the first adsorbent 100 is higher in adsorption removal performance with respect to the organic solvent contained in the raw gas G10 than the second adsorbent 200. It is configured. That is, since the pore diameter of the adsorbent configured in the first adsorbent 100 is smaller than the pore diameter of the adsorbent configured in the second adsorbent 200, the solvent gas in the raw gas can be quickly adsorbed. Therefore, the content concentration of the organic solvent as the first clean gas G12 after the raw gas G10 passes through the first adsorbent 100 can be effectively lowered.

さらに、第１吸着体１００は第２吸着体２００に比べて高い吸着除去性能を有しているため、第１吸着体１００は第２吸着体２００に比べて、有機溶剤の吸着除去に好適である。このため、第１脱着領域１２０を通過する第１吸着体１００に脱着用ガスＧ１４が供給されたとき、排出される第１濃縮ガスＧ１６に含まれる有機溶剤の濃度をより高濃度にすることができる。   Furthermore, since the first adsorbent 100 has higher adsorption removal performance than the second adsorbent 200, the first adsorbent 100 is more suitable for adsorbing and removing organic solvents than the second adsorbent 200. is there. For this reason, when the desorption gas G14 is supplied to the first adsorbent 100 that passes through the first desorption region 120, the concentration of the organic solvent contained in the discharged first concentrated gas G16 can be made higher. it can.

なお、第１吸着体１００に構成されている吸着剤の細孔径と、第２吸着体２００に構成されている吸着剤の細孔径とについて、より詳細には次のとおりにするとよい。第１吸着体１００の吸着剤の細孔径は、約７Å未満にするとよく、より好ましくは約６Å未満にするとよい。これに対し、第２吸着体２００の吸着剤の細孔径は、約７Å以上にするとよい。第２吸着体の吸着剤としてゼオライトまたはシリカゲルを用いる場合、第２吸着体２００の吸着剤の細孔径は、約７Å以上約３０Å以下にするとよい。各吸着剤の細孔径を上記のとおりにすることにより、原ガスＧ１０が第１吸着体１００を通過した後の、第１清浄ガスＧ１２としての有機溶剤の含有濃度を、より効果的に低くすることができる。   It should be noted that the pore diameter of the adsorbent configured in the first adsorbent 100 and the pore diameter of the adsorbent configured in the second adsorbent 200 may be described in more detail as follows. The pore size of the adsorbent of the first adsorbent 100 may be less than about 7 mm, more preferably less than about 6 mm. On the other hand, the pore diameter of the adsorbent of the second adsorbent 200 is preferably about 7 mm or more. When zeolite or silica gel is used as the adsorbent of the second adsorbent, the pore diameter of the adsorbent of the second adsorbent 200 is preferably about 7 to 30 cm. By making the pore diameter of each adsorbent as described above, the content concentration of the organic solvent as the first clean gas G12 after the raw gas G10 passes through the first adsorbent 100 is more effectively lowered. be able to.

本実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１によれば、第２吸着体２００は、第１吸着体１００よりも、被処理ガスである原ガスＧ１０中に含まれる有機溶剤に対する飽和吸着容量が大きくなるように構成されている。つまり、第２吸着体２００に構成させている吸着剤の細孔表面積が第１吸着体１００に構成されている吸着剤より大きいため、第１濃縮ガスＧ１６ａに含まれる有機溶剤を大量に吸着できる。したがって、第１不活性化ガスＧ２０を供給することによって、第２吸着体２００の第２脱着領域２２０から第２濃縮ガスＧ２２が排出されたとき、当該第２濃縮ガスＧ２２中に含まれる有機溶剤の濃度をより高濃度にすることが可能となる。   According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S1 in the present embodiment, the second adsorbent 200 is saturated with respect to the organic solvent contained in the raw gas G10 that is the gas to be processed, rather than the first adsorbent 100. Is configured to be large. That is, since the pore surface area of the adsorbent configured in the second adsorbent 200 is larger than the adsorbent configured in the first adsorbent 100, a large amount of the organic solvent contained in the first concentrated gas G16a can be adsorbed. . Therefore, when the second concentrated gas G22 is discharged from the second desorption region 220 of the second adsorbent 200 by supplying the first inert gas G20, the organic solvent contained in the second concentrated gas G22. It becomes possible to make the density of the higher.

さらに、第２吸着体２００は第１吸着体１００に比べて大きな飽和吸着容量を有しているため、第２吸着体２００は第１吸着体１００に比べて有機溶剤の回収に好適である。このため、第２吸着領域２１０を通過する第２吸着体２００に第１濃縮ガスＧ１６ａが供給されたとき、より多くの有機溶剤を吸着させることができる。第２吸着体２００がより多くの有機溶剤を吸着しているため、第１不活性化ガスＧ２０が供給されたときに排出する第２濃縮ガスＧ２２の濃縮倍率を大幅に向上させることが可能となる。   Furthermore, since the second adsorbent 200 has a larger saturated adsorption capacity than the first adsorbent 100, the second adsorbent 200 is more suitable for recovering organic solvents than the first adsorbent 100. Therefore, when the first concentrated gas G16a is supplied to the second adsorbent 200 that passes through the second adsorption region 210, more organic solvent can be adsorbed. Since the second adsorbent 200 adsorbs more organic solvent, it is possible to greatly improve the concentration ratio of the second concentrated gas G22 that is discharged when the first inert gas G20 is supplied. Become.

第２濃縮ガスＧ２２の濃縮倍率が向上するため、回収装置３０００においてより高濃度の回収液を回収することができる。第２濃縮ガスＧ２２の濃縮倍率が向上するため、回収装置３０００に供給する第２濃縮ガスＧ２２の風量を小さくすることも可能であり、さらに回収装置３０００の容量も小さくすることが可能である。   Since the concentration rate of the second concentrated gas G22 is improved, a higher concentration recovered liquid can be recovered in the recovery device 3000. Since the concentration ratio of the second concentrated gas G22 is improved, the air volume of the second concentrated gas G22 supplied to the recovery device 3000 can be reduced, and the capacity of the recovery device 3000 can be reduced.

なお、原ガスＧ１０に含まれる有機溶剤（トルエンとする）の濃度が約３０００ｐｐｍである場合、第１吸着体１００の吸着剤および第２吸着体２００の吸着剤の当該有機溶剤に対する飽和吸着容量は、それぞれ次のとおりにするとよい。第１吸着体１００の吸着剤の飽和吸着容量は、約１０重量％未満にするとよく、より好ましくは、約４重量％以上約８重量％以下にするとよい。これに対し、第２吸着体２００の吸着剤の飽和吸着容量は、約１０重量％以上にするとよく、より好ましくは、約１５重量％以上にするとよい。各吸着剤の飽和吸着容量を上記のとおりにすることにより、第１脱着領域１２０を通過する第１吸着体１００に脱着用ガスＧ１４が供給されたとき、排出される第１濃縮ガスＧ１６に含まれる有機溶剤の濃度をさらに高濃度にすることが可能となる。   When the concentration of the organic solvent (toluene) contained in the raw gas G10 is about 3000 ppm, the saturated adsorption capacity of the adsorbent of the first adsorbent 100 and the adsorbent of the second adsorbent 200 with respect to the organic solvent is The following is recommended. The saturated adsorption capacity of the adsorbent of the first adsorbent 100 may be less than about 10% by weight, and more preferably about 4% by weight or more and about 8% by weight or less. On the other hand, the saturated adsorption capacity of the adsorbent of the second adsorbent 200 is preferably about 10% by weight or more, and more preferably about 15% by weight or more. By including the saturated adsorption capacity of each adsorbent as described above, when the desorption gas G14 is supplied to the first adsorbent 100 passing through the first desorption region 120, it is included in the first concentrated gas G16 that is discharged. It becomes possible to further increase the concentration of the organic solvent.

したがって、本実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１によれば、第１または第２濃縮装置の吸着体の大きさを大きくする必要が無いため、原ガスＧ１０中に含まれる有機溶剤に対する吸着能を低下させることもない。本実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１によれば、冒頭で説明した１つの吸着体を用いる場合に比べ、原ガス中に含まれる有機溶剤をより多く除去することができる。   Therefore, according to the organic solvent-containing gas recovery processing system S1 in the present embodiment, since it is not necessary to increase the size of the adsorbent of the first or second concentrator, the amount of the organic solvent contained in the raw gas G10 can be reduced. It does not reduce the adsorption capacity. According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S1 in the present embodiment, a larger amount of the organic solvent contained in the raw gas can be removed compared to the case where one adsorbent described at the beginning is used.

本実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１によれば、第２濃縮ガスＧ２２に含まれる有機溶剤の濃度を高くするために、第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給する第２不活性化ガスＧ２０の風速を遅くする必要がない。   According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S1 in the present embodiment, the second adsorbent 200 that passes through the second desorption region 220 is supplied to increase the concentration of the organic solvent contained in the second concentrated gas G22. There is no need to slow down the wind speed of the second inert gas G20.

したがって、本実施の形態における有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１によれば、システム全体としての処理速度を低下させることなく、吸着および脱着の処理を効率的に行なうことができる。   Therefore, according to the organic solvent-containing gas recovery processing system S1 in the present embodiment, the adsorption and desorption processes can be efficiently performed without reducing the processing speed of the entire system.

（実施の形態２）
図２を参照して、有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ２について説明する。有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ１と有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ２とは、第２濃縮装置２０００の第２脱着領域２２０が、冷却領域２２１を含んでいる点において相違する。 (Embodiment 2)
The organic solvent-containing gas recovery processing system S2 will be described with reference to FIG. The organic solvent-containing gas recovery processing system S1 is different from the organic solvent-containing gas recovery processing system S2 in that the second desorption region 220 of the second concentrator 2000 includes a cooling region 221.

より具体的には、第２濃縮装置２０００の第２脱着領域２２０は、第２吸着体２００の回転方向ＡＲ２における第２脱着領域２２０の下流側に位置する冷却領域２２１を含んでいる。冷却領域２２１を通過する第２吸着体２００には、第２不活性化ガスＧ３０が供給される。第２不活性化ガスＧ３０が供給されることにより、冷却領域２２１を通過する第２吸着体２００は冷却される。第２不活性化ガスＧ３０は、たとえば窒素である。   More specifically, the second desorption region 220 of the second concentrator 2000 includes a cooling region 221 located on the downstream side of the second desorption region 220 in the rotation direction AR2 of the second adsorbent 200. The second inert gas G30 is supplied to the second adsorbent 200 that passes through the cooling region 221. By supplying the second inert gas G30, the second adsorbent 200 passing through the cooling region 221 is cooled. The second inert gas G30 is, for example, nitrogen.

冷却領域２２１を通過する第２吸着体２００に第２不活性化ガスＧ３０が供給されることにより、冷却領域２２１から第３不活性化ガスＧ３２が排出される。第２不活性化ガスＧ３０は、第２脱着領域２２０の下流側に位置する冷却領域２２１に供給されるため、冷却領域２２１から排出された第３不活性化ガスＧ３２には、有機溶剤がほとんど含まれていない場合もある。なお、冷却領域２２１から排出された一部の第３不活性化ガスＧ３２ａを第１濃縮ガスＧ１６ａ（Ｇ１６）と合流させ、第１濃縮ガスＧ１６ａとともに、第２吸着領域２１０を通過する第２吸着体２００に供給するよう構成してもよい。   By supplying the second inert gas G30 to the second adsorbent 200 that passes through the cooling region 221, the third inert gas G32 is discharged from the cooling region 221. Since the second inert gas G30 is supplied to the cooling region 221 located on the downstream side of the second desorption region 220, the third inert gas G32 discharged from the cooling region 221 contains almost no organic solvent. It may not be included. Note that a part of the third inert gas G32a discharged from the cooling region 221 is joined with the first concentrated gas G16a (G16), and passes through the second adsorption region 210 together with the first concentrated gas G16a. You may comprise so that it may supply to the body 200. FIG.

第２不活性化ガスＧ３０として窒素を用いると、高温の水蒸気を用いて脱着を行なう場合に比べて第３不活性化ガスＧ３２に含まれる水分濃度を低下させることもできる。   When nitrogen is used as the second inert gas G30, the concentration of water contained in the third inert gas G32 can be reduced as compared with the case where desorption is performed using high-temperature steam.

一般的に、吸着体に吸着した有機溶剤を脱着させるためには、高温の気体が用いられる。高温の気体が吸着体に供給されることにより、吸着体からは有機溶剤が脱着するが、同時に吸着体も加熱されて高温状態となる。吸着体への有機溶剤の吸着量は、低温で大きくなり、高温で小さくなる。回転式の吸着体において、高温状態のまま再び吸着体が吸着領域に到達すると、有機溶剤に対する吸着量の低下を招く。   In general, a high-temperature gas is used to desorb the organic solvent adsorbed on the adsorbent. When the high temperature gas is supplied to the adsorbent, the organic solvent is desorbed from the adsorbent. The amount of organic solvent adsorbed on the adsorbent increases at low temperatures and decreases at high temperatures. In the rotary adsorbent, when the adsorbent reaches the adsorption region again in a high temperature state, the amount of adsorption to the organic solvent is reduced.

有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ２によれば、第２吸着体２００が再び第２吸着領域２１０に到達する前に、冷却領域２２１において冷却されるため、高温状態のまま第２吸着体２００が第２吸着領域２１０に到達することがない。有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ２によれば、第２濃縮装置２０００における有機溶剤に対する吸着量の低下を防止することができる。   According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S2, since the second adsorbent 200 is cooled in the cooling region 221 before reaching the second adsorbing region 210 again, the second adsorbent 200 remains in the high temperature state. The 2 adsorption area 210 is not reached. According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S2, it is possible to prevent a decrease in the amount of adsorption with respect to the organic solvent in the second concentrator 2000.

（実施の形態３）
図３を参照して、有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ３について説明する。有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ２と有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ３とは、帰還路３２をさらに備えている点において相違する。 (Embodiment 3)
The organic solvent-containing gas recovery processing system S3 will be described with reference to FIG. The organic solvent-containing gas recovery processing system S2 is different from the organic solvent-containing gas recovery processing system S3 in that a return path 32 is further provided.

冷却領域２２１を通過する第２吸着体２００に第２不活性化ガスＧ３０が供給されることにより第３不活性化ガスＧ３２が排出される。帰還路３２は、排出された第３不活性化ガスＧ３２の一部の第３不活性化ガスＧ３２ｂを、第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給する。帰還路３２は、排出された第３不活性化ガスＧ３２のすべてを、第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給するよう構成してもよい。   By supplying the second inert gas G30 to the second adsorbent 200 passing through the cooling region 221, the third inert gas G32 is discharged. The return path 32 supplies a part of the third inert gas G32b that has been discharged to the second adsorbent 200 that passes through the second desorption region 220. The return path 32 may be configured to supply all of the discharged third inert gas G32 to the second adsorbent 200 that passes through the second desorption region 220.

第３不活性化ガスＧ３２ｂが低温である場合、ヒーター２０により加熱し、第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給するよう構成してもよい。   When the 3rd inactivation gas G32b is low temperature, you may comprise so that it may heat with the heater 20 and may supply to the 2nd adsorption body 200 which passes the 2nd desorption area | region 220. FIG.

第３不活性化ガスＧ３２ｂは、第１不活性化ガスＧ２０とともに第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給されてもよいし、第１不活性化ガスＧ２０とは別々に第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給されてもよい。第１不活性化ガスＧ２０とは別々に第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給されるとき、第３不活性化ガスＧ３２ｂは、第１不活性化ガスＧ２０に対して回転方向ＡＲ２の上流側に供給されてもよく、下流側に供給されてもよい。   The third inert gas G32b may be supplied to the second adsorbent 200 passing through the second desorption region 220 together with the first inert gas G20, or the third inert gas G32b may be supplied separately from the first inert gas G20. 2 may be supplied to the second adsorbent 200 that passes through the desorption region 220. When supplied to the second adsorbent 200 that passes through the second desorption region 220 separately from the first inert gas G20, the third inert gas G32b rotates relative to the first inert gas G20. It may be supplied to the upstream side in the direction AR2, or may be supplied to the downstream side.

有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ３によれば、第３不活性化ガスＧ３２ｂを第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給している。第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００に供給された第３不活性化ガスＧ３２ｂは、有機溶剤を吸着している第２吸着体２００の吸着剤と接触する。第２吸着体２００の吸着剤に吸着している有機溶剤は、当該吸着剤から脱着される。第３不活性化ガスＧ３２ｂは、第１不活性化ガスＧ２０とともに、第２吸着体２００から有機溶剤を脱着させる。   According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S3, the third inert gas G32b is supplied to the second adsorbent 200 that passes through the second desorption region 220. The third inert gas G32b supplied to the second adsorbent 200 passing through the second desorption region 220 comes into contact with the adsorbent of the second adsorbent 200 adsorbing the organic solvent. The organic solvent adsorbed on the adsorbent of the second adsorbent 200 is desorbed from the adsorbent. The third inert gas G32b desorbs the organic solvent from the second adsorbent 200 together with the first inert gas G20.

有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ３によれば、第３不活性化ガスＧ３２ｂによっても第２脱着領域２２０を通過する第２吸着体２００から有機溶剤を脱着させることができる。有機溶剤含有ガス回収処理システムＳ３によれば、帰還路３２を備えていない場合に比べ、第１不活性化ガスＧ２０の使用量を少なくすることが可能となる。   According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S3, the organic solvent can be desorbed from the second adsorbent 200 passing through the second desorption region 220 even by the third inert gas G32b. According to the organic solvent-containing gas recovery processing system S3, it is possible to reduce the amount of the first inert gas G20 used as compared with the case where the return path 32 is not provided.

（実験結果）
次に、図４および図５を参照して、上記の実施の形態３の構成に基いた実験結果（実験１〜実験３）について説明する。図４中に示している第１吸着体の吸着剤および第２吸着体の吸着剤（ゼオライトＩ〜ゼオライトＩＩＩ，活性炭）は、図５中にその詳細を示している。 (Experimental result)
Next, with reference to FIG. 4 and FIG. 5, the experimental results (Experiment 1 to Experiment 3) based on the configuration of the third embodiment will be described. The details of the adsorbent of the first adsorbent and the adsorbent of the second adsorbent (zeolite I to zeolite III, activated carbon) shown in FIG. 4 are shown in FIG.

（実験１）
図４をまず参照して、本実験では、原ガスＧ１０として、成分が酢酸エチル、風量が約１２０Ｎｍ３／ｍｉｎ、濃度が約５００ｐｐｍである気体を用いた。第１吸着体１００の吸着剤としてゼオライトＩを用い、第２吸着体２００の吸着剤としてゼオライトＩＩＩを用いた。図５を参照して、ゼオライトＩとは、飽和水分吸着率が約２％であり、吸着剤としての構造がＺＳＭ−５型のゼオライトである（以下同じ）。ゼオライトＩＩＩとは、飽和水分吸着率が約２％であり、吸着剤としての構造がＹ型のゼオライトである（以下同じ）。 (Experiment 1)
Referring first to FIG. 4, in this experiment, a gas having a component of ethyl acetate, an air volume of about 120 Nm 3 / min, and a concentration of about 500 ppm was used as the raw gas G10. Zeolite I was used as the adsorbent for the first adsorbent 100, and zeolite III was used as the adsorbent for the second adsorbent 200. Referring to FIG. 5, zeolite I is a zeolite having a saturated moisture adsorption rate of about 2% and a ZSM-5 type structure as an adsorbent (the same applies hereinafter). Zeolite III is a zeolite having a saturated water adsorption rate of about 2% and a structure as an adsorbent (hereinafter the same).

図４を再び参照して、本実験によれば、原ガスＧ１０に含まれる有機溶剤を約９８％除去することが可能であった。また、回収した回収液３０１中の水分濃度は約０．５％であった。   Referring to FIG. 4 again, according to this experiment, it was possible to remove about 98% of the organic solvent contained in the raw gas G10. Further, the water concentration in the collected recovered liquid 301 was about 0.5%.

（実験２）
本実験では、第１吸着体１００の吸着剤としてゼオライトＩＩを用い、第２吸着体２００の吸着剤としてゼオライトＩＩＩを用いた。図５を再び参照して、ゼオライトＩＩとは、飽和水分吸着率が約０．５％未満であり、吸着剤としての構造がＺＳＭ−５型のゼオライトである（以下同じ）。その他の構成は実験１と同様である。 (Experiment 2)
In this experiment, zeolite II was used as the adsorbent for the first adsorbent 100, and zeolite III was used as the adsorbent for the second adsorbent 200. Referring back to FIG. 5, zeolite II is a zeolite having a saturated water adsorption rate of less than about 0.5% and a ZSM-5 type structure as an adsorbent (the same applies hereinafter). Other configurations are the same as those in Experiment 1.

図４を再び参照して、本実験によれば、原ガスＧ１０に含まれる有機溶剤を約９８％除去することが可能であった。また、回収した回収液３０１中の水分濃度は約０．２％未満であった。   Referring to FIG. 4 again, according to this experiment, it was possible to remove about 98% of the organic solvent contained in the raw gas G10. Further, the water concentration in the collected recovered liquid 301 was less than about 0.2%.

（実験３）
本実験では、原ガスＧ１０として、成分がトルエン、風量が約１２０Ｎｍ３／ｍｉｎ、濃度が約５００ｐｐｍである気体を用いた。第１吸着体１００の吸着剤としてゼオライトＩＩを用い、第２吸着体２００の吸着剤として活性炭を用いた。図５を再び参照して、活性炭とは、飽和水分吸着率が約１０％であり、吸着剤としての構造がヤシガラ炭の活性炭である（以下同じ）。 (Experiment 3)
In this experiment, a gas having a component of toluene, an air volume of about 120 Nm 3 / min, and a concentration of about 500 ppm was used as the raw gas G10. Zeolite II was used as the adsorbent for the first adsorbent 100, and activated carbon was used as the adsorbent for the second adsorbent 200. Referring again to FIG. 5, activated carbon has a saturated moisture adsorption rate of about 10%, and the structure as an adsorbent is activated carbon of coconut husk charcoal (hereinafter the same).

図４を再び参照して、本実験によれば、原ガスＧ１０に含まれる有機溶剤を約９８％除去することが可能であった。また、回収した回収液３０１中の水分濃度は約０．２％未満であった。   Referring to FIG. 4 again, according to this experiment, it was possible to remove about 98% of the organic solvent contained in the raw gas G10. Further, the water concentration in the collected recovered liquid 301 was less than about 0.2%.

一般的に、ＺＳＭ−５型のゼオライトの表面積は、約４００ｍ２／ｇ〜約４２０ｍ２／ｇである。Ｙ型のゼオライトの表面積は約６６０ｍ２／ｇ〜約９２０ｍ２／ｇである。 Generally, the surface area of ZSM-5 type zeolite is about 400 meters 2 / g to about 420 m 2 / g. Surface area of the Y-type zeolite is about 660m 2 / g to about 920m 2 / g.

ゼオライトの上記特性と、実験１〜実験３の結果とから、第１吸着体１００はＺＳＭ−５型のゼオライトであり、かつ第２吸着体２００は、Ｙ型のゼオライトまたは活性炭のいずれかを含んでいるとよいことがわかる。また、第１吸着体１００は、飽和水分吸着率が約０．５重量％以下のＺＳＭ−５型のゼオライトであるとさらによいことがわかる。   From the above characteristics of zeolite and the results of Experiments 1 to 3, the first adsorbent 100 is a ZSM-5 type zeolite, and the second adsorbent 200 contains either Y type zeolite or activated carbon. You can see that it is better It can also be seen that the first adsorbent 100 is better if it is a ZSM-5 type zeolite having a saturated moisture adsorption rate of about 0.5 wt% or less.

これは、原ガスＧ１０は、少なからず湿った状態であり、水分を多く含んでいる場合がある。原ガスＧ１０に一定量の水分が含まれている場合に、第１吸着体１００として飽和水分吸着率の高い吸着剤を用いると、第１吸着体１００から脱着される第１濃縮ガスＧ１６の中には、有機溶剤だけでなく水分も一緒に含まれることになる。これは、結果として、第２濃縮装置２０００を経て回収される回収液３０１の中にも、水分が所定の量だけ含まれることになる。   This is because the raw gas G10 is not a little wet and may contain a lot of moisture. When a certain amount of moisture is contained in the raw gas G10, if an adsorbent having a high saturated moisture adsorption rate is used as the first adsorbent 100, the first concentrated gas G16 desorbed from the first adsorbent 100 will be used. Will contain not only organic solvents but also moisture. As a result, a predetermined amount of moisture is also contained in the recovered liquid 301 recovered through the second concentrator 2000.

したがって、第１吸着体１００に、飽和水分吸着率の低い吸着剤を使用することで、第１濃縮装置１０００から排出される第１濃縮ガスＧ１６にはほとんど水分が含まれないこととなる。これは、結果として、第２濃縮装置２０００を経て回収される回収液３０１の中にも、水分がほとんど含まれないことになる。よって、第１吸着体１００は、飽和水分吸着率が約０．５重量％以下のＺＳＭ−５型のゼオライトであるとさらによいことがわかる。   Therefore, by using an adsorbent with a low saturated moisture adsorption rate for the first adsorbent 100, the first concentrated gas G16 discharged from the first concentrator 1000 contains almost no moisture. As a result, almost no moisture is contained in the recovered liquid 301 recovered through the second concentrator 2000. Therefore, it can be seen that the first adsorbent 100 is better if it is a ZSM-5 type zeolite having a saturated moisture adsorption rate of about 0.5 wt% or less.

なお、実験１〜実験３の結果から、第１吸着体１００がＺＳＭ−５型ゼオライトである場合、第２吸着体２００はシリカゲルであってもよいことがわかる。   From the results of Experiments 1 to 3, it can be seen that when the first adsorbent 100 is ZSM-5 type zeolite, the second adsorbent 200 may be silica gel.

（比較実験結果）
次に、図６および図７を参照して、本発明に関する比較実験結果について説明する。図７中に示す比較例１および比較例２は、図６に示す構成に基づき行なった比較実験結果をそれぞれ示している。図７中に示している（第１）吸着体の吸着剤（ゼオライトＩＩＩ，活性炭）は、上記実験１〜実験３の場合と同様に、図５中にその詳細を示している。 (Comparison experiment result)
Next, with reference to FIG. 6 and FIG. 7, the results of comparative experiments relating to the present invention will be described. Comparative Example 1 and Comparative Example 2 shown in FIG. 7 show the results of comparative experiments conducted based on the configuration shown in FIG. The details of the adsorbent (zeolite III, activated carbon) of the (first) adsorbent shown in FIG. 7 are shown in FIG. 5 as in the case of Experiment 1 to Experiment 3.

（比較例１）
図６および図７を参照して、本比較例では、原ガス（Ｇ１）として、成分が酢酸エチル、風量が約１２０Ｎｍ３／ｍｉｎ、濃度が約５００ｐｐｍである気体を用いた。（第１）吸着体１０の吸着剤としてゼオライトＩＩＩを用いた。本比較例では、図６に示すように１つの吸着体１０のみが用いられている。 (Comparative Example 1)
Referring to FIGS. 6 and 7, in this comparative example, a gas having a component of ethyl acetate, an air volume of about 120 Nm 3 / min, and a concentration of about 500 ppm was used as the raw gas (G1). (First) Zeolite III was used as the adsorbent for the adsorbent 10. In this comparative example, only one adsorbent 10 is used as shown in FIG.

本比較例によれば、原ガスＧ１に含まれる有機溶剤を約２０％除去することが可能であった。また、回収した回収液７中の水分濃度は約０．５％未満であった。上記の実験１〜実験３と比べると、有機溶剤の除去率が低いことがわかる。   According to this comparative example, it was possible to remove about 20% of the organic solvent contained in the raw gas G1. Further, the water concentration in the collected recovered liquid 7 was less than about 0.5%. Compared with Experiment 1 to Experiment 3 above, it can be seen that the organic solvent removal rate is low.

（比較例２）
図６および図７を再び参照して、本比較例では、原ガス（Ｇ１）として、成分がトルエン、風量が約１２０Ｎｍ３／ｍｉｎ、濃度が約５００ｐｐｍである気体を用いた。（第１）吸着体１０の吸着剤として活性炭を用いた。本比較例では、比較例１と同様に、１つの吸着体１０のみが用いられている。 (Comparative Example 2)
Referring again to FIGS. 6 and 7, in this comparative example, a gas having a component of toluene, an air volume of about 120 Nm 3 / min, and a concentration of about 500 ppm was used as the raw gas (G1). (First) Activated carbon was used as the adsorbent for the adsorbent 10. In this comparative example, only one adsorbent 10 is used as in Comparative Example 1.

本比較例によれば、原ガスＧ１に含まれる有機溶剤を約１５％除去することが可能であった。また、回収した回収液７中の水分濃度は約０．５％未満であった。上記の実験１〜実験３と比べると、有機溶剤の除去率が低いことがわかる。   According to this comparative example, it was possible to remove about 15% of the organic solvent contained in the raw gas G1. Further, the water concentration in the collected recovered liquid 7 was less than about 0.5%. Compared with Experiment 1 to Experiment 3 above, it can be seen that the organic solvent removal rate is low.

（他の比較実験結果）
次に、図７を参照して、本発明に関する他の比較実験結果について説明する。図７中に示す比較例３および比較例４は、上記の実施の形態３に対し、第１吸着体１００および第２吸着体２００に用いる吸着剤を同一のものとして行なった比較実験結果をそれぞれ示している。図７中に示している第１吸着体の吸着剤および第２吸着体の吸着剤（ゼオライトＩ，ゼオライトＩＩＩ）は、上記実験１〜実験３の場合と同様に、図５中にその詳細を示している。 (Results of other comparative experiments)
Next, with reference to FIG. 7, another comparative experiment result relating to the present invention will be described. Comparative Example 3 and Comparative Example 4 shown in FIG. 7 are the results of comparative experiments in which the same adsorbent is used for the first adsorbent 100 and the second adsorbent 200 with respect to the third embodiment. Show. The adsorbent of the first adsorbent and the adsorbent of the second adsorbent (zeolite I, zeolite III) shown in FIG. 7 are shown in detail in FIG. Show.

（比較例３）
本比較例では、原ガス（Ｇ１０）として、成分が酢酸エチル、風量が約１２０Ｎｍ３／ｍｉｎ、濃度が約５００ｐｐｍである気体を用いた。第１吸着体１００および第２吸着体２００の吸着剤としてゼオライトＩを用いた。本比較例では、第１吸着体１００および第２吸着体２００に用いた吸着剤は同一である。 (Comparative Example 3)
In this comparative example, as the raw gas (G10), a gas having a component of ethyl acetate, an air volume of about 120 Nm 3 / min, and a concentration of about 500 ppm was used. Zeolite I was used as the adsorbent for the first adsorbent 100 and the second adsorbent 200. In this comparative example, the adsorbent used for the first adsorbent 100 and the second adsorbent 200 is the same.

本比較例によれば、原ガスに含まれる有機溶剤を約８０％除去することが可能であった。また、回収した回収液（３０１）中の水分濃度は約０．５％未満であった。上記の実験１〜実験３と比べると、有機溶剤の除去率が低いことがわかる。   According to this comparative example, it was possible to remove about 80% of the organic solvent contained in the raw gas. Further, the water concentration in the recovered liquid (301) was less than about 0.5%. Compared with Experiment 1 to Experiment 3 above, it can be seen that the organic solvent removal rate is low.

（比較例４）
本比較例では、原ガス（Ｇ１０）として、成分が酢酸エチル、風量が約１２０Ｎｍ３／ｍｉｎ、濃度が約５００ｐｐｍである気体を用いた。第１吸着体１００および第２吸着体２００の吸着剤としてゼオライトＩＩＩを用いた。本比較例では、比較例３と同様に、第１吸着体１００および第２吸着体２００に用いた吸着剤は同一である。 (Comparative Example 4)
In this comparative example, as the raw gas (G10), a gas having a component of ethyl acetate, an air volume of about 120 Nm 3 / min, and a concentration of about 500 ppm was used. Zeolite III was used as the adsorbent for the first adsorbent 100 and the second adsorbent 200. In this comparative example, as in Comparative Example 3, the adsorbent used for the first adsorbent 100 and the second adsorbent 200 is the same.

本比較例によれば、原ガスに含まれる有機溶剤を約８５％除去することが可能であった。また、回収した回収液（３０１）中の水分濃度は約０．５％未満であった。上記の実験１〜実験３と比べると、有機溶剤の除去率が低いことがわかる。   According to this comparative example, it was possible to remove about 85% of the organic solvent contained in the raw gas. Further, the water concentration in the recovered liquid (301) was less than about 0.5%. Compared with Experiment 1 to Experiment 3 above, it can be seen that the organic solvent removal rate is low.

以上、本発明の発明を実施するための形態について説明したが、今回開示された形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   As mentioned above, although the form for implementing invention of this invention was demonstrated, it should be thought that the form disclosed this time is an illustration and restrictive at no points. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

１ 濃縮装置、２，１４，２０，３３ ヒーター、３ 回収装置、５，１７ クーラー、６，３２０ 回収部、７，３０１ 回収液、９ 筒軸、１０ 吸着体、１１ 吸着領域、１２ 脱着領域、３２ 帰還路、１００ 第１吸着体、１０１ 第１筒軸、１１０ 第１吸着領域、１２０ 第１脱着領域、２００ 第２吸着体、２０１ 第２筒軸、２１０ 第２吸着領域、２２０ 第２脱着領域、２２１ 冷却領域、３１０ クーラー、１０００ 第１濃縮装置、２０００ 第２濃縮装置、３０００ 回収装置、ＡＲ，ＡＲ１，ＡＲ２ 回転方向、Ｇ１，Ｇ１０ 原ガス、Ｇ２ 清浄ガス、Ｇ３ 脱着用ガス、Ｇ４，Ｇ７ａ，Ｇ３０１ａ 濃縮ガス、Ｇ１２，Ｇ１２ａ 第１清浄ガス、Ｇ１４ 脱着用ガス、Ｇ１６，Ｇ１６ａ 第１濃縮ガス、Ｇ１８ 第２清浄ガス、Ｇ２０ 第１不活性化ガス、Ｇ２２ 第２濃縮ガス、Ｇ３０ 第２不活性化ガス、Ｇ３２，Ｇ３２ａ，Ｇ３２ｂ 第３不活性化ガス、Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ１０ 有機溶剤含有ガス回収処理システム。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Concentrator, 2, 14, 20, 33 Heater, 3 Recovery device, 5,17 Cooler, 6,320 Recovery part, 7,301 Recovery liquid, 9 Cylinder shaft, 10 Adsorbent, 11 Adsorption region, 12 Desorption region, 32 Return path, 100 1st adsorption body, 101 1st cylinder axis, 110 1st adsorption area, 120 1st desorption area, 200 2nd adsorption body, 201 2nd cylinder axis, 210 2nd adsorption area, 220 2nd desorption Region, 221 cooling region, 310 cooler, 1000 first concentrator, 2000 second concentrator, 3000 recovery device, AR, AR1, AR2 rotational direction, G1, G10 raw gas, G2 clean gas, G3 desorption gas, G4 G7a, G301a concentrated gas, G12, G12a first clean gas, G14 desorption gas, G16, G16a first concentrated gas, G18 second clean gas, 20 first inert gases, G22 second enriched gas, G30 second inert gases, G32, G32a, G32b third inert gases, S1, S2, S3, S10 organic solvent-containing gas recovery processing systems.

Claims (5)

揮発性を有する低濃度の有機溶剤を含有する原ガスから前記有機溶剤を回収する有機溶剤含有ガス回収処理システムであって、
第１筒軸の周りに回転可能に設けられた筒状の第１吸着体と、前記第１吸着体の回転方向に並んで規定され前記第１吸着体が回転することにより前記第１吸着体をその内部に交互に通過させる第１吸着領域および第１脱着領域とを有し、前記第１吸着領域を通過する前記第１吸着体に前記原ガスを供給することにより前記原ガスに含有される前記有機溶剤を吸着させ、前記第１脱着領域を通過する前記有機溶剤を吸着した前記第１吸着体に脱着用ガスを供給することにより前記第１吸着体から前記有機溶剤を脱着させ、第１濃縮ガスを排出する第１濃縮装置と、
第２筒軸の周りに回転可能に設けられた筒状の第２吸着体と、前記第２吸着体の回転方向に並んで規定され前記第２吸着体が回転することにより前記第２吸着体をその内部に交互に通過させる第２吸着領域および第２脱着領域とを有し、前記第２吸着領域を通過する前記第２吸着体に前記第１濃縮ガスを供給することにより前記第１濃縮ガスに含有される前記有機溶剤を吸着させ、前記第２脱着領域を通過する前記第２吸着体に第１不活性化ガスを供給することにより前記第２吸着体から前記有機溶剤を脱着させ、第２濃縮ガスを排出する第２濃縮装置と、
前記第２濃縮ガスが供給され、前記第２濃縮ガスを冷却することにより前記第２濃縮ガスに含まれる前記有機溶剤を凝縮させ、凝縮した前記有機溶剤を回収する回収装置と、を備え、
前記第１吸着体は、前記第２吸着体よりも前記有機溶剤に対する吸着除去性能が高く、
前記第２吸着体は、前記第１吸着体よりも前記有機溶剤に対する飽和吸着容量が大きい、
有機溶剤含有ガス回収処理システム。 An organic solvent-containing gas recovery processing system for recovering the organic solvent from a raw gas containing a low concentration organic solvent having volatility,
A cylindrical first adsorbent that is rotatably provided around a first cylinder axis, and the first adsorbent that is defined by being aligned in the rotation direction of the first adsorbent and rotating the first adsorbent. Are supplied to the raw gas by supplying the raw gas to the first adsorbent that passes through the first adsorption region. The organic solvent is adsorbed and desorbed from the first adsorbent by supplying a desorption gas to the first adsorbent adsorbing the organic solvent passing through the first desorption region, A first concentrator for discharging one concentrated gas;
A cylindrical second adsorbent that is rotatably provided around the second cylinder axis, and the second adsorbent that is defined by being aligned in the rotation direction of the second adsorbent and rotating the second adsorbent. The first enrichment by supplying the first concentrated gas to the second adsorbent passing through the second adsorption region, and having a second adsorption region and a second desorption region through which the gas passes alternately. Adsorbing the organic solvent contained in a gas, desorbing the organic solvent from the second adsorbent by supplying a first inert gas to the second adsorbent passing through the second desorption region; A second concentrator for discharging the second concentrated gas;
A recovery device for supplying the second concentrated gas, condensing the organic solvent contained in the second concentrated gas by cooling the second concentrated gas, and recovering the condensed organic solvent;
The first adsorbent has higher adsorption removal performance with respect to the organic solvent than the second adsorbent,
The second adsorbent has a larger saturated adsorption capacity for the organic solvent than the first adsorbent,
Organic solvent-containing gas recovery processing system. 前記第１吸着体に含まれている吸着剤はＺＳＭ−５型ゼオライトであり、
前記第２吸着体に含まれている吸着剤は、Ｙ型ゼオライト、シリカゲルまたは活性炭のいずれかを含む、
請求項１に記載の有機溶剤含有ガス回収処理システム。 The adsorbent contained in the first adsorbent is ZSM-5 type zeolite,
The adsorbent contained in the second adsorbent includes any of Y-type zeolite, silica gel, or activated carbon.
The organic solvent containing gas collection | recovery processing system of Claim 1. 前記第１吸着体に含まれている前記吸着剤は、飽和水分吸着率が約０．５重量％以下のＺＳＭ−５型ゼオライトである、
請求項２に記載の有機溶剤含有ガス回収処理システム。 The adsorbent contained in the first adsorbent is ZSM-5 type zeolite having a saturated moisture adsorption rate of about 0.5 wt% or less.
The organic solvent containing gas recovery processing system according to claim 2. 前記第２脱着領域は、前記第２吸着体の回転方向における前記第２脱着領域の下流側に位置する冷却領域を含み、
前記冷却領域を通過する前記第２吸着体に第２不活性化ガスが供給されることにより、前記冷却領域を通過する前記第２吸着体が冷却される、
請求項１から３のいずれかに記載の有機溶剤含有ガス回収処理システム。 The second desorption region includes a cooling region located downstream of the second desorption region in the rotation direction of the second adsorbent,
The second adsorbent passing through the cooling region is cooled by supplying a second inert gas to the second adsorbent passing through the cooling region.
The organic solvent containing gas collection | recovery processing system in any one of Claim 1 to 3. 前記冷却領域を通過する前記第２吸着体に前記第２不活性化ガスが供給されることにより第３不活性化ガスが排出され、
前記冷却領域から排出された前記第３不活性化ガスの一部または全てを、前記第２脱着領域を通過する前記第２吸着体に供給するための帰還路をさらに備えた、
請求項４に記載の有機溶剤含有ガス回収処理システム。 A third inert gas is discharged by supplying the second inert gas to the second adsorbent passing through the cooling region,
A feedback path for supplying a part or all of the third inert gas discharged from the cooling region to the second adsorbent passing through the second desorption region;
The organic solvent containing gas collection | recovery processing system of Claim 4.
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