JP2011034081A - ポリアニリンシラノール含有中間転写部材 - Google Patents

Abstract

【課題】トナー転写性およびクリーニング性に優れ、表面抵抗率の変化が低い中間転写部材を提供する。
【解決手段】コアシェル構成物からなる中間転写部材であって、該コアがポリアニリンからなり、該シェルがポリヘドラルシルセスキオキサンからなる。ポリアニリンは、ポリ（ｐ−フェニレンイミンアミン）であってもよい。該コアはまた、カーボンブラック、金属酸化物、ポリアニリンなどの導電性成分をさらに含むこともできる。
【選択図】なし

Description

本発明は、中間転写部材に関し、より詳しくは、静電写真、たとえば電子写真、たとえばデジタル、イメージ・オン・イメージなどのプリンタ、機械または装置における、現像された画像を転写するのに有用な中間転写部材に関する。

中間転写部材を使用することによる不利な点は、トナー粒子と転写部材との間で電荷の交換が起きうるようにするためには、複数の転写工程が通常必要とされ、そのために結局は、完全にはほど遠いトナーの転写となってしまうことである。その結果として、受像基材の上に得られる画像が低解像度となり、画像の劣化も伴う。その画像がカラーである場合には、その画像ではさらに、転写工程が多いために、色ずれや褪色を起こす可能性もある。

実施態様においては、中間転写部材の抵抗率は、十分な転写を可能とする範囲に入っている。中間転写部材が制御された抵抗率を有しているのもまた望ましいが、この場合その抵抗率は、湿度、温度、バイアス電場、および操作時間の変化の影響をほとんど受けない。さらに、抵抗率が制御されていると、静電転写のためのバイアス電場を作ることができるという点でも価値がある。さらに、その中間転写部材が、空気の絶縁破壊（air breakdown）が起こりうるほどには、導電性が高くないということでも価値がある。

米国特許第７，１３０，５６９号明細書には、全固形分の約２〜約２５重量パーセントの量のポリアニリンと全固形分の約７５〜約９８重量パーセントの量で存在する熱可塑性ポリイミドとを含む均一系組成物を含む基材が含まれる、融着可能な中間転写ベルトが記載されているが、そのポリアニリンは約０．５〜約５ミクロンの粒径を有している。

米国特許第６，３９７，０３４号には、ポリイミド中間転写部材層の中でフッ素化炭素充填剤を使用することが開示されている。しかしながら、それらの部材に伴って不利な点が存在し、たとえば、溶解されていない粒子がポリマー層の表面でブルーミングしたり、表面に移行したりすることが多く、それによって抵抗率特性が不均一となって、そのために帯電防止性の低下および機械的強度の低下が起きる場合がある。さらに、たとえばベルトの形態の部材の表面上に存在しているイオン系添加剤が、トナーの剥離を妨害する可能性や、導電性ポリマー層の中に気泡（それらのいくつかは、顕微鏡の助けを借りて漸く見ることができる程度の大きさであり、他のものは十分に大きくて裸眼で観察可能である）が現れる可能性もあり、その結果、電気的性質が劣ったり不均一となったりし、また機械的性質が劣ることもあり得る。

米国特許第６，３９７，０３４号明細書 米国特許第６，６０２，１５６号明細書 米国特許第７，０３１，６４７号明細書 米国特許第７，１３０，５６９号明細書 米国特許第７，１３９，５１９号明細書 米国特許第７，２８０，７９１号明細書

したがって、本明細書に記載されているような数々の利点を有する中間転写部材と、優れた転写性能を有する融着可能な中間転写ベルトが提供されることが望まれている。さらに、融着可能な中間転写ベルトを提供して、パズルカット（puzzle cut）継ぎ目を有していなくてもよいが、代わりに融着可能な継ぎ目を有していて、それにより、大きな労働力を必要とする工程、たとえば人間が指を使ってパズルカット継ぎ目をつなぎ合わせるような工程を用いず、また長時間の高温高湿なコンディショニング工程を用いず製造することが可能なベルトが提供されることも望まれている。固体インキプリンタも含めて、カラー電子写真（xerographic）装置のための受容可能な周長の融着可能なベルトが得られればさらに望ましい。

本発明の開示の範囲に含まれているのは、コアシェル構成物、より詳しくは、ポリアニリンコアとポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン（ＰＯＳＳ、ＲＳｉＯ_１．５）シェルとを含む基材を有する中間転写ベルト、およびベルト以外の中間部材である。ここでＲは、たとえば約１〜約１８個の炭素原子もしくは約４〜約８個の炭素原子のアルキル；たとえば約６〜約３２個の炭素原子、約６〜約２４個の炭素原子、６〜１８個の炭素原子、もしくは６〜１２個の炭素原子のアリールである。コアシェル構成物は、実施態様においては、ポリアニリンと、官能性ＰＯＳＳ、たとえばＰＯＳＳシラノールとを溶媒中で混合することにより形成されるが、その溶媒中では、酸塩基中和反応が起きている。

コアのために選択されるポリアニリンの例としては、本明細書に記載されているような多くのポリアニリン、たとえばパニポール（PANIPOL（登録商標））Ｆ（フィンランド国、パニポール・オイ（Panipol Oy）から市販）が挙げられるが、ここで特定のポリアニリンは、たとえば、比較的小さな粒子直径サイズ、たとえば、約０．５〜約５μｍ、約１．１〜約２．３μｍ、約１．２〜約２μｍ、約１．５〜約１．９μｍ、または約１．７μｍを有している。

ＰＯＳＳシラノールの典型的な例は次式で表すことができる。

［式中、それぞれのＲは、アルキル、アリール、またはそれらの混合物であり、より詳しくはＲがイソオクチル、イソブチル、またはフェニルである。］

実施態様においては、ポリアニリンと反応させるＰＯＳＳシラノールの例としては、以下のものが挙げられる：イソブチル−ＰＯＳＳシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール、すなわちイソブチル−ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルフェニルジシラノール（Ｃ_４３Ｈ_７６Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_４６Ｈ_８８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_３９Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_３２Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_４０Ｈ_７４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_３２Ｈ_７４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳエポキシシクロヘキシルジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_８４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（３）ジシラノール（Ｃ_４０Ｈ_７５Ｆ_３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ_４５Ｈ_７５Ｆ_１３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_７５Ｆ_１３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_５１Ｈ_９６Ｏ_１４Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_４４Ｈ_８２Ｏ_１４Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_３７Ｈ_８２Ｏ_１４Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ_４２Ｈ_７８Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳモノシラノール（シュワビノール（Schwabinol）、Ｃ_３５Ｈ_６４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ_２８Ｈ_６４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_５３Ｈ_９８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_４６Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_３９Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳＴＭＳジシラノール（Ｃ_４５Ｈ_８８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳＴＭＳジシラノール（Ｃ_３１Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_４２Ｈ_８０Ｏ_１２Ｓｉ_７）、シクロペンチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_３５Ｈ_６６Ｏ_１２Ｓｉ_７）、イソブチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_２８Ｈ_６６Ｏ_１２Ｓｉ_７）、イソオクチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_５６Ｈ_１２２Ｏ_１２Ｓｉ_７）、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_４２Ｈ_３８Ｏ_１２Ｓｉ_７）など（上記のものは全て、カリフォルニア州ファウンテン・バレーのハイブリッド・プラスチックス（Hybrid Plastics）から市販されているものと考えられる）。

開示されているのは、中間転写部材、より詳しくは、静電写真、たとえば電子写真、たとえばデジタル、イメージ・オン・イメージなどのプリンタ、機械または装置における、現像された画像を転写するのに有用な中間転写部材である。実施態様においては、ポリアニリンのコアとＰＯＳＳシラノールのコアとを含むコアシェル構成物からなる中間転写部材が選択される。ここでＰＯＳＳは、ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサン、たとえばＰＯＳＳ、ＲＳｉＯ_１．５であり、Ｒは、たとえば約１〜約１８個の炭素原子、または約４〜約８個の炭素原子のアルキル；たとえば約６〜約３２個の炭素原子、または約６〜約２４個の炭素原子のアリールであり、そしてそれらの部材は、安定した抵抗率、疎水特性、優れた寸法安定性、優れた画像転写性、ならびに受容可能な機械的性質たとえば耐引っ掻き性など、多くの利点を有している。

その実施態様において開示されているのは、コアシェル構成物から構成されるベルトのような、中間転写部材であって、ここでそのコアはポリアニリンで構成され、そのシェルはポリヘドラルシルセスキオキサンで構成されており、実施態様においては、そのコアシェル構成物は、たとえば約０．５〜約５μｍ、約１〜約３μｍ、または約１．５〜約２．５μｍの粒径を有している、中間転写部材；疎水性中間転写媒体であって、ポリアニリンのコアと、以下のものから生成されるシェルとから構成されている：イソブチル−ＰＯＳＳシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール、すなわちイソブチル−ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルフェニルジシラノール（Ｃ_４３Ｈ_７６Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_４６Ｈ_８８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_３９Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_３２Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_４０Ｈ_７４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_３２Ｈ_７４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳエポキシシクロヘキシルジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_８４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（３）ジシラノール（Ｃ_４０Ｈ_７５Ｆ_３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ_４５Ｈ_７５Ｆ_１３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_７５Ｆ_１３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_５１Ｈ_９６Ｏ_１４Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_４４Ｈ_８２Ｏ_１４Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_３７Ｈ_８２Ｏ_１４Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ_４２Ｈ_７８Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳモノシラノール（シュワビノール（Ｓｃｈｗａｂｉｎｏｌ）、Ｃ_３５Ｈ_６４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ_２８Ｈ_６４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_５３Ｈ_９８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_４６Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_３９Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳＴＭＳジシラノール（Ｃ_４５Ｈ_８８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳＴＭＳジシラノール（Ｃ_３１Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_４２Ｈ_８０Ｏ_１２Ｓｉ_７）、シクロペンチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_３５Ｈ_６６Ｏ_１２Ｓｉ_７）、イソブチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_２８Ｈ_６６Ｏ_１２Ｓｉ_７）、イソオクチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_５６Ｈ_１２２Ｏ_１２Ｓｉ_７）、もしくはフェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_４２Ｈ_３８Ｏ_１２Ｓｉ_７）、それらの混合物であって、ここで、ＰＯＳＳは、たとえば、ＰＯＳＳのＲＳｉＯ_１．５であらわされるポリヘドラルシルセスキオキサンであり、ここでＲは、約１〜約１８個の炭素原子を有するアルキル、および約６〜約３２個の炭素原子を有するアリールの少なくとも一つである、疎水性中間転写媒体；中間転写ベルトであって、支持基板と、ポリアニリンコアおよびその上のポリヘドラルシルセスキオキサンからなるコアシェル構成物とから構成されており、ここでそのコアは、約４５〜約９９重量パーセントの量で存在し、そのシェルは、約１重量パーセント〜約５５重量パーセントの量で存在する、中間転写ベルト；たとえばベルトのような中間転写部材であって、本明細書に記載されているような第一の支持基板層と第二のコアシェル層との間に位置する接着層をさらに含み、ここでその第一の層と第二の層の内の少なくとも１層には、公知の導電性成分たとえばカーボンブラック、ポリアニリン、金属酸化物などをさらに含む、中間転写部材；中間転写ベルトであって、ポリイミド基板層と、その上の本明細書に記載されているコアシェル構成物からなる層とを含む中間転写ベルト；ならびに記録媒体の上に画像を形成させるための、以下のものを含む装置、つまり、

その上に静電潜像を受け取るための電荷保持性表面と；
トナーをその電荷保持性表面に塗布して、静電潜像を現像させ、その電荷保持性表面の上に現像された画像を形成させるための現像要素と；
その現像された画像を電荷保持性表面から基材へと転写させるための中間転写ベルトであって、その中間転写ベルトには、本明細書に記載されているコアシェルが含まれる、装置。

そのコアシェル充填剤は、中間転写部材成分を基準にして、約３〜約６０重量パーセント、約１〜約５０重量パーセント、または約１０〜約３０重量パーセントの量で存在する。

実施態様においては、そのコアシェル構成物は、溶媒中でポリアニリンとＰＯＳＳシラノールとを混合することによって形成させることが可能であり、次いで固形分を集めて、たとえば、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミドイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエステルもしくはポリエステルコポリマー、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリエチレン−コ−ポリテトラフルオロエチレンなど、およびそれらの混合物からなる群より選択されるポリマーの中に分散させて、中間部材コーティング分散体を形成させる。

また別な実施態様においては、中間部材コーティング分散体を、ポリアニリン、ＰＯＳＳシラノール、ならびにポリマーたとえば、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリアミドイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエステルもしくはポリエステルコポリマー、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリエチレン−コ−ポリテトラフルオロエチレン、およびそれらの混合物を溶媒の中で混合またはミル加工することによって調製することが可能である。その分散体を形成させるために選択される溶媒の例としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、エタノール、アセトン、酢酸エチル、クロロホルム、ヘキサンなどが挙げられ、その溶媒は、反応混合物の量を基準にして、たとえば約５０〜約９５重量パーセント、および７０〜約９０重量パーセントの量で選択される。酸塩基中和反応が完了すると、ポリアニリンＰＯＳＳコアシェル構成物が生成し、たとえば濾過のような公知の方法によって、溶媒を除去する。したがって、本発明の開示の実施態様においては、ＰＯＳＳシラノールとポリアニリンとの反応で、化学結合、より詳しくは、ポリアニリンと、たとえばアルコール、シラノール、エポキシなどの官能基を含まないＰＯＳＳ残基との間のイオン結合が形成される。

さらにまた別な実施態様においては、本発明の開示のコアシェル反応生成物は、分散体の形態とすることができ、それを用いて、穏やかな機械的撹拌をすれば、均一な分散体が得られ、次いでそれを、公知のドローバーコーティング法を使用して、基材たとえばポリイミド基材の上にコーティングすることができる。そうして得られたフィルムを、たとえば約１００℃〜約４００℃の温度で、約２０〜約６００分間加熱すれば、ポリイミド基材を残しながら乾燥させることができる。乾燥し、室温にまで冷却した後に、基材の上に形成された厚み約１〜約１５０ミクロンのフィルムを、機能的中間転写部材とすることができる。

コアシェル構成物は、溶媒中でＰＯＳＳシラノールをポリアニリン（ＰＡＮＩ）と混合させることにより、容易に合成することができる。酸性のＰＯＳＳシラノールが、塩基性のＰＡＮＩに対して酸／塩基相互作用により付着するか、またはＰＯＳＳシラノール、ＰＡＮＩ、ポリマー、および溶媒を混合／ミル加工することによって、分散と同時にコアシェル構成物を形成させることもできる。より詳しくは、約１部のポリアニリンを、１０．８部のポリカーボネート／コポリエステル樹脂ブレンド物、０．２部のＰＯＳＳシラノール、および１５０部の塩化メチレンと混合した。この混合物を２ミリメートルのステンレス鋼ショットと共に、約２０℃〜約４０℃の温度で一夜または２３時間ボールミル加工することによって、均質な分散体が得られ、次の図のように、ポリアニリンＰＯＳＳコアシェル構成物がインサイチューで形成され、

［上記式中、ポリアニリンのところのｎは、繰り返しセグメントの数、たとえば１〜約２００、約１０〜約１００などを表し、Ｒは本明細書に記載されているようなものである］；そしてここで、前記コアシェル構成物が、全固形分の重量を基準にして、約１〜約７０重量パーセントの量で存在するか、または前記コアシェル構成物が、全固形分の重量を基準にして、約５〜約２０重量パーセントの量で存在する。

そのＰＯＳＳシェルは、コアシェル構成物の約１〜約４０重量パーセント、または約５〜約２０重量パーセントの量で存在する。そのポリアニリンコアは、コアシェル構成物の、たとえば約６０〜約９９重量パーセント、または約８０〜約９５重量パーセントの量で存在する。実施態様においては、そのコアシェルの中には、たとえば本明細書に記載されているようなポリマーもさらなる成分として含まれる。

より詳しくは、中間転写部材の中に存在するさらなる成分の例は、各種の公知のポリマーおよび導電性成分である。

実施態様において、中間転写部材、より詳しくはコアシェルの中に含まれていてもよいポリマーバインダの例としては以下のものが挙げられる：ポリイミド（熱硬化性もしくは熱可塑性）、ポリカーボネート、ポリエステルたとえばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ（エチレンナフタレート）（ＰＥＮ）およびポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリエチレン−コ−ポリテトラフルオロエチレン、ポリアミドイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエステルコポリマー、急速硬化ポリイミドポリマーたとえば、ブイテック（ＶＴＥＣ）（商標）ＰＩ１３８８、０８０−０５１、８５１、３０２、２０３、２０１、およびＰＥＴＩ−５（これらはすべて、ペンシルバニア州レディング（Ｒｅａｄｉｎｇ，ＰＡ）の、リチャード・ブレイン・インターナショナル・インコーポレーテッド（Ｒｉｃｈａｒｄ Ｂｌａｉｎｅ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ）から入手可能である）。適切な温度、より詳しくは約１８０℃〜約２６０℃で、たとえば、約１０〜約１２０分、および約２０〜約６０分の時間をかけて硬化させることが可能な熱硬化性ポリイミドは、たとえば、約５，０００〜約５００，０００、または約１０，０００〜約１００，０００の数平均分子量、および約５０，０００〜約５，０００，０００、または約１００，０００〜約１，０００，０００の重量平均分子量を有し；ブイテック（ＶＴＥＣ）（商標）ＰＩポリイミド前駆体よりも高い温度（３００℃超）で硬化され、その前駆体が、たとえば、パイア−Ｍ．Ｌ（PYRE-M.L（登録商標））ＲＣ−５０１９、ＲＣ−５０５７、ＲＣ−５０６９、ＲＣ−５０９７、ＲＣ−５０５３、およびＲＫ−６９２（すべて、ニュージャージー州パーリンのインダストリアル・サミット・テクノロジー・コーポレーション（Industial Summit Technology Corporation）から市販されている）、ＲＰ−４６およびＲＰ−５０（両方とも、バージニア州ハンプトンのユニテック・ＬＬＣ（Unitech LLC）から市販されている）、デュリミド（DURIMIDE（登録商標））１００（ロードアイランド州ノース・キングズタウンのフジフィルム・エレクトロニック・マテリアルズ・Ｕ．Ｓ．Ａ．から市販されている）、ならびにカプトン（KAPTON（登録商標））ＨＮ、ＶＮおよびＦＮ（デラウェア州ウィルミントンのＥ．Ｉ．デュポン（E.I.DuPont）から市販されている）を含む熱硬化性ポリイミド前駆体は、中間転写部材のたとえば、約７０〜約９７、または約８０〜約９５重量パーセントの量で存在している。

中間転写部材、特にコアシェルの中に含まれる、具体的に選択された熱可塑性ポリイミドの例は、次式で表される、デラウェア州ウィルミントンのＥ．Ｉ．デュポンから市販されているカプトン（KAPTON（登録商標））ＫＪ、

［式中、ｘは２に等しく；ｙは２に等しく；ｍおよびｎは約１０〜約３００である］；および次式で表される、ウェスト・レイク・プラツチック・カンパニー（West Lake Plastic Company）から市販されているイミデックス（IMIDEX（登録商標））である。

［式中、ｚは１に等しく、ｑは約１０〜約３００である。］

選択されるポリカーボネートバインダの例としては、ポリ（４，４’−イソプロピリデン−ジフェニレン）カーボネート（これは、ビスフェノールＡ−ポリカーボネートとも呼ばれる）、ポリ（４，４’−シクロヘキシリジンジフェニレン）カーボネート（ビスフェノール−Ｚ−ポリカーボネートとも呼ばれる）、ポリ（４，４’−イソプロピリデン−３，３’−ジメチル−ジフェニル）カーボネート（これは、ビスフェノール−Ｃ−ポリカーボネートとも呼ばれる）などが挙げられる。実施態様においては、中間転写部材のバインダが、マクロロン（MAKROLON（登録商標））として市販されている、約５０，０００〜約５００，０００の重量平均分子量を有するビスフェノール−Ａ−ポリカーボネート樹脂からなる。

支持基板として選択することができ、その上に本明細書に記載されているコアシェルをコーティングまたは析出させるポリイミドは、プレポリマー溶液、たとえばポリアミド酸もしくはポリアミド酸のエステルからか、または二無水物とジアミンとの反応によって合成してもよい。好適な二無水物としては、たとえば以下のような芳香族二無水物および芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる：９，９−ビス（トリフルオロメチル）キサンテン−２，３，６，７−テトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシ−２，５，６−トリフルオロフェノキシ）オクタフルオロビフェニル二無水物、３，３’，４，４’−テトラカルボキシビフェニル二無水物、３，３’，４，４’−テトラカルボキシベンゾフェノン二無水物、ジ−（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル）エーテル二無水物、ジ−（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル）スルフィド二無水物、ジ−（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ジ−（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、１，２，４，５−テトラカルボキシベンゼン二無水物、１，２，４−トリカルボキシベンゼン二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、１，２，３，４−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、１，２，７，８−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４−４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）スルホン２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサクロロプロパン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、４，４’−（ｐ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物、４，４’−（ｍ−フェニレンジオキシ）ジフタル酸二無水物、４，４’−ジフェニルスルフィドジオキシビス（４−フタル酸）二無水物、４，４’−ジフェニルスルホンジオキシビス（４−フタル酸）二無水物、メチレンビス（４−フェニレンオキシ−４−フタル酸）二無水物、エチリデンビス（４−フェニレンオキシ−４−フタル酸）二無水物、イソプロピリデンビス（４−フェニレンオキシ−４−フタル酸）二無水物、ヘキサフルオロイソプロピリデンビス（４−フェニレンオキシ−４−フタル酸）二無水物など。ポリイミドを調製する際に使用するのに好適なジアミンの例としては、以下のものが挙げられる：芳香族ジアミン、たとえば、４，４’−ビス−（ｍ−アミノフェノキシ）−ビフェニル、４，４’−ビス−（ｍ−アミノフェノキシ）−ジフェニルスルフィド、４，４’−ビス−（ｍ−アミノフェノキシ）−ジフェニルスルホン、４，４’−ビス−（ｐ−アミノフェノキシ）−ベンゾフェノン、４，４’−ビス−（ｐ−アミノフェノキシ）−ジフェニルスルフィド、４，４’−ビス−（ｐ−アミノフェノキシ）−ジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノ−アゾベンゼン、４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノ−ｐ−テルフェニル、１，３，−ビス−（ガンマ−アミノプロピル）−テトラメチル−ジシロキサン、１，６−ジアミノヘキサン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、１，３，−ジアミノベンゼン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，４−ジアミノベンゼン、４，４’−ジアミノ−２，２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロジフェニルエーテル、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）−フェニル］スルフィド、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］ケトン、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，１−ジ（ｐ−アミノフェニル）エタン、２，２−ジ（ｐ−アミノフェニル）プロパン、および２，２−ジ（ｐ−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン。

二無水物およびジアミンは、たとえば、二無水物対ジアミンの重量比が、約（２０：８０）から約（８０：２０）まで、より好ましくは、約（５０：５０）の重量比となるように選択する。上述の芳香族二無水物たとえば芳香族テトラカルボン酸二無水物と、ジアミンたとえば芳香族ジアミンとは、それぞれ単独でも、あるいは混合物としてでも使用される。ポリイミドは、公知の方法により、二無水物とジアミンとから調製することができる。たとえば、二無水物とジアミンとを、有機溶媒中に、混合物としてかまたは個別に、懸濁させるかまたは溶解させ、反応させてポリアミド酸を形成させることができるが、それを熱的または化学的に脱水させ、それに続けて反応生成物の分離および精製を行う。次いで、そのポリイミドを、公知の押出機を用いて加熱溶融させ、スリットノズルを有するダイからフィルムの形態に押し出し；そのフィルムに静電荷を印加し、ポリマーのガラス転移温度（Ｔ_ｇ）の範囲［−５０℃から−１５℃まで］の表面温度を有する冷却ローラを用いてそのフィルムを冷却、固化させ；そのフィルムをローラと接触させないように張力下に移動させながら、さらに冷却して室温とし、巻き上げるか、または次の工程に移行させる。

中間転写部材の中に存在させるさらなる成分の例としては、それぞれ約１〜約６０重量パーセント、１０〜約５０重量パーセント、５〜約４５重量パーセントの量で存在させた、金属酸化物、ポリアニリン、およびカーボンブラックのような多数の公知の導電性成分が挙げられる。

選択される金属酸化物の例としては、以下のものが挙げられる：酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミニウムドープした酸化亜鉛、アンチモンドープした二酸化チタン、アンチモンドープした酸化スズ、酸化インジウム、インジウムスズ酸化物、類似のドープした酸化物、およびそれらの混合物。

選択されるカーボンブラック添加剤としては、酸またはオゾンを用いた酸化により形成され、たとえばカルボキシレート、フェノールなどからの吸収または化学吸着された酸素基が存在している表面基を有するものが挙げられる。その炭素表面は、主として酸化過程およびフリーラジカル反応は除けば、ほとんどの有機反応化学物質に対しては実質的に不活性である。

導電性成分として選択されるカーボンブラックの例としては以下のものが挙げられる：バルカン（VULCAN（登録商標））カーボンブラック、リーガル（REGAL（登録商標））カーボンブラック、モナーク（MONARCH（登録商標））カーボンブラック、およびブラック・パールス（BLACK PEARLS（登録商標））カーボンブラック（キャボット・コーポレーション（Cabot Corporation）から入手可能）。導電性カーボンブラックの具体例としては以下のものが挙げられる：ブラック・パールス１０００（ＢＥＴ表面積＝３４３ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝１．０５ｍＬ／ｇ）、ブラック・パールス８８０（ＢＥＴ表面積＝２４０ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝１．０６ｍＬ／ｇ）、ブラック・パールス８００（ＢＥＴ表面積＝２３０ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝０．６８ｍＬ／ｇ）、ブラック・パールスＬ（ＢＥＴ表面積＝１３８ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝０．６１ｍＬ／ｇ）、ブラック・パールス５７０（ＢＥＴ表面積＝１１０ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝１．１４ｍＬ／ｇ）、ブラック・パールス１７０（ＢＥＴ表面積＝３５ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝１．２２ｍＬ／ｇ）、バルカンＸＣ７２（ＢＥＴ表面積＝２５４ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝１．７６ｍＬ／ｇ）、バルカンＸＣ７２Ｒ（毛羽立ち形状のバルカンＸＣ７２）、バルカンＸＣ６０５、バルカンＸＣ３０５、リーガル６６０（ＢＥＴ表面積＝１１２ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝０．５９ｍＬ／ｇ）、リーガル４００（ＢＥＴ表面積＝９６ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝０．６９ｍＬ／ｇ）、リーガル３３０（ＢＥＴ表面積＝９４ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝０．７１ｍＬ／ｇ）、モナーク８８０（ＢＥＴ表面積＝２２０ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝１．０５ｍＬ／ｇ、一次粒子直径＝１６ナノメートル）、およびモナーク１０００（ＢＥＴ表面積＝３４３ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝１．０５ｍＬ／ｇ、一次粒子直径＝１６ナノメートル）；エボニック−デグッサ（Evonik-Degussa）から入手可能なチャネルカーボンブラック；スペシャル・ブラック（Special Black）４（ＢＥＴ表面積＝１８０ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝１．８ｍＬ／ｇ、一次粒子直径＝２５ナノメートル）、スペシャル・ブラック５（ＢＥＴ表面積＝２４０ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝１．４１ｍＬ／ｇ、一次粒子直径＝２０ナノメートル）、カラー・ブラックＦＷ１（ＢＥＴ表面積＝３２０ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝２．８９ｍＬ／ｇ、一次粒子直径＝１３ナノメートル）、カラー・ブラックＦＷ２（ＢＥＴ表面積＝４６０ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝４．８２ｍＬ／ｇ、一次粒子直径＝１３ナノメートル）、およびカラー・ブラックＦＷ２００（ＢＥＴ表面積＝４６０ｍ^２／ｇ、ＤＢＰ吸収量＝４．６ｍＬ／ｇ、一次粒子直径＝１３ナノメートル）、それらの混合物など。

多層部材のために選択される接着層であって、通常、支持基板と上側の本明細書に記載されているコアシェル層との間に位置している接着層には、たとえばエポキシ、ウレタン、シリコーン、ポリエステルなど、各種の樹脂またはポリマーが含まれる。一般的には、その接着層が無溶媒層であって、それは室温（約２５℃）では液状であり、架橋させると弾性または硬質の膜となって、少なくとも二つの材料を相互に接着させることができる。接着剤の具体例としては、以下のものが挙げられる：固形分１００パーセントの接着剤、たとえばペンシルバニア州エリーのロード・コーポレーション（Lord Corporation）製のポリウレタン接着剤、たとえばタイセル（TYCEL（登録商標））７９２４（粘度＝約１，４００〜約２，０００ｃｐｓ（約１，４００〜約２，０００ｍＰａ・ｓ））、タイセル７９７５（粘度＝約１，２００〜約１，６００ｃｐｓ）、およびタイセル７２７６。接着剤の粘度範囲は、たとえば約１，２００〜約２，０００ｃｐｓである。それらの無溶媒接着剤は、加熱硬化、室温硬化、湿気硬化、紫外線照射、赤外線照射、電子ビーム硬化、その他各種の公知の方法を用いて活性化させることができる。接着層の厚みは通常約１００ナノメートル未満であるが、さらに詳しいことは、後に記載する。

中間転写部材のそれぞれの層の厚みは、変化させることが可能であって、任意の特定の値に限定されることはない。具体的な実施態様においては、支持基板層の厚みは、たとえば、約２０〜約３００μｍ、約３０〜約２００μｍ、約７５〜約１５０μｍ、または約５０〜約１００μｍであり、それに対して上側のコアシェル構成物層の厚みは、たとえば、約１〜約１５０μｍ、約１０〜約１００μｍ、約２０〜約７０μｍ、および約３０〜約５０μｍである。接着層の厚みは、たとえば、約１〜約１００ナノメートル、約５〜約７５ナノメートル、または約５０〜約１００ナノメートルである。

本明細書に開示された中間転写部材の表面抵抗率は、たとえば、約１０^８〜約１０^１３ｏｈｍ／ｓｑ、または約１０^１０〜約１０^１２ｏｈｍ／ｓｑである。中間転写部材のシート抵抗率は、たとえば、約１０^８〜約１０^１３ｏｈｍ／ｓｑ、または約１０^１０〜約１０^１２ｏｈｍ／ｓｑである。

本明細書で説明している中間転写部材、たとえば中間転写ベルトは、電子写真印刷を含めて、各種の印刷および複写システムのために選択することができる。たとえば、開示された中間転写部材は、多重画像形成システムの中に組み込むことが可能であって、そこでは、転写されたそれぞれの画像が、画像形成ステーションの画像形成ドラムまたは光導電性ドラムの上に形成され、次いでこれらの画像のそれぞれが、現像ステーションで現像され、中間転写部材に転写される。複数の画像が光導電体の上に形成され、次いで現像され、そして次いで中間転写部材に転写されてもよい。また別な方法においては、それぞれの画像が、光導電体ドラムまたは感光体ドラムの上に形成され、現像され、そして位置合わせしながら中間転写部材に転写されてもよい。一つの実施態様においては、その多重画像装置がカラー電子写真複写システムであって、そこで、複写するべき画像のそれぞれの色を感光体ドラムの上に形成させ、現像し、中間転写部材に転写する。

トナー潜像が感光体ドラムから中間転写部材へ転写された後に、その中間転写部材を加熱加圧下に受像基材たとえば紙に接触させてもよい。次いで、その中間転写部材の上のトナー画像が、基材たとえば紙に画像の形態で転写、定着される。

本明細書に説明された画像形成システム、およびその他公知の画像形成システムおよび印刷システム中に存在する中間転写部材は、シート、ウェブ、ベルト（エンドレスベルトを含む）、およびエンドレス継ぎ目ありフレキシブルベルト、ローラ、フィルム、フォイル、ストリップ、コイル、シリンダ、ドラム、エンドレスストリップ、および円板の形状であってよい。

周知のコーティング方法を用いて、基材の上に単一または複数の層を析出させることができる。基材フィルムの上にコアシェル層を形成させるための公知の方法としては、浸漬法、スプレー法たとえば極めて薄い膜の多重スプレー塗布、キャスティング法、フローコーティング法、ウェブコーティング法、ロールコーティング法、押出し法、モールディング法などを使用することができる。

本明細書に開示されている中間転写部材は、各種適切な形状をとることができる。適切な形状の例としては、次のような形状が挙げられる：シート、フィルム、ウェブ、フォイル、ストリップ、コイル、シリンダ、ドラム、エンドレスストリップ、円板、ベルト（エンドレスベルトを含む）、およびエンドレスシームフレキシブルベルト。１〜２層またはそれ以上の層のためのベルト形状物の周囲の長さは、たとえば、約２５０〜約２，５００ミリメートル、約１，５００〜約２，５００ミリメートル、または約２，０００〜約２，２００ミリメートルである。フィルムまたはベルトの幅は、たとえば、約１００〜約１，０００ミリメートル、約２００〜約５００ミリメートル、または約３００〜約４００ミリメートルである。中間転写部材は、単一層からなっていても、あるいは複数の層たとえば約２〜約５層でなっていてもよい。実施態様においては、その中間転写部材に外側剥離層がさらに含まれる。

剥離層の例としては、以下のものが挙げられる：テフロン（登録商標）様物質たとえば、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフルオロアルコキシポリテトラフルオロエチレン（ＰＦＡテフロン（登録商標）、およびその他のテフロン（登録商標）様物質；シリコーン物質たとえば、フルオロシリコーン、およびシリコーンゴムたとえばシリコーンラバー（Silicone Rubber）５５２（バージニア州リッチモンドのサンプソン・コーティングズ（Sampson Coatings）から入手可能）、（ポリジメチルシロキサン／ジブチルスズジアセテート、約３，５００の分子量を有するポリジメチルシロキサンゴム混合物１００グラムあたり、０．４５グラムＤＢＴＤＡ）；ならびにフルオロエラストマーたとえば、バイトン（VITON（登録商標））の商品名で販売されているもの、たとえばフッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、およびテトラフルオロエチレンのコポリマーおよびターポリマー、これらは次のような各種の商品名で通用している；バイトンＡ、バイトンＥ、バイトンＥ６０Ｃ、バイトンＥ４５、バイトンＥ４３０、バイトンＢ９１０、バイトンＧＨ、バイトンＢ５０、バイトンＥ４５、およびバイトンＧＦ。バイトンの名称は、イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・インコーポレーテッド（E.I.DuPont de Nemours,Inc.）の商標である。２種の公知のフルオロエラストマーが含まれるが、それらは次のものである：（１）フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、およびテトラフルオロエチレンのコポリマーのタイプ、バイトンＡとして市販されているもの；（２）フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、およびテトラフルオロエチレンのターポリマーのタイプ、バイトンＢとして市販されているもの；ならびに（３）フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、および硬化部位モノマーのテトラポリマーのタイプ、たとえば、３５モルパーセントのフッ化ビニリデン、３４モルパーセントのヘキサフルオロプロピレン、および２９モルパーセントのテトラフルオロエチレンならびに２パーセントの硬化部位モノマーからなるバイトンＧＦ。その硬化部位モノマーは、Ｅ．Ｉ．デュポンから入手可能な、たとえば４−ブロモペルフルオロブテン−１、１，１−ジヒドロ−４−ブロモペルフルオロブテン−１、３−ブロモペルフルオロプロペン−１、１，１−ジヒドロ−３−ブロモペルフルオロプロペン−１、またはその他適切な公知の市販されている硬化部位モノマーとすることができる。

［比較例１］
ポリアニリン（ＰＡＮＩ）を含む中間転写ベルト（ＩＴＢ）部材を以下のようにして調製した。１グラムのパニポール（PANIPOL（登録商標））Ｆ（パニポール・オイ（Panipol Oy）（フィンランド国ポルボー）製の塩酸ドープエメラルジン塩）を、９グラムのマクロロン（MAKROLON（登録商標））５７０５（公知のポリカーボネート樹脂、Ｍ_ｗ平均分子量約５０，０００〜約１００，０００、ファルベンファブリケン・バイエル・アー・ゲー（Farbenfabriken Bayer A.G.）から市販）、ならびに１００グラムの塩化メチレンと混合した。この混合物を、２ミリメートルのステンレス鋼ショットを用いたボールミルで一夜または２３時間処理すると、均質な分散体が得られた。

次いで、上で形成された分散体を、公知のドローバーコーティング法を使用して、厚み３．５ミル（約８８．９μｍ）の二軸配向させたポリ（エチレンナフタレート）（ＰＥＮ）基材（カレデックス（KALEDEX（商標））２０００）の上にコーティングした。得られたフィルムを、ＰＥＮ基材の上に残したままで、約１２０℃で１分かけて乾燥させた。乾燥させ、室温にまで冷却すると、ＰＥＮ基材の上のフィルムは、基材から自動的に剥離され、ポリアニリン／ポリカーボネートシェル（重量比１０／９０）の、厚みが７５μｍの中間転写部材が得られたが、そのポリアニリンはポリカーボネートの中に分散されている。

［実施例Ｉ］
ポリアニリンとトリシラノールフェニルＰＯＳＳとを反応させることにより得られた、本発明に開示のポリアニリンＰＯＳＳコアシェル構成物からなる中間転写ベルト（ＩＴＢ）部材を、以下のようにして調製した。０．９５グラムのパニポールＦを、０．０５グラムのトリシラノールフェニル−ＰＯＳＳ（ＳＯ１４５８、ハイブリッド・プラスチックス製）、９グラムのマクロロン５７０５、および１００グラムの塩化メチレンと混合した。この混合物を、２ミリメートルのステンレス鋼ショットを用いたボールミルで一夜または２３時間処理すると、均質な分散体が得られたが、ここで、そのポリアニリンＰＯＳＳコアシェルは、強力な酸塩基相互作用によりインサイチューで形成された。

次いで、その分散体を、公知のドローバーコーティング法を使用して、厚み３．５ミルの二軸配向させたポリ（エチレンナフタレート）（ＰＥＮ）基材（カレデックス２０００）の上にコーティングした。得られたフィルムを、ＰＥＮ基材の上に残したままで、約１２０℃で１分かけて乾燥させた。乾燥させ、室温の約２３℃〜約２５℃にまで冷却すると、ＰＥＮ基材の上のフィルムは、基材から自動的に剥離され、ポリアニリンＰＯＳＳコアシェル構成物／ポリカーボネートシェル（重量比１０／９０）の、厚みが７５μｍの中間転写部材が得られたが、そのコアシェル構成物は、５重量パーセントのＰＯＳＳシェルと９５重量パーセントのポリアニリンコアとからなっていた。

［実施例ＩＩ］
本発明に開示のポリアニリンＰＯＳＳコアシェル構成物からなる中間転写ベルト（ＩＴＢ）部材を、以下のようにして調製した。０．９０グラムのパニポールＦを、０．１０グラムのトリシラノールフェニル−ＰＯＳＳ（ＳＯ１４５８）、９グラムのマクロロン５７０５、および１００グラムの塩化メチレンと混合した。この混合物を、２ミリメートルのステンレス鋼ショットを用いたボールミルで一夜または２３時間処理すると、均質な分散体が得られたが、ここで、そのポリアニリンＰＯＳＳコアシェルは、強力な酸塩基相互作用によりインサイチューで形成された。

次いで、上で形成された分散体を、公知のドローバーコーティング法を使用して、厚み３．５ミルの二軸配向させたポリ（エチレンナフタレート）（ＰＥＮ）基材（カレデックス２０００）の上にコーティングした。得られたフィルムを、ＰＥＮ基材の上に残したままで、約１２０℃で１分かけて乾燥させた。乾燥させ、室温の約２３℃〜約２５℃にまで冷却すると、ＰＥＮ基材の上のフィルムは、基材から自動的に剥離され、ポリアニリンＰＯＳＳコアシェル構成物／ポリカーボネートシェル（重量比１０／９０（コアシェルが１０／ポリカーボネートが９０））の、厚みが７５μｍの中間転写部材が得られたが、そのコアシェル構成物は、１０重量パーセントのＰＯＳＳシェルと９０重量パーセントのポリアニリンコアとからなっていた。

＜表面抵抗率測定＞
１日後に、上述の比較例１、ならびに実施例ＩおよびＩＩのＩＴＢ部材またはデバイスについて、表面抵抗率を測定（位置を変えての４〜６個の測定値を平均したもの、７２゜Ｆ（約２２．２℃）／室内湿度６５パーセント）したが、測定には、高抵抗率メーター（ミツビシ・ケミカル社（Mitsubishi Chemical CORP.）製のハイレスタ−アップ（Hiresta-Up）ＨＣＰ−ＨＴ４５０）を使用した。次いで、エージングの検討のために、比較例１、および実施例ＩＩのＩＴＢデバイスを、８０゜Ｆ（約２６．７℃）／湿度８０パーセントの環境（Ａゾーン）中で順化させ、１２週間後に表面抵抗率の再測定を行った。結果を表１に示す。

１日後では、ポリアニリンＰＯＳＳコアシェル構成物のＩＴＢデバイス（実施例ＩおよびＩＩ）は、比較例１のポリアニリンＩＴＢデバイスと同程度の表面抵抗率を有していた。７２゜Ｆ／室内湿度６５パーセントで１２週間エージングした後では、比較のＩＴＢデバイス（比較例１）は、約１．０２乗低下した抵抗率であったのに対して、本明細書に開示のＩＴＢデバイス（実施例ＩＩ）は、約０．５３乗低下した抵抗率であった。したがって、本明細書に開示の実施例ＩＩのＩＴＢデバイスは、７２゜Ｆ／室内湿度６５パーセントの加速エージング試験では、抵抗率の変化が実質的に低かったが、その理由は主として、それが優れた撥水特性を有しているためである。

＜接触角測定＞
比較例１ならびに実施例ＩおよびＩＩのＩＴＢデバイスの水（脱イオン水中）の接触角を周囲温度（約２３℃）で測定したが、それには、コンタクト・アングル・システム・ＯＣＡ（Contact Angle System OCA）（データフィジックス・インストラメンツ・ゲーエムベーハー（Dataphysics Instruments GmbH）のモデルＯＣＡ１５）を使用した。少なくとも１０個の測定を実施し、その平均値を表２に示す。

本明細書に開示の実施例Ｉおよび実施例ＩＩのＩＴＢデバイスは、比較例１のＩＴＢデバイスよりも４１度〜４６度高い接触角を示したが、接触角が高い（表面エネルギーが低い）ことによって、トナー転写性およびクリーニング性が、実施例Ｉでは約４５パーセント、実施例ＩＩでは５０パーセント改良されることになるであろう。

Claims (4)

1. コアシェル構成物からなる中間転写部材であって、該コアがポリアニリンからなり、該シェルがポリヘドラルシルセスキオキサンからなる、中間転写部材。
2. ポリヘドラルシルセスキオキサンシラノールが、イソブチル−ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルフェニルジシラノール（Ｃ_４３Ｈ_７６Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_４６Ｈ_８８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_３９Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_３２Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_４０Ｈ_７４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_３２Ｈ_７４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳエポキシシクロヘキシルジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_８４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（３）ジシラノール（Ｃ_４０Ｈ_７５Ｆ_３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ_４５Ｈ_７５Ｆ_１３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_７５Ｆ_１３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_５１Ｈ_９６Ｏ_１４Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_４４Ｈ_８２Ｏ_１４Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_３７Ｈ_８２Ｏ_１４Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ_４２Ｈ_７８Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳモノシラノール（シュワビノール（Ｓｃｈｗａｂｉｎｏｌ）、Ｃ_３５Ｈ_６４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ_２８Ｈ_６４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_５３Ｈ_９８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_４６Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_３９Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_４５Ｈ_８８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_３１Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_４２Ｈ_８０Ｏ_１２Ｓｉ_７）、シクロペンチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_３５Ｈ_６６Ｏ_１２Ｓｉ_７）、イソブチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_２８Ｈ_６６Ｏ_１２Ｓｉ_７）、イソオクチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_５６Ｈ_１２２Ｏ_１２Ｓｉ_７）、フェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_４２Ｈ_３８Ｏ_１２Ｓｉ_７）、またはそれらの混合物であって、
   ＰＯＳＳがポリヘドラルシルセスキオキサンである、請求項１に記載の中間転写部材。
3. 前記ポリアニリンが、ポリ（ｐ−フェニレンイミンアミン）であり、カーボンブラック、金属酸化物、ポリアニリン、およびそれらの混合物の内の少なくとも一つの導電性成分をさらに含み、それらがそれぞれ、全固形分の重量を基準にして約１〜約６０重量パーセントの量で存在する、請求項１に記載の中間転写部材。
4. 前記シェルが、前記ポリアニリンと、
   イソブチル−ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンシクロヘキセニルジメチルシリルジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルフェニルジシラノール（Ｃ_４３Ｈ_７６Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_４６Ｈ_８８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_３９Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳジメチルビニルジシラノール（Ｃ_３２Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_４０Ｈ_７４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳジシラノール（Ｃ_３２Ｈ_７４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳエポキシシクロヘキシルジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_８４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（３）ジシラノール（Ｃ_４０Ｈ_７５Ｆ_３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ_４５Ｈ_７５Ｆ_１３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳフルオロ（１３）ジシラノール（Ｃ_３８Ｈ_７５Ｆ_１３Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_５１Ｈ_９６Ｏ_１４Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_４４Ｈ_８２Ｏ_１４Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳメタクリルジシラノール（Ｃ_３７Ｈ_８２Ｏ_１４Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ_４２Ｈ_７８Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳモノシラノール（シュワビノール（Ｓｃｈｗａｂｉｎｏｌ）、Ｃ_３５Ｈ_６４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳモノシラノール（Ｃ_２８Ｈ_６４Ｏ_１３Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_５３Ｈ_９８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロペンチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_４６Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳノルボルネニルエチルジシラノール（Ｃ_３９Ｈ_８４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳＴＭＳジシラノール（Ｃ_４５Ｈ_８８Ｏ_１２Ｓｉ_８）、イソブチル−ＰＯＳＳＴＭＳジシラノール（Ｃ_３１Ｈ_７４Ｏ_１２Ｓｉ_８）、シクロヘキシル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_４２Ｈ_８０Ｏ_１２Ｓｉ_７）、シクロペンチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_３５Ｈ_６６Ｏ_１２Ｓｉ_７）、イソブチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_２８Ｈ_６６Ｏ_１２Ｓｉ_７）、イソオクチル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_５６Ｈ_１２２Ｏ_１２Ｓｉ_７）、もしくはフェニル−ＰＯＳＳトリシラノール（Ｃ_４２Ｈ_３８Ｏ_１２Ｓｉ_７）、
   との反応によって形成され、
   ＰＯＳＳがポリヘドラルシルセスキオキサンであり、
   そして場合によっては、前記コアシェルが、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリフッ化ビニリデン、ポリスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエチレン−コ−ポリテトラフルオロエチレン、およびそれらの混合物からなる群より選択されるポリマーの中に分散され、さらに、前記コアシェルの上に位置する外側剥離層を含む、請求項１に記載の中間転写部材。