JP2011032486A - シート - Google Patents
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Abstract
【課題】高温での柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、かつ、使用後の廃棄が容易なシートを提供する。
【解決手段】柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、かつ、使用後の廃棄が容易な1層構造のシートであって、結晶成分としてブチレンテレフタレート成分を含む結晶性芳香族ポリエステルと、ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルとの混合樹脂からなり、結晶融解熱量が40J/g以上であり、ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルは、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体であるシート。
【選択図】なし
【解決手段】柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、かつ、使用後の廃棄が容易な1層構造のシートであって、結晶成分としてブチレンテレフタレート成分を含む結晶性芳香族ポリエステルと、ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルとの混合樹脂からなり、結晶融解熱量が40J/g以上であり、ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルは、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体であるシート。
【選択図】なし
Description
本発明は、高温での柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、かつ、使用後の廃棄が容易なシートに関する。
プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、多層プリント配線板等の製造工程において、プリプレグ又は耐熱フィルムを介して銅張積層板又は銅箔を熱プレスする際に離型フィルムが使用されている。また、フレキシブルプリント基板の製造工程において、電気回路を形成したフレキシブルプリント基板本体に、熱硬化型接着剤によってカバーレイフィルムを熱プレス接着する際に、カバーレイフィルムとプレス熱板とが接着するのを防止するために、離型フィルムを用いる方法が広く行われている。
これらの用途に用いられる離型フィルムとしては、特許文献1や特許文献2に開示されているような、フッ素系フィルム、シリコン塗布ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリプロピレンフィルム等が用いられてきた。
近年、環境問題や安全性に対する社会的要請の高まりから、これらの離型フィルムに対しては、熱プレス成形に耐える耐熱性、プリント配線基板や熱プレス板に対する離型性といった機能に加えて、廃棄処理の容易性が求められるようになってきた。更に、熱プレス成形時の製品歩留まり向上のため、銅回路に対する非汚染性も重要となってきている。
しかしながら、従来から離型フィルムとして用いられているフッ素系フィルムは、耐熱性、離型性、非汚染性には優れているが、高価である上、使用後の廃棄焼却処理において燃焼しにくく、かつ、有毒ガスを発生するという問題点があった。また、シリコン塗布ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルペンテンフィルムは、シリコンや構成成分に含まれる低分子量体の移行によってプリント配線基板、とりわけ銅回路の汚染を引き起こし、品質を損なうおそれがあった。また、ポリプロピレンフィルムは耐熱性に劣り離型性が不充分であった。
本発明は、上記現状に鑑み、高温での柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、かつ、使用後の廃棄が容易なシートを提供することを目的とするものである。
本発明は、柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、かつ、使用後の廃棄が容易な1層構造のシートであって、結晶成分としてブチレンテレフタレート成分を含む結晶性芳香族ポリエステルと、ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルとの混合樹脂からなり、結晶融解熱量が40J/g以上であり、ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルは、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体であるシートである。
なお、本発明においてシートとは、シートばかりではなく、フィルムをも意味する。
以下に本発明を詳述する。
なお、本発明においてシートとは、シートばかりではなく、フィルムをも意味する。
以下に本発明を詳述する。
本発明のシートは、極性基を有し、かつ、ハロゲンの含有率が5重量%以下である樹脂組成物からなる。
極性基を有する樹脂組成物から構成されることにより、本発明のシートの機械特性は優れたものとなる。また、樹脂組成物におけるハロゲンの含有率が5重量%以下であることにより、焼却してもハロゲンを含む有害な物質を生成することがない。好ましくは3重量%以下であり、より好ましくは1重量%以下である。1重量%未満であると、欧州での実質的なノンハロゲン物質認定が得られる。なお、本発明において、極性基を有するとは、エステル基、アミド基、イミド基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基等が樹脂組成物の一部を構成していることを意味する。また、ハロゲンの含有率は、通常のハロゲン分析計を用いることにより測定できる。
極性基を有する樹脂組成物から構成されることにより、本発明のシートの機械特性は優れたものとなる。また、樹脂組成物におけるハロゲンの含有率が5重量%以下であることにより、焼却してもハロゲンを含む有害な物質を生成することがない。好ましくは3重量%以下であり、より好ましくは1重量%以下である。1重量%未満であると、欧州での実質的なノンハロゲン物質認定が得られる。なお、本発明において、極性基を有するとは、エステル基、アミド基、イミド基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基等が樹脂組成物の一部を構成していることを意味する。また、ハロゲンの含有率は、通常のハロゲン分析計を用いることにより測定できる。
本発明のシートは、極性基を主鎖中に有し、かつ、ハロゲンの含有率が5重量%以下である樹脂組成物からなることが好ましい。極性基を主鎖中に有する樹脂組成物から構成されることにより、本発明のシートは、耐熱性及び機械特性が極めて優れたものとなる。
上記極性基を主鎖中に有し、かつ、ハロゲンの含有率が5重量%以下である樹脂組成物としては特に限定されず、例えば、ポリエステル化合物、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド化合物、ポリイミド化合物等が挙げられる。なかでも、ヘテロ原子を分子中に含まないため焼却処理時の環境負荷が軽減され、経済的にも有利であることから以下に述べる結晶性芳香族ポリエステルを必須成分とすることが好ましい。
上記結晶性芳香族ポリエステルは、芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体と、低分子量脂肪族ジオール又は高分子量ジオールとを反応させることにより得ることができる。
上記芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、ナフタリンジカルボン酸、パラフェニレンジカルボン酸、テレフタル酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、オルトフタル酸ジメチル、ナフタリンジカルボン酸ジメチル、パラフェニレンジカルボン酸ジメチル等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。
上記芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、ナフタリンジカルボン酸、パラフェニレンジカルボン酸、テレフタル酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、オルトフタル酸ジメチル、ナフタリンジカルボン酸ジメチル、パラフェニレンジカルボン酸ジメチル等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。
上記低分子量脂肪族ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。
上記高分子量ジオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。
上記構成成分からなる結晶性芳香族ポリエステルとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリヘキサメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。
また、上記結晶性芳香族ポリエステルとしては、結晶成分にブチレンテレフタレートを少なくとも含むことが好ましい。ブチレンテレフタレート成分が含まれることにより、得られるシート又はフィルムは、非汚染性及び結晶性に優れる。
上記結晶性芳香族ポリエステルがブチレンテレフタレート成分を結晶成分として含むものである場合には、本発明のシートは、結晶融解熱量が40J/g以上であることが好ましい。40J/g未満であると、熱プレス成形に耐え得る耐熱性を発現することができないことがあり、また、170℃における寸法変化率も大きくなり、熱プレス成形時に回路パターンを損なうおそれがある。より好ましくは50J/g以上である。結晶性を向上させ高い結晶融解熱量とするためには、結晶核剤等の結晶化を促進する添加剤を上記樹脂組成物に加えても良く、更にシートの溶融成形時の冷却温度を、上記芳香族ポリエステルのガラス転移温度以上に設定するのが好ましく、70〜150℃に設定するのがさらに好ましい。
なお、上記結晶融解熱量は、示差走査熱量測定により測定することができる。
なお、上記結晶融解熱量は、示差走査熱量測定により測定することができる。
上記極性基を主鎖中に有し、かつ、ハロゲンの含有率が5重量%以下である樹脂組成物は、芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体と低分子量脂肪族ジオールとを反応させて得られる結晶性芳香族ポリエステルに、芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体と低分子量脂肪族ジオール及び高分子量ジオールとを反応させて得られる結晶性芳香族ポリエステルを混合してなることが好ましい。かかる樹脂組成物は、高分子量ジオール成分を含有しない結晶性芳香族ポリエステルからなるマトリックス中に、高分子量ジオール成分を含有する結晶性芳香族ポリエステルが微小に分散することにより、耐熱性及び離型性を維持しながら、柔軟性を得ることができる。この樹脂組成物からなるシート又はフィルムは、耐熱性及び離型性と、回路パターンやスルーホール等の基板上の凹凸形状への追従性とのバランスが非常に優れる。
上記混合比としては、芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体と低分子量脂肪族ジオールとを反応させて得られる結晶性芳香族ポリエステルの含有量の好ましい下限が50重量%、上限が100重量%であり、芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体と低分子量脂肪族ジオール及び高分子量ジオールとを反応させて得られる結晶性芳香族ポリエステルの含有量の好ましい下限が0重量%、上限が50重量%である。
上記結晶性芳香族ポリエステルは、また、ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルを含有することが好ましい。これにより、本発明のシートは、高温における柔軟性が向上し、高強度と高温柔軟性とのバランスが向上する。
上記ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルは、融点が170℃以上であることが好ましい。170℃未満であると、得られたシートを離型フィルムとして用いた場合に剥離しにくくなることがある。
このようなポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルとしては特に限定されず、例えば、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体、テレフタル酸ブタンジオールポリプロピレングリコール共重合体等が挙げられる。
上記ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルは、融点が170℃以上であることが好ましい。170℃未満であると、得られたシートを離型フィルムとして用いた場合に剥離しにくくなることがある。
このようなポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルとしては特に限定されず、例えば、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体、テレフタル酸ブタンジオールポリプロピレングリコール共重合体等が挙げられる。
上記ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルの上記結晶性芳香族ポリエステル中における含有量は50重量%以下であることが好ましい。50重量%を超えると、得られたシートを離型フィルムとして用いた場合に剥離しにくくなることがある。
上記極性基を有し、かつ、ハロゲンの含有率が5重量%以下である樹脂組成物は、安定剤を含有してもよい。
上記安定剤としては、例えば、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロピオニロキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等のヒンダードフェノール系酸化防止剤;トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、2−t−ブチル−α−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−p−クメニルビス(p−ノニルフェニル)ホスファイト、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスチリルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ジトリデシル3,3’−チオジプロピオネート等の熱安定剤等が挙げられる。
上記安定剤としては、例えば、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロピオニロキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等のヒンダードフェノール系酸化防止剤;トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、2−t−ブチル−α−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−p−クメニルビス(p−ノニルフェニル)ホスファイト、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスチリルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ジトリデシル3,3’−チオジプロピオネート等の熱安定剤等が挙げられる。
上記極性基を有し、かつ、ハロゲン含有率が5重量%以下である樹脂組成物は、実用性を損なわない範囲で、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。
上記繊維としては、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、炭化珪素繊維、アルミナ繊維、アモルファス繊維、シリコン・チタン・炭素系繊維等の無機繊維;アラミド繊維等の有機繊維等が挙げられる。上記無機充填剤としては、例えば、炭酸カルシウム、酸化チタン、マイカ、タルク等が挙げられる。
上記難燃剤としては、例えば、ヘキサブロモシクロドデカン、トリス−(2,3−ジクロロプロピル)ホスフェート、ペンタブロモフェニルアリルエーテル等が挙げられる。
上記難燃剤としては、例えば、ヘキサブロモシクロドデカン、トリス−(2,3−ジクロロプロピル)ホスフェート、ペンタブロモフェニルアリルエーテル等が挙げられる。
上記紫外線吸収剤としては、例えば、p−t−ブチルフェニルサリシレート、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2,4,5−トリヒドロキシブチロフェノン等が挙げられる。上記帯電防止剤としては、例えば、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アルキルアミン、アルキルアリルスルホネート、アルキルスルファネート等が挙げられる。
上記無機物としては、例えば、硫酸バリウム、アルミナ、酸化珪素等が挙げられる。
上記高級脂肪酸塩としては、例えば、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸バリウム、パルミチン酸ナトリウム等が挙げられる。
上記無機物としては、例えば、硫酸バリウム、アルミナ、酸化珪素等が挙げられる。
上記高級脂肪酸塩としては、例えば、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸バリウム、パルミチン酸ナトリウム等が挙げられる。
上記極性基を有し、かつ、ハロゲン含有率が5重量%以下である樹脂組成物は、その性質を改質するために、熱可塑性樹脂、ゴム成分を含有してもよい。
上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等が挙げられる。
上記ゴム成分としては、例えば、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体(EPM、EPDM)、ブチルゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム、オレフィン系熱可塑性エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等が挙げられる。
上記ゴム成分としては、例えば、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体(EPM、EPDM)、ブチルゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム、オレフィン系熱可塑性エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
本発明のシートは、アスペクト比の大きい無機化合物を含有することが好ましい。アスペクト比の大きい無機化合物を含有することにより、本発明のシートの高温での離型性を向上させることができ、更に添加剤や低分子量成分の表面へのブリードアウトを抑制して熱プレス成形時のクリーン性を向上させることができる。上記無機化合物としては、例えば、クレイ等の層状ケイ酸塩;ハイドロタルサイト等の層状複水和物等が挙げられる。
本発明のシートは、室温及び高温において優れた物理的性質を有する。
本発明のシートは、23℃での貯蔵弾性率の下限が1000MPa、上限が5000MPaである。1000MPa未満であると、室温での機械強度が低下するため、プレス成形後の引き剥がし工程において強度が不足し、室温でのシート又はフィルムのハンドリング性も低下する。5000MPaを超えると、プレス成形時の凹凸形状への追従性に悪影響を与える。
本発明のシートは、23℃での貯蔵弾性率の下限が1000MPa、上限が5000MPaである。1000MPa未満であると、室温での機械強度が低下するため、プレス成形後の引き剥がし工程において強度が不足し、室温でのシート又はフィルムのハンドリング性も低下する。5000MPaを超えると、プレス成形時の凹凸形状への追従性に悪影響を与える。
本発明のシートは、170℃での貯蔵弾性率の下限が20MPa、上限が100MPaである。20MPa未満であると、熱プレス成形に耐えうる耐熱性を発現することができない。100MPaを超えると、熱プレス成形時に充分に変形しないため、回路パターンやスルーホール等基板上の凹凸形状への追従性が低下し、例えば、フレキシブルプリント基板におけるカバーレイフィルムの回路パターンへの均一な密着性が低下する。好ましい上限は80MPaである。
なお、上記貯蔵弾性率は、粘弾性スペクトロメーターによる動的粘弾性測定により測定することができる。
なお、上記貯蔵弾性率は、粘弾性スペクトロメーターによる動的粘弾性測定により測定することができる。
本発明のシートは、23℃における引裂強度が98N/mm以上である。98N/mm未満であると、離型フィルムとして用いた場合に、プレス成形後の引き剥がし工程において強度が不足し、回路への樹脂付着が発生する場合がある。このような回路への樹脂付着は導電性を著しく損ない、プリント基板全体が不良品となってしまう。
なお上記引裂強度は、JIS K 7128 C法(直角形引裂法)に準拠する方法により測定することができる。
なお上記引裂強度は、JIS K 7128 C法(直角形引裂法)に準拠する方法により測定することができる。
本発明のシートは、170℃における100%伸び荷重の下限が49mN/mm、上限が490mN/mmである。49mN/mm未満であると、離型フィルムとして用いた場合に、熱プレス成形に耐えうる耐熱性を発現することができない。490mN/mmを超えると、熱プレス成形時に充分に変形しないため、回路パターンやスルーホール等基板上の凹凸形状への追従性が低下し、例えば、フレキシブルプリント基板におけるカバーレイフィルムの回路パターンへの均一な密着性が低下する。
なお、上記100%伸び荷重とは、一般的な引張試験においてひずみが100%に達したときの荷重であり、JIS K 7127に準拠した方法により測定することができる。
なお、上記100%伸び荷重とは、一般的な引張試験においてひずみが100%に達したときの荷重であり、JIS K 7127に準拠した方法により測定することができる。
本発明のシートは、170℃、10分間加熱した場合のアウトガス発生量が200ppm以下であることが好ましい。200ppmを超えると、本発明のシートを離型フィルムとして用いた場合、基板や電極を汚染してしまうことがある。
本発明のシートは、ポリイミド及び/又は金属箔と重ね合わせて、170℃において3MPaで60分間加圧されたときに、上記ポリイミド及び/又は金属箔に対して離型性を有することが好ましい。
なお、上記離型性を有するとは、加圧処理後にポリイミド及び/又は金属箔とシート又はフィルムとの間に発生する剥離力が低く、引き剥がし時にポリイミド及び/又は金属箔やシート又はフィルムが破損しないことを意味する。
なお、上記離型性を有するとは、加圧処理後にポリイミド及び/又は金属箔とシート又はフィルムとの間に発生する剥離力が低く、引き剥がし時にポリイミド及び/又は金属箔やシート又はフィルムが破損しないことを意味する。
本発明のシートは、単層構造であってもよく、多層構造であってもよい。多層構造である場合、芳香族ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体と低分子量脂肪族ジオールとを反応させて得られる結晶性芳香族ポリエステルを表層とし、高温での柔軟性に優れかつ上記結晶性芳香族ポリエステルとの界面接着性に優れた樹脂組成物、例えば、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体、ポリエチレン−1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート等の非晶性ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド−ポリテトラメチレングリコール共重合体、又は、スチレン系熱可塑性エラストマーを中間層とすることにより、プレス成形時の離型性を維持しながら柔軟性を付与することができ、離型性と、回路パターンやスルーホール等の基板上の凹凸形状への追従性とのバランスが非常に優れたシート又はフィルムを得ることができる。
本発明のシートが2層構造である場合には、一方の層の170℃における貯蔵弾性率が他方の層の170℃における貯蔵弾性率よりも低いことが好ましい。
また、本発明のシートが3層以上の多層構造である場合には、中間層のうち少なくとも1層の170℃における貯蔵弾性率が表面層の170℃における貯蔵弾性率よりも低いことが好ましい。
このような構造をとることにより、プレス成形時の離型性を維持しながら柔軟性を付与することができ、離型性と回路パターンやスルーホール等の基板上の凹凸形状への追従性とのバランスが非常に優れた離型フィルムとして用いることができる。
また、本発明のシートが3層以上の多層構造である場合には、中間層のうち少なくとも1層の170℃における貯蔵弾性率が表面層の170℃における貯蔵弾性率よりも低いことが好ましい。
このような構造をとることにより、プレス成形時の離型性を維持しながら柔軟性を付与することができ、離型性と回路パターンやスルーホール等の基板上の凹凸形状への追従性とのバランスが非常に優れた離型フィルムとして用いることができる。
また、本発明のシートが2層構造又は3層以上の多層構造を有する場合には、少なくとも一方の表面の層は、極性基を有し、かつ、ハロゲンの含有率が5重量%以下である樹脂組成物が、極性基を主鎖中に有するものであることが好ましく、より好ましくは結晶性芳香族ポリエステルであり、更に好ましくは結晶成分にブチレンテレフタレートを少なくとも含む結晶性芳香族ポリエステルである。少なくとも一方の表面の層が結晶成分にブチレンテレフタレートを少なくとも含む結晶性芳香族ポリエステルからなる場合、該層は、結晶融解熱量が40J/g以上であることが好ましい。
本発明のシートの表面は、平滑性を有することが好ましいが、ハンドリングに必要なスリップ性、アンチブロッキング性等が付与されていてもよく、また、熱プレス成形時の空気抜けを目的として、少なくとも片面に適度のエンボス模様が設けられてもよい。
本発明のシートの厚さの好ましい下限は5μm、上限は300μmである。5μm未満であると、強度が不足することがあり、300μmを超えると、熱プレス成形時の熱伝導率が悪くなることがある。より好ましい下限は10μm、上限は50μmである。
本発明のシート又はフィルムは、溶融成形法により作製することができる。上記溶融成形法としては特に限定されず、例えば、空冷又は水冷インフレーション押出法、Tダイ押出法等の従来公知の熱可塑性樹脂フィルムの成膜方法が挙げられる。
本発明のシートには、耐熱性、離型性、寸法安定性を向上させるために、熱処理が行われてもよい。熱処理温度は本発明のシートを構成する樹脂組成物の融点よりも低い温度であれば高温であるほど効果的であり、170℃以上が好ましく、200℃以上がより好ましい。本発明のシートの耐熱性、離型性、寸法安定性を向上させる他の方法としては、例えば、1軸又は2軸方向に延伸する方法、表面をバフロール等でこする方法等が挙げられる。
本発明のシートが樹脂フィルムの少なくとも片面に積層されてなるシートは、熱プレス成形の際に圧力を均一にかけるためのクッション性や強度を有しており、例えば、フレキシブルプリント基板におけるカバーレイフィルムの回路パターンへの均一な密着性に優れた離型フィルムとして好適である。このような樹脂フィルムの少なくとも片面に、本発明のシートが積層されてなる積層体からなるシート(以下、積層体シートともいう)もまた、本発明の1つである。
上記樹脂フィルムを構成する樹脂組成物としては特に限定されないが、使用後の廃棄の容易さから、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のオレフィン系樹脂からなるものが好ましい。これらは単独で用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。また、本発明のシート又はフィルムとの接着性を向上させるために、酸変性ポリオレフィン、グリシジル変性ポリオレフィン等の変性ポリオレフィン;本発明のシート又はフィルムを構成する樹脂組成物等が樹脂フィルム中に混合されてもよい。
上記樹脂フィルムを構成する樹脂組成物の融点は、プリプレグや熱硬化性接着剤のスルーホールへのしみだしを抑制し、回路パターンへの均一な密着性を得るために、好ましい下限は50℃、上限は130℃である。
上記樹脂フィルムを構成する樹脂組成物の170℃における複素粘性率は、回路パターンへの均一な密着性を得るため、好ましい下限が100Pa・s、上限が10000Pa・sである。
上記樹脂フィルム上に積層される本発明のシートの好ましい厚さの下限は0.5μm、上限は100μmである。0.5μm未満であると、強度が不足しがちである。100μmを超えると、熱伝導率が低下することがあり、コストも高くなる。
本発明の積層体シートの軟化温度は、プリプレグや熱硬化性接着剤のスルーホールへのしみだしを抑制し、回路パターンへの均一な密着性を得るため、好ましい下限は40℃、上限は120℃である。
なお、上記軟化温度の測定はJIS K 7196に準拠して行うことができる。
なお、上記軟化温度の測定はJIS K 7196に準拠して行うことができる。
本発明の積層体シートの厚さの好ましい下限は5μm、上限は300μmである。5μm未満であると、強度が不足しがちであり、300μmを超えると、熱プレス成形時の熱伝導率が悪くなることがある。より好ましい下限は25μm、上限は200μmである。
本発明の積層体シートの製造方法としては、例えば、水冷式又は空冷式共押出インフレーション法、共押出Tダイ法で製膜する方法、本発明のシートに樹脂フィルムを構成する樹脂組成物を押出ラミネーション法にて積層する方法、本発明のシートと樹脂フィルムとをドライラミネーションする方法等が挙げられる。なかでも、共押出Tダイ法で製膜する方法が各層の厚み制御に優れる点から好ましい。
積層体シートを含む本発明のシートは、高温での柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、安全かつ容易に廃棄処理できることから、プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、又は、多層プリント配線板等の製造工程において、プリプレグ又は耐熱フィルムを介して銅張積層板又は銅箔を熱プレスする際に、プレス熱板とプリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、又は、多層プリント配線板等との接着を防ぐ離型フィルムとして好適に用いられる。また、フレキシブルプリント基板の製造工程において、熱プレス成形によりカバーレイフィルムを熱硬化性接着剤で接着する際に、カバーレイフィルムと熱プレス板、又は、カバーレイフィルム同士の接着を防ぐ離型フィルムとしても好適に用いられる。更に、ガラスクロス、炭素繊維、又は、アラミド繊維とエポキシ樹脂とからなるプリプレグをオートクレーブ中で硬化させて製造される釣竿、ゴルフクラブ・シャフト等のスポーツ用品や航空機の部品を製造する際の離型フィルム、ポリウレタンフォーム、セラミックシート、電気絶縁板等を製造する際の離型フィルムとしても有用である。
本発明によれば、高温での柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、かつ、使用後の廃棄が容易なシートを提供することができる。
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。
(実施例1)
(1)シートの作製
樹脂組成物としてペルプレンP450B(東洋紡績社製)を用い、押出機を用いて250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを得た。
(1)シートの作製
樹脂組成物としてペルプレンP450B(東洋紡績社製)を用い、押出機を用いて250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを得た。
(2)樹脂フィルムの作製
低密度ポリエチレン樹脂(日本ポリケム社製:ノバテックLD LE425)を押出機で230℃に加熱して溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して、厚さ100μmの樹脂フィルムを得た。
低密度ポリエチレン樹脂(日本ポリケム社製:ノバテックLD LE425)を押出機で230℃に加熱して溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して、厚さ100μmの樹脂フィルムを得た。
(3)銅張り積層板の作製
厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製:カプトン)をベースフィルムとし、ベースフィルム上に厚さ35μm、幅50μmの銅箔が厚さ20μmのエポキシ系接着剤層で接着された銅張り積層板を得た。
厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製:カプトン)をベースフィルムとし、ベースフィルム上に厚さ35μm、幅50μmの銅箔が厚さ20μmのエポキシ系接着剤層で接着された銅張り積層板を得た。
(4)カバーレイフィルムの作製
厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製:カプトン)上に、流動開始温度80℃のエポキシ系接着剤を厚さ20μmで塗布してカバーレイフィルムを得た。
厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製:カプトン)上に、流動開始温度80℃のエポキシ系接着剤を厚さ20μmで塗布してカバーレイフィルムを得た。
(5)フレキシブルプリント基板の作製
得られたシート、銅張り積層板、カバーレイフィルム、シート、及び、樹脂フィルムをこの順に重ね合わせたものを1セットとして、32セットを熱プレスに載置し、プレス温度170℃、プレス圧3MPa、プレス時間60分間の条件で熱プレス成形した後、プレス圧を開放し、樹脂フィルムを取り除き、シートを引き剥がして、フレキシブルプリント基板を得た。
得られたシート、銅張り積層板、カバーレイフィルム、シート、及び、樹脂フィルムをこの順に重ね合わせたものを1セットとして、32セットを熱プレスに載置し、プレス温度170℃、プレス圧3MPa、プレス時間60分間の条件で熱プレス成形した後、プレス圧を開放し、樹脂フィルムを取り除き、シートを引き剥がして、フレキシブルプリント基板を得た。
得られたフレキシブルプリント基板のカバーレイフィルムは、基板本体と完全に密着しており、空気の残存部分は認められなかった。カバーレイフィルムのない部分の銅箔からなる電極部分からもシートは完全に剥離しており、電極部分は銅箔が完全に露出していた。また、電極部分の銅箔の導電性は充分であり、有機物の付着による汚染も認められなかった。更に、カバーレイフィルムのない部分での銅箔表面への接着剤の流れ出しは、カバーレイフィルム端部より0.1mm以下であり、接着剤の流れ出し防止効果も充分であった。また、部分的に回路の変形は見られたが、実用上問題のない範囲であった。
(実施例2)
樹脂組成物としてペルプレンP150B(東洋紡績社製)を用いて押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
樹脂組成物としてペルプレンP150B(東洋紡績社製)を用いて押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(参考例1)
樹脂組成物としてぺバックス6312(東レ社製)を用いて押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
樹脂組成物としてぺバックス6312(東レ社製)を用いて押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(実施例4)
樹脂組成物としてノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)70重量部とペルプレンP90B(東洋紡績社製)30重量部とを混合したものを用い、押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
樹脂組成物としてノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)70重量部とペルプレンP90B(東洋紡績社製)30重量部とを混合したものを用い、押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(実施例5)
樹脂組成物としてノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)70重量部とペルプレンP30B(東洋紡績社製)30重量部とを混合したものを用い、押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
樹脂組成物としてノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)70重量部とペルプレンP30B(東洋紡績社製)30重量部とを混合したものを用い、押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(参考例2)
3層共押出機を用いて、ノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)からなる厚さ10μmの層と、ペルプレンP90B(東洋紡績社製)からなる厚さ30μmの層と、ノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)からなる厚さ10μmの層とがこの順に重なった3層構造のシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
3層共押出機を用いて、ノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)からなる厚さ10μmの層と、ペルプレンP90B(東洋紡績社製)からなる厚さ30μmの層と、ノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)からなる厚さ10μmの層とがこの順に重なった3層構造のシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(参考例3)
シーラーPT7001(デュポン社製)からなる厚さ12.5μmの延伸フィルムと、ペルプレンP90B(東洋紡績社製)からなる厚さ25μmのフィルムと、シーラーPT7001(デュポン社製)からなる厚さ12.5μmの延伸フィルムとをこの順に重ねて温度200℃の熱ラミネートにより3層構造のシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
シーラーPT7001(デュポン社製)からなる厚さ12.5μmの延伸フィルムと、ペルプレンP90B(東洋紡績社製)からなる厚さ25μmのフィルムと、シーラーPT7001(デュポン社製)からなる厚さ12.5μmの延伸フィルムとをこの順に重ねて温度200℃の熱ラミネートにより3層構造のシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(実施例8)
樹脂組成物としてペルプレンP150B(東洋紡績社製)を用いて押出機で230℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ25μmのシートを作製した。得られたシートを実施例1(2)で作製した樹脂フィルムに重ねて180℃の熱プレスにて熱ラミネートすることにより積層体シートを作製した。得られた積層体シートを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
樹脂組成物としてペルプレンP150B(東洋紡績社製)を用いて押出機で230℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ25μmのシートを作製した。得られたシートを実施例1(2)で作製した樹脂フィルムに重ねて180℃の熱プレスにて熱ラミネートすることにより積層体シートを作製した。得られた積層体シートを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(参考例4)
3層共押出機を用いて、ノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)からなる厚さ10μmの層と、ペルプレンP90B(東洋紡績社製)からなる厚さ30μmの層と、ノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)からなる厚さ10μmの層とがこの順に重なった3層構造のシートを作製した。得られたシートを実施例1(2)で作製した樹脂フィルムに重ねて180℃の熱プレスにて熱ラミネートすることにより積層体シートを作製した。得られた積層体シートを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
3層共押出機を用いて、ノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)からなる厚さ10μmの層と、ペルプレンP90B(東洋紡績社製)からなる厚さ30μmの層と、ノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)からなる厚さ10μmの層とがこの順に重なった3層構造のシートを作製した。得られたシートを実施例1(2)で作製した樹脂フィルムに重ねて180℃の熱プレスにて熱ラミネートすることにより積層体シートを作製した。得られた積層体シートを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(比較例1)
樹脂組成物としてハイトレル4275JB(東レ・デュポン社製)を用い、押出機で230℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
樹脂組成物としてハイトレル4275JB(東レ・デュポン社製)を用い、押出機で230℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(比較例2)
樹脂組成物としてシーラーPT7001(デュポン社製)を用い、押出機で290℃で溶融可塑化し、Tダイスにより押出成形した後、これを2倍に縦延伸し、230℃でアニールすることにより50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
樹脂組成物としてシーラーPT7001(デュポン社製)を用い、押出機で290℃で溶融可塑化し、Tダイスにより押出成形した後、これを2倍に縦延伸し、230℃でアニールすることにより50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(比較例3)
樹脂組成物としてノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)を用い、押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
樹脂組成物としてノバデュラン5040ZS(三菱エンジニアリングプラスチックス社製)を用い、押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(比較例4)
樹脂組成物としてノバテックPP FB3GT(日本ポリケム社製)を用い、押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
樹脂組成物としてノバテックPP FB3GT(日本ポリケム社製)を用い、押出機で250℃で溶融可塑化し、Tダイスより押出成形して厚さ50μmのシートを作製し、これを用いた以外は実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
(比較例5)
シートとして、厚み50μmのポリメチルペンテンからなるオピュランX−88B(三井化学製)を用いたこと以外、実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
シートとして、厚み50μmのポリメチルペンテンからなるオピュランX−88B(三井化学製)を用いたこと以外、実施例1と同様の方法によりフレキシブルプリント基板の作製を行った。
実施例1、2、4、5、8、参考例1〜4及び比較例1〜5で作製したシート及び積層体シートについて、下記の方法により結晶融解熱量、貯蔵弾性率、引裂強度、100%伸び荷重及びアウトガス発生量を測定した。
また、これらのシートを用いたフレキシブルプリント基板の作製において、シートのハンドリング性、剥離性、密着性と、作製後のフレキシブルプリント基板の電極汚染、回路変形を目視により評価した。
これらの結果及び各シートの原料及び構成を表1〜5に示した。
また、これらのシートを用いたフレキシブルプリント基板の作製において、シートのハンドリング性、剥離性、密着性と、作製後のフレキシブルプリント基板の電極汚染、回路変形を目視により評価した。
これらの結果及び各シートの原料及び構成を表1〜5に示した。
(結晶融解熱量の測定)
示差走査熱量計(TAインスツルメント製DSC 2920)を用い、昇温速度5℃毎分で測定を行った。
示差走査熱量計(TAインスツルメント製DSC 2920)を用い、昇温速度5℃毎分で測定を行った。
(貯蔵弾性率の測定)
粘弾性スペクトロメーター(レオメトリックサイエンティフィックエフイー社製、RSA−11)を用い、昇温速度5℃/分、周波数10Hz、ひずみ0.05%で測定を行い、23℃及び170℃における貯蔵弾性率を測定した。
粘弾性スペクトロメーター(レオメトリックサイエンティフィックエフイー社製、RSA−11)を用い、昇温速度5℃/分、周波数10Hz、ひずみ0.05%で測定を行い、23℃及び170℃における貯蔵弾性率を測定した。
(引裂強度の測定)
JIS K 7128 C法に準拠し、直角形引裂試験打ち抜き片について、23℃、試験速度500mm毎分で測定を行った。
JIS K 7128 C法に準拠し、直角形引裂試験打ち抜き片について、23℃、試験速度500mm毎分で測定を行った。
(100%伸び荷重の測定)
JIS K 7127に準拠し、2号型の打ち抜き試験片をについて、170℃、試験速度500mm毎分で測定を行った。
JIS K 7127に準拠し、2号型の打ち抜き試験片をについて、170℃、試験速度500mm毎分で測定を行った。
(アウトガス発生量の測定)
熱脱着GC−MSを用い、170℃、10分間の加熱でフィルムから発生するガスを無極性キャピラリーカラムを用いて分離し、検出されたピーク総面積のトルエン換算量をフィルム重量で規格化し、これをアウトガス発生量とした。
熱脱着GC−MSを用い、170℃、10分間の加熱でフィルムから発生するガスを無極性キャピラリーカラムを用いて分離し、検出されたピーク総面積のトルエン換算量をフィルム重量で規格化し、これをアウトガス発生量とした。
本発明によれば、高温での柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、かつ、使用後の廃棄が容易なシートを提供できる。
Claims (4)
- 柔軟性、耐熱性、離型性、非汚染性に優れ、かつ、使用後の廃棄が容易な1層構造のシートであって、
結晶成分としてブチレンテレフタレート成分を含む結晶性芳香族ポリエステルと、ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルとの混合樹脂からなり、結晶融解熱量が40J/g以上であり、
ポリエーテル骨格を主鎖中に有するポリエステルは、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体である
ことを特徴とするシート。 - プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板又は多層プリント配線板の製造工程において、プリプレグ又は耐熱フィルムを介して銅張積層板又は銅箔を熱プレス成形する際に、プレス熱板とプリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板又は多層プリント配線板との接着を防ぐ離型フィルムであることを特徴とする請求項1記載のシート。
- フレキシブルプリント基板の製造工程において、熱プレス成形によりカバーレイフィルムを熱硬化性接着剤で接着する際に、カバーレイフィルムと熱プレス板、又はカバーレイフィルム同士の接着を防ぐ離型フィルムであることを特徴とする請求項1記載のシート。
- 樹脂フィルムの少なくとも片面に、請求項1記載のシートが積層された積層体であることを特徴とする積層体シート。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60259442A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-21 | ダイソー株式会社 | ゴム積層体の製造方法 |
JPH02286504A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-11-26 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | コンベアベルト |
JPH02286505A (ja) * | 1989-04-27 | 1990-11-26 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | コンベアベルト |
JPH04264790A (ja) * | 1991-02-19 | 1992-09-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | フレキシブルプリント回路基板およびその製造方法 |
JPH106411A (ja) * | 1996-06-19 | 1998-01-13 | Mitsubishi Chem Corp | 導電性シームレスベルト |
-
2010
- 2010-10-20 JP JP2010235400A patent/JP2011032486A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60259442A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-21 | ダイソー株式会社 | ゴム積層体の製造方法 |
JPH02286504A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-11-26 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | コンベアベルト |
JPH02286505A (ja) * | 1989-04-27 | 1990-11-26 | Shin Kobe Electric Mach Co Ltd | コンベアベルト |
JPH04264790A (ja) * | 1991-02-19 | 1992-09-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | フレキシブルプリント回路基板およびその製造方法 |
JPH106411A (ja) * | 1996-06-19 | 1998-01-13 | Mitsubishi Chem Corp | 導電性シームレスベルト |
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