JP2011029449A - コンデンサ用電極体およびその製造方法、ならびにコンデンサ - Google Patents
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Abstract
【課題】コンデンサのさらなる低ESR化を図る。
【解決手段】コンデンサ用の陽極体2は、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる陽極用基材4と、陽極用基材4上に設けられた多孔質層6とを含む。多孔質層6は、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる金属粒子が多数結合してなる二次粒子18からなる。陽極用基材4の表面には、微細凹凸が形成されている。具体的には、陽極用基材4の表面複数の溝20が併設されている。溝20において、多孔質層6と陽極用基材4との間に空隙が存在している。この空隙は後述する導電性高分子層14によって充填されている。
【選択図】図1
【解決手段】コンデンサ用の陽極体2は、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる陽極用基材4と、陽極用基材4上に設けられた多孔質層6とを含む。多孔質層6は、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる金属粒子が多数結合してなる二次粒子18からなる。陽極用基材4の表面には、微細凹凸が形成されている。具体的には、陽極用基材4の表面複数の溝20が併設されている。溝20において、多孔質層6と陽極用基材4との間に空隙が存在している。この空隙は後述する導電性高分子層14によって充填されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、コンデンサ用電極体およびその製造方法、ならびにコンデンサに関する。
パソコン、携帯電話等に代表される電子機器の小型化、動作周波数の高周波化に伴い、これらの電子機器に搭載されるコンデンサには、小型大容量化、低ESR(等価直列抵抗)化の要求がますます高くなっている。このような要求に対応することができるコンデンサとして導電性高分子を固体電解質として用いる固体電解コンデンサが開発されている。
一般に、体積当たりの静電容量が大きなコンデンサとして、整流作用を有する陽極酸化が可能なアルミニウム(Al)、タンタル(Ta)、ニオブ(Nb)、チタン(Ti)等の弁作用金属の粉末を加圧成形し焼成して得られた多孔質ペレットを陽極体とし、この陽極体の表面にこれらの金属酸化物からなる誘電体層を形成した固体電解コンデンサが知られている(例えば、特許文献1参照)。このような陽極体では、使用される粉末にサブミクロンレベルの粉末を利用することにより、表面積の非常に大きな陽極体が得られ、これによりコンデンサの大容量化を図ることができる。
陽極体の表面積を増加させるため、陽極体の形成に用いられる弁作用金属の粉末の粒径は小さくなる傾向にある。弁作用金属の粉末の粒径が小さくなるにつれて、弁作用金属の粉末の成形、焼成後において陽極体が存在しない隙間が減少する。特に、陽極体が堆積形成される陽極用基材と陽極体との間において隙間が減少すると、陽極用基材の表面近傍に陰極体が形成されにくくなるため、低ESR化を阻む要因となっていた。
本発明はこうした課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、コンデンサのさらなる低ESR化を図ることができる技術の提供にある。
本発明のある態様は、コンデンサ用電極体である。当該コンデンサ用電極体は、表面に凹凸が形成された、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる基材と、基材の表面上に設けられ、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる多孔質層と、を備え、基材の表面の凹部において多孔質層と基材との間に空隙が形成されていることを特徴とする。
この態様によれば、コンデンサのさらなる低ESR化が可能なコンデンサ用電極体を得ることができる。
本発明の他の態様は、コンデンサ用電極体の製造方法である。当該製造方法は、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる基材の表面に凹凸を形成する工程と、基材に、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる金属粒塊で構成される多孔質層を設けて電極体を形成する電極体形成工程と、を備え、前記基材の表面の凹部において前記多孔質層と前記基材との間に空隙が形成されることを特徴とする。
本発明によれば、コンデンサのさらなる低ESR化を図ることができる。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
(実施の形態1)
図1は、実施の形態1に係るコンデンサの構成を示す概略断面図である。本実施の形態に係るコンデンサ1は、陽極体2と、陽極体2の表面に形成された誘電体層10と、誘電体層10を挟んで陽極体2と反対側に形成された陰極体12とを備える。
図1は、実施の形態1に係るコンデンサの構成を示す概略断面図である。本実施の形態に係るコンデンサ1は、陽極体2と、陽極体2の表面に形成された誘電体層10と、誘電体層10を挟んで陽極体2と反対側に形成された陰極体12とを備える。
陽極体2は、弁作用金属(valve metal)およびその合金の少なくとも一方からなる陽極用基材4(本発明の基材に相当)と、陽極用基材4上に設けられた多孔質層6とを含む。多孔質層6は、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる金属粒子(一次粒子)8の2次粒子18が多数結合してなる金属粒塊からなり、2次粒子18間には複数の隙間9が形成されている。2次粒子18は、直径約50nm〜10μmの金属粒子8(図2参照)が複数個集合して形成された直径約10μm〜100μmの多孔質の集合体である。陽極用基材4には、薄膜(箔)やリード線が含まれ、また複数の金属粒子8が結合して膜状構造となったものも含まれる。また、陽極用基材4には、外部引き出し用の陽極端子(図示せず)が連結されている。陽極用基材4の厚さは、陽極用基材4が金属の薄膜であった場合、例えば約100μmである。また、多孔質層6の厚さは、たとえば約500μmである。
ここで、弁作用金属とは、電解化成処理(陽極酸化)等により極めて緻密で耐久性を有する誘電体酸化皮膜を表面に形成し得る金属をいう。弁作用金属としては、タンタル(Ta)、ニオブ(Nb)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)等が挙げられる。また、弁作用金属の合金としては、上述の弁作用金属同士の合金や、上述の弁作用金属と他の金属との合金等が挙げられる。本実施形態では、陽極用基材4および金属粒子8を構成する金属としてTaを用いた。なお、陽極用基材4および金属粒子8は、異なる金属で構成されていてもよい。
陽極用基材4の表面には、微細凹凸が形成されている。具体的には、陽極用基材4の表面に複数の溝20が併設されている。溝20において、多孔質層6と陽極用基材4との間に空隙が存在している。この空隙側に面する陽極用基材4の表面は後述する誘電体層10および導電性高分子層14によって覆われている。溝20に空隙を形成するという観点から、溝20の幅は1〜50μmの範囲が好ましい。したがって、2次粒子18は溝20に入り込みにくくなるため、溝20において、多孔質層6と陽極用基材4との間に空隙をより確実に形成することができる。また、溝20の深さは1〜10μmの範囲が好ましい。
誘電体層10は、陽極体2の表面に形成された酸化被膜であり、たとえば電解化成処理により形成される。誘電体層10は、陽極用基材4および多孔質層6の露出している表面、すなわち、金属粒子8同士、または金属粒子8と陽極用基材4とが接する領域以外の領域に形成されている。したがって、陽極用基材4の表面に形成された溝20の内面は誘電体層10に被覆されている。
陰極体12は、導電性高分子層14と、導電性高分子層14上に積層された陰極用基材16とを含む。導電性高分子層14は、電解質層として機能する。導電性高分子層14としては、導電性を有する高分子材料を含むものであれば特に限定されないが、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性ポリマーや、TCNQ(7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン)錯塩等の材料を含むものが好適に用いられる。陰極用基材16は、たとえば導電性高分子層14上に積層されたカーボンペースト層16aと、カーボンペースト層16a上に積層された銀ペースト層16bからなる。陰極用基材16には、外部引き出し用の陰極端子(図示せず)が連結されている。
(コンデンサ用電極体およびコンデンサの製造工程)
続いて、実施の形態1に係るコンデンサ1の製造方法について図2および図3を参照して説明する。図2(A)乃至(D)および図3(A)乃至(C)は、実施の形態1に係るコンデンサの製造方法を示す工程断面図である。
続いて、実施の形態1に係るコンデンサ1の製造方法について図2および図3を参照して説明する。図2(A)乃至(D)および図3(A)乃至(C)は、実施の形態1に係るコンデンサの製造方法を示す工程断面図である。
まず、図2(A)に示すように、弁作用金属であるタンタル箔からなる陽極用基材4を準備する。
次に、図2(B)に示すように、ブレード加工などの機械加工、またはレーザ加工により陽極用基材4の表面を削ることにより、複数の溝20を形成する。これにより、溝20の表面に微細凹凸が形成される。溝20の幅は、上述したように1〜50μmの範囲が好ましい。
次に、図2(C)に示すように、陽極用基材4の表面に、Taからなる金属粒子8が複数個集合した2次粒子18を吹き付ける。2次粒子18の内部には、各金属粒子8間に約0.01μm〜1μmの大きさの隙間19が形成されている。この隙間19は、金属粒子8同士が接触することにより、金属粒子8の形状や大きさに依存して生じたものである。本実施の形態では、コールドスプレー法により、2次粒子18を陽極用基材4に吹き付ける。コールドスプレー法とは、材料粒子あるいは材料粉末を所定の高温・高速の流れにして被覆対象物の表面に吹き付けて、被覆対象物の表面に材料粒子を堆積させて、被覆対象物をコーティングする加工法である。
コールドスプレー法は、吹き付ける際の材料粒子の温度が材料粒子の融点および軟化点以下の低い温度であることと、流れの速度が音速から超音速と非常に高速であるという特徴を有する。そのため、コールドスプレー法を用いた場合には、陽極用基材4と2次粒子18との間、および2次粒子18同士間で高い密着強度を有する多孔質層6を形成することができる。そして、これにより単位体積当たりの表面積を増やすことができ、従来の固体電解コンデンサの構造と同じ厚さであれば大容量化が可能であり、同じ容量を得ようとするならば低背化が可能である。さらに、コールドスプレー法では、材料粒子が固体の状態のまま溶けることなく皮膜になるため、酸化や熱による変質が少ない。
図4は、コールドスプレー装置の概略図である。コールドスプレー装置100は、基材把持部101と、ノズル102と、材料供給部104と、ガス供給部106と、ヒータ108とを備える。
基材把持部101は、陽極用基材4を把持する部材であり、基材把持部101が陽極用基材4を把持した状態で、陽極用基材4を加熱しながらノズル102に対して相対移動させることができる。材料供給部104は、ノズル102に2次粒子18を供給し、ガス供給部106は、加圧された気体をノズル102に供給する。ガス供給部106からノズル102に向けて送り出された気体は、ヒータ108にて加熱されてノズル102に送られる。ノズル102に供給された2次粒子18は、ガス供給部106から供給された気体の圧力によりノズル102から噴射される。なお、基材把持部101に対して、ノズル102を相対移動させる構成であってもよい。
図2(C)に戻り、ノズル102から噴射された2次粒子18は、基材把持部101(図4参照)に載置された陽極用基材4に吹き付けられる。2次粒子18を構成する金属粒子8は、陽極用基材4に衝突すると陽極用基材4の表面に結合する。そして、基材把持部101が陽極用基材4をノズル102に対して相対移動させ、これにより陽極用基材4の所定領域全面に2次粒子18が吹き付けられる。
このとき、2次粒子18は、陽極用基材4の表面に設けられた溝20に入り込みにくいため、溝20に空隙が形成される。
図2(D)に示すように、2次粒子18の吹き付けにより、多孔質層6が陽極用基材4の表面に形成される。多孔質層6は、2次粒子18が網目状に結合した構造を有しており、2次粒子18間には隙間9が形成されている。多孔質層6の厚さは、たとえば約500μmである。隙間9は、2次粒子18同士が接触することにより、2次粒子の形状や大きさに依存して生じたものであり、その大きさは約0.01μm〜約1μmである。上述したように、2次粒子18は溝20に入り込みにくいため、溝20において、多孔質層6と陽極用基材4との間に空隙30が形成される。
次に、図3(A)に示すように、陽極体2の表面を酸化して誘電体層10を形成する。陽極用基材4および金属粒子8はTaからなるため、誘電体層10は、酸化タンタル(Ta2O5)からなる酸化皮膜である。本実施の形態では、陽極体2を電解化成処理して誘電体層10を形成する。具体的には、陽極体2を0.01〜1.0質量%のリン酸水溶液の電解液中において定電圧で陽極酸化し、その表面に酸化タンタルからなる酸化皮膜を形成することによって、陽極用基材4の露出する表面および金属粒塊の表面に誘電体層10を形成する。したがって、溝20の内面も誘電体層10によって被覆される。
次に、図3(B)に示すように、誘電体層10上に、誘電体層10の表面を覆うように、すなわち陽極体2の多孔質部分の隙間9、隙間19および溝20における空隙30を埋めるようにして、化学酸化重合により導電性高分子層14を形成する。具体的には、3,4−エチレンジオキシチオフェン、P−トルエンスルホン酸鉄(III)、1−ブタノールからなる化学重合液に陽極体2を浸漬した後、大気中で熱処理し、誘電体層10上にポリチオフェン層を形成することによって、導電性高分子層14を形成する。化学重合液による陽極体2の浸漬、熱処理工程は複数回繰り返して行われる。導電性高分子層14としては、ポリチオフェン層以外に、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子からなる層やTCNQ錯塩からなる層等が挙げられる。また、導電性高分子層14は、酸化剤である硫酸0.1モル/リットルに20分間浸漬させた後、30℃の気化した導電性高分子のピロールに50分間晒すことにより重合して形成してもよいし、上述した方法を組み合わせて形成してもよい。
次に、図3(C)に示すように、導電性高分子層14上に、カーボンペースト層16aと、銀ペースト層16bとがこの順に積層されて陰極用基材16が形成される。これにより、導電性高分子層14と陰極用基材16とを含む陰極体12が形成される。そして、陽極用基材4に陽極端子(図示せず)がたとえば導電性接着剤を介して連結され、陰極用基材16に陰極端子(図示せず)がたとえば導電性接着剤を介して連結される。
以上の工程により、実施の形態1に係るコンデンサ1を製造することができる。
以上説明した構成による作用効果を総括すると、実施の形態1に係るコンデンサ用電極体およびコンデンサの製造方法では、陽極用基材4にコールドスプレー法により2次粒子18を吹き付けて、多孔質の陽極体2を形成している。そのため、陽極体の単位体積当たりの表面積を増大させることができ、コンデンサの大容量化が可能となる。
さらに、溝20において多孔質層6と陽極用基材4との間に空隙30が形成されており、この空隙30側に面する陽極用基材4の表面は、誘電体層10および導電性高分子層14で覆われている。これにより、陽極用基材4の表面近傍と陰極用基材16との間における導電経路がより密に形成されるため、コンデンサの低ESR化を図ることができる。
また、本実施の形態に係るコンデンサの製造方法では、機械加工またはレーザ加工により陽極用基材4の表面に溝20が一様に形成されているため、陽極用基材4の全面においてばらつきなく低ESR化を図ることができる。
(実施の形態2)
図5は、実施の形態2に係るコンデンサの構成を示す概略断面図である。本実施の形態に係るコンデンサ1は、陽極用基材4の表面に形成された微細凹凸の形態が異なる以外は、実施の形態1と同様な構成を備える。
図5は、実施の形態2に係るコンデンサの構成を示す概略断面図である。本実施の形態に係るコンデンサ1は、陽極用基材4の表面に形成された微細凹凸の形態が異なる以外は、実施の形態1と同様な構成を備える。
本実施の形態では、微細凹凸の凸部は針状であり、陽極用基材4の表面に複数の細孔22が形成されている。細孔22の径は好ましくは0.01〜50μmである。細孔22には2次粒子18が入り込みにくくなっており、細孔22において、陽極用基材4と多孔質層6との間には空隙が形成されている。この空隙側に面する陽極用基材4の表面には誘電体層10が形成されており、誘電体層10の表面を覆うように導電性高分子層14が形成されている。
陽極用基材4の表面に細孔22を形成する手段としては、直流エッチングが挙げられる。直流エッチング用のエッチング液は、一般的に用いられるものであればよい。直流エッチングにおけるエッチング時間、印加電圧等の条件を調節することにより、上述した範囲の細孔22を形成することが可能である。
(実施の形態3)
図6は、実施の形態3に係るコンデンサの構成を示す概略断面図である。本実施の形態に係るコンデンサ1は、陽極用基材4の表面に形成された微細凹凸の形態が異なる以外は、実施の形態1と同様な構成を備える。
図6は、実施の形態3に係るコンデンサの構成を示す概略断面図である。本実施の形態に係るコンデンサ1は、陽極用基材4の表面に形成された微細凹凸の形態が異なる以外は、実施の形態1と同様な構成を備える。
本実施の形態では、陽極用基材4の表面が海綿状の多孔質面24となっている。海綿状の多孔質面24の細孔には、2次粒子18が入り込みにくくなっており、この細孔において陽極用基材4と多孔質層6との間に空隙が形成されている。この空隙側に面する陽極用基材4の表面には誘電体層10が形成されており、誘電体層10の表面を覆うように導電性高分子層14が形成されている。
陽極用基材4の表面に海綿状の多孔質面24を形成する手段としては、交流エッチングが挙げられる。交流エッチング用のエッチング液は、一般的に用いられるものであればよい。交流エッチングにおけるエッチング時間、印加電圧、交流の周波数等の条件を調節することにより、海綿状の多孔質面24を形成することが可能である。
(実施の形態4)
図7は、実施の形態4に係るコンデンサの構成を示す概略断面図である。本実施の形態に係るコンデンサ1は、陽極用基材4の表面に形成された微細凹凸の形態が異なる以外は、実施の形態1と同様な構成を備える。
図7は、実施の形態4に係るコンデンサの構成を示す概略断面図である。本実施の形態に係るコンデンサ1は、陽極用基材4の表面に形成された微細凹凸の形態が異なる以外は、実施の形態1と同様な構成を備える。
本実施の形態では、陽極用基材4の表面に微小突起40を形成することにより微細凹凸が得られている。隣接する微小突起40の間が凹部21となっている。凹部21の幅、深さは、それぞれ1〜50μm、1〜10μmの範囲が好ましい。この凹部21には2次粒子18が入り込みにくくなっており、凹部21において陽極用基材4と多孔質層6との間には空隙が形成されている。この空隙側に面する陽極用基材4の表面には誘電体層10が形成されており、誘電体層10の表面を覆うように導電性高分子層14が形成されている。
陽極用基材4の表面に微小突起40を形成する手段としては、スパッタ法、CVD法などの成膜手段が挙げられる。微小突起40に用いられる材料は、陽極用基材4と同じでもよいが、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方であれば、陽極用基材4と異なっていてもよい。
以上説明した実施の形態2乃至4に係るコンデンサにおいては、実施の形態1と同様に、陽極用基材4の表面に設けられた凹部において多孔質層6と陽極用基材4との間に空隙が形成されており、この空隙側に面する陽極用基材4の表面には誘電体層10が形成されており、誘電体層10の表面を覆うように導電性高分子層14が形成されている。これにより、陽極用基材4の表面近傍と陰極用基材16との間における導電性高分子層14による導電経路がより密に形成されるため、コンデンサの低ESR化を図ることができる。
1 コンデンサ、2 陽極体、4 陽極用基材、10 誘電体層、12 陰極体、14 導電性高分子層、16 陰極用基材、16a カーボンペースト層、16b 銀ペースト層、18 2次粒子、20 溝、21 凹部、22 細孔、24 多孔質面、30 空隙、40 微小突起、100 コールドスプレー装置、101 基材把持部、102 ノズル、104 材料供給部、106 ガス供給部、108 ヒータ
Claims (10)
- 表面に凹凸が形成された、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる基材と、
前記基材の表面上に設けられ、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる多孔質層と、を備え、
前記基材の表面の凹部において前記多孔質層と前記基材との間に空隙が形成されていることを特徴とするコンデンサ用電極体。 - 前記凹部は溝状である請求項1に記載のコンデンサ用電極体。
- 溝の幅が1〜50μmである請求項2に記載のコンデンサ用電極体。
- 前記凹凸は多孔質状である請求項1に記載のコンデンサ用電極体。
- 孔の径が0.01〜50μmである請求項4に記載のコンデンサ用電極体。
- 請求項1乃至5のいずれか1項に記載のコンデンサ用電極体からなる陽極体と、
前記陽極体の表面に形成された誘電体層と、
前記誘電体層の表面を覆うように形成された陰極体と、
を備え、
前記凹部において、前記空隙側に面する前記陽極体の表面は、前記誘電体層および前記陰極体に覆われていることを特徴とするコンデンサ。 - 弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる基材の表面に凹凸を形成する工程と、
前記基材に、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる金属粒塊で構成される多孔質層を設けて電極体を形成する電極体形成工程と、
を備え、
前記基材の表面の凹部において前記多孔質層と前記基材との間に空隙が形成されることを特徴とするコンデンサ用電極体の製造方法。 - 前記凹凸を形成する工程は、直流エッチングまたは交流エッチングである請求項7に記載のコンデンサ用電極体の製造方法。
- 前記凹凸を形成する工程は、前記基材の表面に溝を形成する機械加工である請求項7に記載のコンデンサ用電極体の製造方法。
- 前記凹凸を形成する工程は、前記基材の表面に弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる導電材料を成膜する工程である請求項7に記載のコンデンサ用電極体の製造方法。
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